專利名稱：Fe-Ni系蔭罩用材料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及作為彩色電視布勞恩管(陰極射線顯象管)等的材料所用的由Fe-Ni-Co合金構(gòu)成的Fe-Ni系蔭罩用材料，例如，提出了一種在用氯化鐵溶液作為主成分的蝕刻液等作光蝕刻時(shí)，不發(fā)生條痕和斑點(diǎn)(以下稱作“條痕等”)的、低熱膨脹的Fe-Ni系蔭罩用材料。
背景技術(shù)：
迄今為止，使用低碳鋁鎮(zhèn)靜鋼(脫氧鋼)鋼板作為蔭罩材料。這種鋼板是經(jīng)以下工藝制造的用連續(xù)退火或分批退火爐對(duì)中間冷軋后的鋼板施加適宜的消除應(yīng)力中間退火、如必要實(shí)施清除表面缺陷、然后進(jìn)行精加工冷軋和調(diào)質(zhì)軋制(包括無光軋制)。
對(duì)此，近年來，低熱膨脹型Fe-Ni合金板作為高等級(jí)彩色電視布勞恩管和顯示器用材料受到廣泛關(guān)注。這種Fe-Ni合金板是作為取代在其以前用作蔭罩材料的低碳鋁鎮(zhèn)靜鋼鋼板而被開發(fā)的。這樣的Fe-Ni合金被關(guān)注的理由是，與上述低碳鋁鎮(zhèn)靜鋼鋼板比較，其在防止色差方面是優(yōu)良的，特別是在顯示器或大型電視等用途中，它已成為不可缺少的材料之一。
然而，這種Fe-Ni合金在光蝕刻性方面留下了課題，即，據(jù)指出，F(xiàn)e-Ni合金與鋁鎮(zhèn)靜鋼比較，光蝕刻時(shí)的穿孔形狀差，而且容易發(fā)生被稱之為條痕的缺陷。特別是已經(jīng)知道，這種被稱之為條痕的缺陷，使得在彩色布勞恩管映象的白色部分發(fā)生條狀的反差斑紋，從而使顯示器的等級(jí)顯著降低。作為發(fā)生條痕的原因，據(jù)認(rèn)為是非金屬夾雜物的存在和Ni偏析造成的影響。因此，為減輕條痕，消除這些原因是有效的。但是，即使全部消除了這些原因，仍然還留有不能解除的條痕，因此本發(fā)明人認(rèn)為除此之外還有別的重要原因，并進(jìn)行了研究。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于，查明蝕刻不合格引起的條痕和斑點(diǎn)(整體斑痕)的真正原因，提供一種不發(fā)生這些缺陷的Fe-Ni系蔭罩用材料。
本發(fā)明的另一目的在于，提供一種蝕刻穿孔性良好、在該穿孔時(shí)孔形狀美觀的、由Fe-Ni合金或Fe-Ni-Co合金構(gòu)成的Fe-Ni系蔭罩用材料。
本發(fā)明的又一目的在于，廉價(jià)并且可靠地提供一種映象美觀的彩色布勞恩管和顯示器用的材料。
本發(fā)明人對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)中作為欲解決課題的上述條痕等問題進(jìn)行了反復(fù)銳意研究，結(jié)果得到以下見解。也就是說，確信在蔭罩用材料上發(fā)生的條痕等，是由于蝕刻面內(nèi)各個(gè)晶粒的取向混亂造成的。而且還確信，這種取向混亂的原因是Ni或Mn等的偏析、非金屬夾雜物及退火過程中發(fā)生的粗大晶粒的復(fù)合晶粒組織的殘留、特定織構(gòu)(texture)的存在等，并因這些要素相互約束而發(fā)生。進(jìn)而得出這樣的結(jié)論由于這種晶粒的取向依賴于各個(gè)晶粒具有的晶體取向，所以要防止上述條痕等的發(fā)生，無論如何也必須控制織構(gòu)。
另外，本發(fā)明人還認(rèn)識(shí)到為使蝕刻穿孔性優(yōu)良、穿孔后的孔形狀良好，控制制品斷面的純凈度和表面粗糙度，也控制夾雜物都是不可缺少的，從而得到了在控制各種成分的偏析和織構(gòu)的同時(shí)，也必須一并控制斷面純凈度、表面粗糙度和夾雜物的結(jié)論。
另外還發(fā)現(xiàn)，若控制板厚方向上的Ni和Mn等的偏析分布，則能夠穩(wěn)定地減輕條痕，從而完成了本發(fā)明。
本發(fā)明就是在這樣的見解之下開發(fā)的涉及下列要點(diǎn)構(gòu)成的材料。
(1)本發(fā)明是一種Fe-Ni系蔭罩用材料，其特征在于，是含Ni34～38重量％的鐵-鎳合金的蔭罩用材料，具有(111)極圖中的立方體取向(100)<001>與其孿晶取向(221)<212>的X射線強(qiáng)度比Ir處于0.5～5∶1的范圍內(nèi)的織構(gòu)，而且據(jù)JIS G 0555的規(guī)定得到的斷面純凈度為0.05％以下。
(2)本發(fā)明是一種Fe-Ni系蔭罩用材料，其特征在于，是具有含C0.1重量％以下、Si0.5重量％以下、Mn1.0重量％以下、Ni34～38重量％，而且其余實(shí)質(zhì)上由Fe組成這樣的成分組成的鐵-鎳合金的蔭罩用材料，具有(111)極圖中的立方體取向(100)<001>與其孿晶取向(221)<212>的X射線強(qiáng)度比Ir處于0.5～5∶1的范圍內(nèi)的織構(gòu)，而且據(jù)JIS G 0555的規(guī)定得到的斷面純凈度為0.05％以下。
(3)本發(fā)明是一種Fe-Ni-Co系蔭罩用材料，其特征在于，是具有含Ni23～38重量％、Co10重量％以下，而且其余實(shí)質(zhì)上由Fe組成這樣的成分組成的鐵-鎳-鈷合金的蔭罩用材料，具有(111)極圖中的立方體取向(100)<001>與其孿晶取向(221)<212>的X射線強(qiáng)度比Ir處于0.5～5∶1的范圍內(nèi)的織構(gòu)，而且據(jù)JIS G 0555的規(guī)定得到的斷面純凈度為0.05％以下。
此外，在本發(fā)明的上述各材料中，上述X射線強(qiáng)度比(X射線讀數(shù)比)如上所述取0.5～5∶1作為基本范圍，但優(yōu)選縮小范圍為0.5～4.5∶1、1～4.5∶1、1～4.0∶1、1.5～4.0∶1，更優(yōu)選調(diào)整到2～3.5∶1的范圍內(nèi)。
上述材料(1)、(2)、(3)可用以下方法制造例如，按常法處理含Ni34～38重量％其余實(shí)質(zhì)上由Fe組成的合金，當(dāng)對(duì)得到的冷軋材進(jìn)行退火時(shí)，在終軋前施加退火溫度900～1150℃、均熱時(shí)間5～60秒的中間退火，然后施加退火溫度700～900℃、均熱時(shí)間60～600秒的最終退火。
另外，在上述制造方法中，各退火條件優(yōu)選在圖1的a，b，c和d圍成的范圍內(nèi)進(jìn)行。
而且，對(duì)于本發(fā)明的材料(1)、(2)、(3)，滿足以下條件是有效的a.表面的粗糙度為0.2μm≤Ra≤0.9μm、b.表面的粗糙度為20μm≤Sm≤250μm、c.表面的粗糙度為-0.5≤Rsk≤1.3。
而且，對(duì)于本發(fā)明的材料(1)、(2)、(3)，優(yōu)選d.表面的粗糙度為0.2μm≤Ra≤0.9μm、而且-0.5≤Rsk≤1.3、e.表面的粗糙度為0.2μm≤Ra≤0.9μm、-0.5≤Rsk≤1.3、而且20μm≤Sm≤250μm。
而且，對(duì)于本發(fā)明的材料(1)、(2)、(3)，更優(yōu)選f.板斷面中測定的10μm以上的夾雜物的個(gè)數(shù)，為每100mm2單位面積80個(gè)以下、g.由板表面研磨到任意深度的位置中，10μm以上的夾雜物的個(gè)數(shù)，為每100mm2單位面積65個(gè)以下、h.用JIS G 0551的方法測定的晶粒度等級(jí)數(shù)顯示7.0以上、i.而且，蔭罩材的板厚一般為0.01～0.5mm，優(yōu)選為0.1～0.5mm。
此外，本發(fā)明的另一種材料具有下述的構(gòu)成要點(diǎn)。
(4)本發(fā)明是一種Fe-Ni系蔭罩用材料，其特征在于，是在具有含Ni34～38重量％、Si0.5重量％以下、Mn1.0重量％以下、P0.1重量％以下的鐵鎳合金的蔭罩用材料中，具有按照shultz的反射法得到的(111)極圖中的立方體取向(100)<001>與其孿晶取向(221)<212>的X射線強(qiáng)度比Ir處于0.5～5∶1的范圍內(nèi)的織構(gòu)，而且在板厚方向上的、圖11中定義的Ni的偏析量CNis為0.30％以下，Ni的最大偏析量CNimax為1.5％以下。
此外，在本發(fā)明的上述材料(4)中，上述X射線強(qiáng)度比(X射線讀數(shù)比)如上所述取0.5～5∶1作為基本范圍，但優(yōu)選縮小范圍為0.5～4.5∶1、1～4.5∶1、1～4.0∶1、1.5～4.0∶1、2～3.5∶1。
本發(fā)明的上述材料(4)中，原料的板厚方向上的各種成分偏析，即Ni、Si、Mn和P的偏析，優(yōu)選處于以下式(1)、(2)表示的范圍。
A.對(duì)于Ni，要求(1)滿足偏析量CNis≤0.30(％)、(2)滿足最大偏析量CNimax≤1.5(％)；B.對(duì)于Si，要求(1)滿足偏析量CSis≤0.002(％)、(2)滿足最大偏析量CSimax≤0.01(％)；C.對(duì)于Mn，要求(1)滿足偏析量CMns≤0.010(％)、(2)滿足最大偏析量CMnmax≤0.05(％)；
D.對(duì)于P，要求(1)滿足偏析量CPs≤0.001(％)、(2)滿足最大偏析量CPmax≤0.005(％)、另外，關(guān)于上述各成分的偏析量，例如對(duì)CNis、CNi max的場合進(jìn)行示例時(shí)，為以下所定義的值(詳細(xì)的定義參照?qǐng)D8)。
(1)偏析量CNis(％)＝Ni分析值(％)×CiNis/CiNiave.
(2)最大偏析量CNimax(％)＝Ni分析值(％)×CiNimax/CiNiave.
CiNisX射線的標(biāo)準(zhǔn)偏差(c.p.s)CiNiave.全X射線強(qiáng)度的平均強(qiáng)度(c.p.s)CiNimax最大X射線強(qiáng)度(c.p.s)(＝X射線強(qiáng)度的最大值—最小值)CiNiave.全X射線強(qiáng)度的平均強(qiáng)度(c.p.s)·Ni分析值是原料中所含的Ni含量，是用化學(xué)的(或物理的)方法等分析的值。
上述材料(4)可按以下方法制造將規(guī)定成分組成的合金的板坯在1250～1400℃的高溫下熱軋，對(duì)進(jìn)行過至少40hr以上均質(zhì)化熱處理的熱軋板進(jìn)行冷軋，當(dāng)對(duì)得到的冷軋材進(jìn)行退火時(shí)，在終軋前施加退火溫度為900～1150℃、均熱時(shí)間為5～60秒的中間退火，然后施加退火溫度700～900℃、均熱時(shí)間60～600秒的最終退火。另外，上述各退火條件希望在圖1的a，b，c和d圍成的范圍內(nèi)進(jìn)行。
另外，對(duì)于本發(fā)明的上述材料(4)，優(yōu)選滿足以下條件a.與表面粗糙度有關(guān)的參數(shù)Ra為0.2μm≤Ra≤0.9μm、b.與表面粗糙度有關(guān)的參數(shù)Sm為20μm≤Sm≤250μm、c.與表面粗糙度有關(guān)的參數(shù)Rsk為-0.5≤Rsk≤1.3、d.與表面粗糙度有關(guān)的參數(shù)Rθa為0.01≤Rθa≤0.09、e.據(jù)JIS G 0555的規(guī)定得到的斷面純凈度為0.05％以下、f.板斷面中測定的10μm以上的夾雜物的個(gè)數(shù)，為每100mm2單位面積80個(gè)以下、g.由板表面研磨到任意深度的位置中，10μm以上的夾雜物的個(gè)數(shù)，為每100mm2單位面積65個(gè)以下、
h.用JIS G 0551的方法測定的晶粒度等級(jí)數(shù)顯示7.0以上、而且，蔭罩材的板厚一般為0.01～0.5mm，優(yōu)選為0.05～0.5mm。


圖1是表示本發(fā)明的中間退火條件和最終退火條件適宜范圍的關(guān)聯(lián)性的說明圖。
圖2是比較材11的(111)極圖。
圖3是本發(fā)明材3的(111)極圖。
圖4是本發(fā)明材1的(111)極圖。
圖5是本發(fā)明材4的(111)極圖。
圖6是比較材6的(111)極圖。
圖7是表示Ir和蝕刻因數(shù)及條痕、斑點(diǎn)等級(jí)的關(guān)系的說明圖。
圖8是說明板斷面的成分偏析量定義的圖。
圖9是用X射線微分析器得到的表示Ni偏析量測定例的曲線圖。
圖10是表示合金板斷面純凈度測定方法的圖。
圖11是表示合金板表面的大型夾雜物示例的照片。
圖12是表示合金板斷面的大型夾雜物示例的照片。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明中研究的“條痕”，主要是指各個(gè)條寬呈現(xiàn)為比較粗的所謂由偏析引起的條痕，和條粗呈現(xiàn)為比較細(xì)的絲紋狀的所謂由晶體取向引起的條痕(絲紋狀條)。還有以二者相互混合的形態(tài)存在的。本發(fā)明著眼于偏析引起的“條痕”和依賴于晶體取向的“條痕”，并試圖對(duì)其進(jìn)行改善。
本發(fā)明所述的Fe-Ni系蔭罩用材料使用以下的成分組成。
C含量在0.1重量％以上時(shí)，碳化物析出，不僅阻害蝕刻性，而且對(duì)于蔭罩成形加工后的形狀固定性給予不良影響。而且該C量多時(shí)，耐力上升，彈性變形回復(fù)變大，使成形加工時(shí)與模具的跑合加劇。因此在本發(fā)明中，將C含量取為0.1重量％以下為佳。
Si是脫氧成分之一，但其含量過多時(shí)，原料自身的硬度增大，同時(shí)也會(huì)與C同樣對(duì)成形加工性給予不良影響，除此之外，隨著該量增多，導(dǎo)致耐力上升，使彈性變形回復(fù)變大。而且在蝕刻時(shí)對(duì)條痕有影響，在其量多時(shí)成為條痕發(fā)生的原因。因而在本發(fā)明中，將Si量取為0.5重量％以下為佳。
Mn是脫氧成分之一，由于能與對(duì)熱加工性有害的S結(jié)合形成MnS，所以適當(dāng)添加以改善熱加工性。但是，其添加量過多時(shí)，會(huì)提高其熱膨脹系數(shù)，同時(shí)使居里點(diǎn)變位到高溫側(cè)。因而在本發(fā)明中Mn量為1.0重量％為佳。
Ni是本發(fā)明中最重要的元素，該Ni含量低于34重量％時(shí)，熱膨脹系數(shù)變大，而且產(chǎn)生馬氏體轉(zhuǎn)變，有發(fā)生蝕刻痕的危險(xiǎn)。另一方面，Ni含量高于38重量％多時(shí)，同樣熱膨脹系數(shù)變大，在彩色布勞恩管等中使用的場合，有發(fā)生色痕之類的問題。因而為了良好的蝕刻性和使彩色布勞恩管的色痕等級(jí)提高，將Ni含量取為34％～38重量％。
此外，本發(fā)明除了對(duì)上述的以36重量％Ni-Fe合金作為代表的因瓦合金材之外，對(duì)所謂以Fe-32重量％Ni-5重量％Co作為代表成分的稱為超級(jí)因瓦合金的Fe-Ni-Co系合金，也能夠同樣適用。該合金系低熱膨脹性特別良好，使用它的布勞恩管色彩更加鮮明。
在該Fe-Ni-Co的場合，Ni以23～38重量％為佳。優(yōu)選Ni的下限為25重量％以上，較佳為27重量％以上，更佳為30重量％以上。Ni的優(yōu)選上限為36重量％以下，更佳為35重量％以下。
Co為10重量％以下為佳。這是因?yàn)楦哂谠撝禃r(shí)，熱膨脹系數(shù)變高，蝕刻性顯著降低。優(yōu)選為8重量％以下，更佳為7重量％以下，尤佳為6重量％以下。
另外，在研究Co的下限時(shí)，取為0.5重量％以上，優(yōu)選為1重量％以上，更佳為1.5重量％以上，尤佳為2重量％以上，特佳為2.5重量％以上，3重量％以上是更優(yōu)選的。
進(jìn)而將Ni和Co的合計(jì)含量規(guī)定為32～38重量％也是有效的。
其次，本發(fā)明為了控制依賴于晶體取向的“條痕”，通過導(dǎo)入立方體取向的(100)面的孿晶取向使立方體取向分?jǐn)啵允咕ЯＨ∠虿换靵y，從而控制織構(gòu)。
即，條痕的發(fā)生原因是晶體取向引起的，因此條痕受到晶粒取向的很大影響，雖然希望某種程度確保蝕刻優(yōu)先取向的立方體取向(100)<001>的集聚，但是該取向集聚過度時(shí)，反而成為纖維狀的具有方向性的組織，使條痕的等級(jí)變差，因此可知，幫助織構(gòu)適度分散的副取向(221)<212>的孿晶取向的存在是必要的。
本發(fā)明所述的蔭罩適用材料優(yōu)選的織構(gòu)，若以(111)極圖中立方體取向(100)<001>與其孿晶取向(221)<212>的X射線強(qiáng)度比Ir表示時(shí)，其適宜的范圍，在(111)極圖的X射線強(qiáng)度比(X射線讀數(shù)比Ir)中，為0.5～5∶1，優(yōu)選為1～4.5∶1，更佳為1～4.0∶1，最優(yōu)選為1.5～4.0∶1，制造條痕等級(jí)優(yōu)良的蔭罩材的最佳比為2～3.5∶1。
另外，本發(fā)明中上述X射線強(qiáng)度比Ir的測定方法及測定條件如下所述。
首先，上述X射線強(qiáng)度比Ir的測定方法是，用特氟隆覆蓋板的一個(gè)面，然后對(duì)相反的面用市售化學(xué)研磨液(三菱瓦斯化學(xué)制C.P.E1000)進(jìn)行化學(xué)研磨，減厚成為板厚的70～30％，作為測定面。該測定面希望在板厚度的中心部附近進(jìn)行測定。
對(duì)于這樣得到的化學(xué)研磨后的試樣表面，以下列表1的測定條件，實(shí)施按schulz反射法的(111)極點(diǎn)測定，以由此得到的極圖為基礎(chǔ)，求出(100)<001>取向的X射線強(qiáng)度與(221)<212>取向的X射線強(qiáng)度之比。各自的X射線強(qiáng)度是，求出最大X射線強(qiáng)度(最大X射線讀數(shù))，將該強(qiáng)度15等分，由所得得到的極圖，在對(duì)應(yīng)(100)<001>及(221)<212>的強(qiáng)度中讀取相當(dāng)?shù)牡雀呔€強(qiáng)度，將該強(qiáng)度定義為各自的X射線強(qiáng)度。
然后，求出這樣得到的(100)<001>取向與(221)<212>取向的各自的比，作為X射線強(qiáng)度比Ir。X射線強(qiáng)度比Ir由下式定義。
Ir＝立方體取向(001)<001>的X射線強(qiáng)度/孿晶取向(221)<212>的X射線強(qiáng)度表1

接著，對(duì)適合本發(fā)明的和不適合本發(fā)明的極點(diǎn)圖形進(jìn)行說明。
圖2～圖6針對(duì)表2所示成分組成的Fe-Ni系材料，示出了以表3所示條件制造的本發(fā)明材No.1，3，4和比較材No.6，11的極點(diǎn)圖形。圖2示出表3中的比較材No.11的極圖，(100)<001>的立方體取向比較發(fā)達(dá)，與(221)<212>孿晶取向的X射線強(qiáng)度比Ir為13.91。關(guān)于該試樣(比較材11)的蝕刻性，如表3中所示，雖然因蝕刻速度快使斑點(diǎn)狀況良好，但是能明顯看出條痕，因此用作實(shí)際的蔭罩制品是不適宜的。
表2 成分組成(重量％)

表3

條痕的等級(jí)(良好)←54321→(差)斑點(diǎn)的等級(jí)(良好)←54321→(差)
此外，圖3、圖4、圖5分別示出表3中的本發(fā)明材No.3、1、4的極圖，各自都是適合于本發(fā)明的材料的極點(diǎn)圖形。其中圖3、圖4分別示出本發(fā)明上限Ir＝4.66、下限Ir＝0.93，而圖5示出本發(fā)明的最佳條件Ir＝2.79。
另一方面，圖6示出了比較材No.6的極圖，其(100)<001>立方體取向非常弱，規(guī)格化強(qiáng)度比為0.36∶1。關(guān)于該比較材No.6的蝕刻性，呈現(xiàn)出斑點(diǎn)等級(jí)差的結(jié)果，其作為蔭罩制品也是不適當(dāng)?shù)摹?br> 圖7是在圖中歸納上述關(guān)系。該圖橫軸取X射線強(qiáng)度比Ir的對(duì)數(shù)，縱軸表示蝕刻因數(shù)(將進(jìn)行圖形蝕刻時(shí)的深度方向的蝕刻量用寬度方向的蝕刻量(側(cè)面蝕刻)除得到的值)、條痕、斑點(diǎn)等級(jí)。如圖所示，可看出X射線強(qiáng)度比Ir越大(孿晶的比例越減少)，蝕刻因數(shù)(板厚方向的蝕刻速度)越增大。另一方面，條痕的等級(jí)無論是X射線強(qiáng)度比過大還是過小都變差。由圖示的結(jié)果可知，X射線強(qiáng)度比Ir的適宜范圍為0.5～5的范圍。而且，關(guān)于斑點(diǎn)，蝕刻速度大的情況是有利的，但如圖所示，Ir大約超過1.0時(shí)就沒有大的變化，認(rèn)為是沒有差別。
本發(fā)明對(duì)按這樣的極點(diǎn)圖形得到的取向成分的適宜性范圍進(jìn)行了規(guī)定，藉此防止了在蔭罩用原料上發(fā)生蝕刻時(shí)被稱之為條痕和斑點(diǎn)的整體斑痕的發(fā)生。
以下對(duì)得到上述織構(gòu)的晶粒取向的方法進(jìn)行說明。
首先，對(duì)規(guī)定成分組成的合金材按常法進(jìn)行熱軋，如必要施加再結(jié)晶退火和酸洗等之后，進(jìn)行中間(1次)冷軋，然后在最終(2次)冷軋前施加中間退火。該中間退火是為對(duì)立方體取向(100)<001>結(jié)晶的發(fā)達(dá)作適宜控制而進(jìn)行的。該中間退火在900～1150℃的溫度下進(jìn)行。在該溫度低的場合(＜900℃)，最終制品中的立方體取向的結(jié)晶過于發(fā)達(dá)，孿晶取向(221)<212>的結(jié)晶比例變低，使條痕等級(jí)降低。而孿晶取向的結(jié)晶比例少就成為條痕等級(jí)差的理由，可以認(rèn)為是因立方體取向結(jié)晶的集聚，使軋制方向的優(yōu)先取向<001>在各個(gè)晶粒單位中整合性微妙混亂，使其顯現(xiàn)成條狀。相反，在中間退火溫度為高溫的場合(＞1150℃)，立方體取向的結(jié)晶的發(fā)達(dá)情況變差，蝕刻速度降低，在蔭罩圖形蝕刻時(shí)，各個(gè)蝕刻孔的相干性降低，發(fā)生被稱為斑點(diǎn)的整體斑痕。
此外，該中間退火的均熱時(shí)間為5～60秒的范圍是適宜的。該時(shí)間比5秒更短時(shí)，恢復(fù)再結(jié)晶不充分，成為復(fù)合晶粒狀態(tài)的原樣組織，使蝕刻等級(jí)降低。另一方面，該時(shí)間比60秒更長時(shí)，成為粗晶粒，使立方體取向結(jié)晶的發(fā)達(dá)情況降低，由于仍然成為復(fù)合晶粒組織，所以導(dǎo)致蝕刻性降低。
其次，在本發(fā)明中，不僅對(duì)上述中間退火條件，最好也對(duì)第2次冷軋后及蝕刻前的最終退火條件進(jìn)行規(guī)制。即，該最終退火是為了整理制品的晶粒成為微細(xì)且均一、防止構(gòu)成斑點(diǎn)發(fā)生原因的蝕刻后的孔壁面毛糙而進(jìn)行的，在700～900℃的退火溫度下，以60～600秒的均熱時(shí)間進(jìn)行處理是有效的。其理由是在這樣的最終退火中，退火溫度比700℃還低時(shí)，再結(jié)晶不充分，另一方面，在比900℃更高的場合，會(huì)粗晶?；?，使蝕刻等級(jí)降低。
此外，該退火的均熱時(shí)間，按照各個(gè)晶粒的成長和晶體取向的發(fā)達(dá)程度取作60～600秒的范圍為佳。例如，該均熱時(shí)間短(＜60秒)時(shí)，立方體取向的結(jié)晶的發(fā)達(dá)情況不充分，而且發(fā)生蝕刻速度的降低和斑點(diǎn)。另一方面，當(dāng)均熱時(shí)間長(＞600秒)時(shí)，除晶粒粗大化外，相對(duì)于立方體取向而言孿晶取向一方過于發(fā)達(dá)，使條痕等級(jí)降低。
這些退火條件有適宜性的范圍，優(yōu)選為圖1中的a、b、c、d所圍成的區(qū)域。
其次，本發(fā)明除了對(duì)依賴于晶體取向的上述“條痕”之外，還對(duì)由Ni和Mn等的成分偏析為起因的“條痕”進(jìn)行了研究。結(jié)果，以成分偏析為起因發(fā)生的條痕，在蔭罩制品中觀察時(shí)，若其程度強(qiáng)，則在透過光中現(xiàn)出條狀，但多在來自小孔側(cè)的斜光中清楚地觀察到。這可以想象為由大孔透過到小孔的光受到散射、衍射，在成為大孔側(cè)條痕的原因的蝕刻面更被強(qiáng)調(diào)的情況下進(jìn)行觀察。
即，條痕發(fā)生的主原因?yàn)槠龅膱龊希羝龇植荚诎搴穹较?，則認(rèn)為該分布著的偏析的強(qiáng)度和分布的幅度支配著條痕的強(qiáng)度和形態(tài)。因此，以該偏析的強(qiáng)度(按EPMA的線分析的最大偏析量)和平均值(全板厚中的偏析的標(biāo)準(zhǔn)偏差)表示板厚方向上的偏析。
此處，將板厚的厚度幅度上的線分析(偏析)的最大偏析量定義為Cmax，將板厚方向的平均偏析量(標(biāo)準(zhǔn)偏差)定義為Cs。以Ni為基礎(chǔ)進(jìn)而對(duì)Si、Mn、和P，將此值作成規(guī)定范圍的值，藉此減輕因偏析產(chǎn)生的比較粗的條痕。將具體的按照EPMA線分析的測定條件示于表4。
以下再以圖8為基礎(chǔ)，說明Cmax和Cs的定義。
板斷面的成分偏析量的定義將制品的板斷面研磨后，對(duì)于制品的板方向，用X射線微分析器進(jìn)行線分析。
測定條件以表1所示的條件進(jìn)行，測定長度取為原料的板厚度。
以測定的線分析的X射線強(qiáng)度(c.p.s)為基礎(chǔ)，由下式計(jì)算偏析量。
(1)偏析量CNis(％)＝Ni成分分析值(％)×CiNis(c.p.s)/CiNiave.(c.p.s)(2)最大偏析量CNimax(％)＝Ni成分分析值(％)×CiNimax/CiNiave.
CiNisX射線的標(biāo)準(zhǔn)偏差(c.p.s)CiNiave.全X射線強(qiáng)度的平均強(qiáng)度(c.p.s)CiNimax最大X射線強(qiáng)度(c.p.s)(＝X射線強(qiáng)度的最大值—最小值)CiNiave.全X射線強(qiáng)度的平均強(qiáng)度(c.p.s)·Ni成分分析值(％)是原料中所含的Ni含量，是用化學(xué)方法等分析的值。
以上雖然是對(duì)Ni進(jìn)行示例，但對(duì)于Si、Mn、P也同樣定義。
表4

這里，本發(fā)明人對(duì)于將表2所示的合金以表5所示的條件制造的材料(No.21～No.37)，調(diào)查各成分的偏析程度。并將結(jié)果示于表6。由該表6所示的結(jié)果可知，將Ni、Si、Mn、P的各偏析量控制為以下所述的偏析量，在得到條痕、斑點(diǎn)良好的材料方面是有效的。
另外，關(guān)于成分偏析的測定方法，圖9中示出了Ni偏析測定例。
1.關(guān)于板厚方向上的Ni成分偏析(1)偏析量CNis取為0.30％以下，優(yōu)選為0.20％以下，更佳為0.10％以下。
(2)最大偏析量CNimax取為1.5％以下，優(yōu)選為1.0％以下，更佳為0.5％以下。
其理由是，Ni是主成分，Ni的偏析容易成為條痕的原因。
2.關(guān)于板厚方向上的Si成分偏析，由于與Ni同樣是構(gòu)成條痕的原因，所以控制為以下數(shù)值為佳。
(1)偏析量CSis取為0.002％以下，優(yōu)選為0.015％以下，更佳為0.001％以下。
(2)最大偏析量CSimax取為0.01％以下，優(yōu)選為0.07％下，更佳為0.05％以下。
3.關(guān)于板厚方向上的Mn成分偏析，由于與Ni、Si同樣是構(gòu)成條痕的原因，所以控制為以下數(shù)值為佳。
(1)偏析量CMns取為0.010％以下，優(yōu)選為0.008％以下，更佳為0.005％以下。
(2)最大偏析量CMnmax取為0.05％以下，優(yōu)選為0.025％以下，更佳為0.020％以下。
4.關(guān)于板厚方向上的P成分偏析，由于與Ni、Si、Mn同樣是構(gòu)成條痕的原因，所以控制為以下數(shù)值為佳。
(1)偏析量CPs取為0.001％以下，優(yōu)選為0.0007％以下，更佳為0.0005％以下。
(2)最大偏析量CPmax取為0.005％以下，優(yōu)選為0.003％以下，更佳為0.002％以下。
為防止上述Ni偏析等成分偏析，對(duì)鑄造或鍛造后的板坯進(jìn)行均質(zhì)化處理是有效的。例如，可以將鑄造板坯在1250℃以上的溫度下進(jìn)行40hr以上的熱處理。
表5

表6

條痕等級(jí)、斑點(diǎn)等級(jí)在4以上為合格×看出偏析引起的比較粗大而且不均勻的條痕存在，不可使用○看出偏析引起的若干條痕，但可以使用△看出升降組織引起的條痕此外，關(guān)于Ni偏析等偏析構(gòu)成條痕的原因，在特開平1-252725號(hào)公報(bào)和特開平2-117703號(hào)公報(bào)、特開平9-143625號(hào)公報(bào)中被揭示。但是，這些現(xiàn)有技術(shù)僅規(guī)定了制造條件、任意位置的偏析量，或是僅規(guī)定了板厚方向的最大偏析量。而象本發(fā)明那樣著眼于板厚方向的平均偏析量和最大偏析量二者的觀點(diǎn)，則沒有言及。總之，由偏析原因產(chǎn)生的條痕，僅控制最大偏析量(Cmax)是不能消除的，還必須進(jìn)行斷面方向平均偏析量(標(biāo)準(zhǔn)偏差值Cs)的控制。
在本發(fā)明中，為防止Fe-Ni合金等蝕刻時(shí)發(fā)生上述的條痕缺陷。制成具有良好蝕刻特性的蔭罩材料，采用以下方法是有效的。
例如，將含Ni34～38重量％、其余實(shí)質(zhì)上由Fe組成的合金，精煉、鑄造后或鑄造后鍛造得到板坯，對(duì)該板坯在1250～1400℃的溫度范圍進(jìn)行40hr以上的均質(zhì)化熱處理，接著熱軋成數(shù)mm程度的熱帶材。板坯的均質(zhì)化處理對(duì)減輕板斷面上的偏析、從而消除偏析引起的條痕是有效的。將這樣得到的上述熱帶材如必要施加再結(jié)晶退火和酸洗等，然后進(jìn)行例如中間(1次)冷軋，然后在最終(2次)冷軋前施加中間退火。而該中間退火是為控制立方體取向(100)<001>的發(fā)達(dá)而進(jìn)行的，如上所述在900～1150℃的溫度下進(jìn)行。而且除上述中間退火外，還在最終(2次)冷軋前進(jìn)行最終退火，其退火條件已如上述。
本發(fā)明的上述材料，除了控制以X射線強(qiáng)度比Ir表示的織構(gòu)和控制Ni、Mn等的偏析外，為進(jìn)一步抑制條痕，再加上按照J(rèn)1S G 0555的規(guī)定得到的斷面純凈度為0.05％以下，優(yōu)選為0.03％以下，更佳為0.02％以下，尤佳為0.017％以下。其理由是，斷面純凈度超過上述數(shù)值時(shí)，蝕刻精度降低，制品不合格率上升。
此外，上述斷面純凈度的測定值按照J(rèn)1S G 0555的標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行。具體說就是這樣進(jìn)行將制品沿軋制方向切斷成30mm的長度，研磨其斷面，然后在顯微鏡上裝著具有縱橫各20根格子線的網(wǎng)格，一邊按圖10所示那樣移動(dòng)視場成鋸齒形，一邊以400倍作60視場觀察。因而，測定面是平行于軋制方向的斷面，測定面積為板厚×30mm。在將格子點(diǎn)數(shù)設(shè)為P，視場數(shù)設(shè)為f，f個(gè)視場中總格子點(diǎn)中心數(shù)設(shè)為n時(shí)，上述斷面純凈度d由下式?jīng)Q定d(％)＝(n/P×f)×100
本發(fā)明的上述材料，優(yōu)選再對(duì)以Ra、Rsk、Sm、Rθa表示的材料表面粗糙度進(jìn)行適當(dāng)控制。
(1)首先，在制品的表面粗糙度中，中心線平均粗糙度Ra是表示粗糙度平均大小的參數(shù)，該值過大時(shí)，曝光時(shí)的散射變強(qiáng)，同時(shí)蝕刻時(shí)穿孔開始時(shí)間產(chǎn)生差值，孔的形狀變差。相反，在過小的場合，抽真空時(shí)排氣不充分，容易產(chǎn)生圖形和原料的密合不良。
因此在本發(fā)明中，取0.2≤Ra≤0.9。中心線平均粗糙度Ra的優(yōu)選下限為0.25m以上，更佳為0.3m以上，尤佳為0.35m以上。另一方面，上限優(yōu)選為0.85m以下，更佳為0.8m以下，尤佳為0.7m以下。
(2)其次，表示表面粗糙度的相對(duì)性的Rsk，是在邊緣表示圖形凸凹的參數(shù)，按照下式以數(shù)值表示相對(duì)于振幅分布曲線(ADF)分布的中心線的對(duì)稱性。
Rsk＝1/σ3∫Z3P(z)dz其中，σ表示均方偏差，∫Z3P(z)dz表示振幅分布曲線的三次瞬時(shí)。
該Rsk以負(fù)值計(jì)大時(shí)，曝光時(shí)的散射變強(qiáng)，孔的形狀變差。相反，以正值計(jì)過大時(shí)，抽真空時(shí)排氣不充分，容易產(chǎn)生圖形和原料的密合不良。
因此在本發(fā)明中，取-0.5≤Rsk≤1.3。優(yōu)選下限為0以上，更佳的下限為0.1以上。另一方面，上限優(yōu)選為1.1以下，更佳為取1.0以下。
(3)其次，以Sm表示的平均高峰間隙，表示粗糙度的峰谷的間距大小，這樣的粗糙度可以認(rèn)為，邊緣凹凸過大的場合產(chǎn)生部分抽真空不良、過小時(shí)產(chǎn)生散射變強(qiáng)，因而孔形狀不合格。
在本發(fā)明中，該Sm取20μm≤Sm≤250μm。
該Sm的優(yōu)選下限為40μm以上，更佳為50μm以上，尤佳為80μm以上。另一方面，優(yōu)選的上限為200μm以下，更佳為160μm以下，尤佳為150μm以下，而將130μm以下取為最佳例。
(4)最后，以Rθa表示的均方偏差傾斜，表示粗糙度的平均斜率，該參數(shù)的數(shù)字越大，表示各自粗糙度的凹凸急峻度越大。該值可由下式求出。
Rθa=11L0∫|ddxf(x)|dx]]>(式中，L表示測定長度，f(x)表示粗糙度的斷面曲線)該值大時(shí)，一般在曝光時(shí)散射變強(qiáng)，容易引起孔形狀不良，而在過小的場合，易于在抽真空時(shí)產(chǎn)生圖形和基底的密合不良。
在本發(fā)明中，該Rθa取0.01≤Rθa≤0.09的范圍。該Rθa的優(yōu)選下限為0.015以上，尤其是0.020以上，最優(yōu)選為0.025以上。另一方面，優(yōu)選的上限為0.07以下，更佳為0.06以下，尤佳為0.05以下，而將0.04以下取為最佳例。
調(diào)整上述表面粗糙度的方法，例如可在將蔭罩用原料冷軋到最終尺寸時(shí)，用無光軋輥容易地實(shí)現(xiàn)。這種無光軋輥是表面有凹凸的輥，用這種輥軋制上述蔭罩原料，在該原料表面作為反轉(zhuǎn)樣式復(fù)制上述凹凸。這樣的無光輥的凹凸，可通過電火花加工、激光加工、噴丸清理法等進(jìn)行加工。例如，用噴丸清理法的輥?zhàn)蛹庸l件，可采用#120的鋼砂。
本發(fā)明的上述材料，優(yōu)選在上述特性中再加上對(duì)夾雜物個(gè)數(shù)進(jìn)行控制。即，由板表面進(jìn)行研磨到任意的深度，將所測定的10μm以上的夾雜物的個(gè)數(shù)，控制在每100mm2單位面積65個(gè)以下。此時(shí)，優(yōu)選為40個(gè)以下，更佳為30個(gè)以下，尤佳為25個(gè)以下，20個(gè)以下最佳。這樣限定的理由是，一般蔭罩必須采取微細(xì)的蝕刻技術(shù)，因此原料中的夾雜物盡可能少為好。
此外，雖然該夾雜物個(gè)數(shù)和斷面純凈度是類似的概念，但是僅用斷面純凈度d則只規(guī)定了異物的面積，為了使不合格率更少，限制板表面夾雜物的大小也是有效的。
上述夾雜物個(gè)數(shù)的測定方法是研磨板表面，最后用拋光研磨進(jìn)行精加工，用顯微鏡觀察與板表面平行的面，測定個(gè)數(shù)。測定時(shí)對(duì)10mm×10mm的面進(jìn)行觀察。圖11示出構(gòu)成不合格原因的大型夾雜物的照片。
本發(fā)明在對(duì)上述板表面的夾雜物個(gè)數(shù)進(jìn)行控制之外，再將板斷面中測定的10μm以上的夾雜物個(gè)數(shù)，控制在每100mm單位面積80個(gè)以下是有效的。該個(gè)數(shù)優(yōu)選為70個(gè)以下，更佳為50個(gè)以下，尤佳為40個(gè)以下，而將30個(gè)以下、進(jìn)而20個(gè)以下作為最佳例。這是因?yàn)?，僅控制上述斷面純凈度d不能使不合格率成為0，通過再限制夾雜物的大小，就能夠使不合格率更加降低。
另外，該板斷面中的夾雜物個(gè)數(shù)的測定方法是研磨與軋制方向平行的斷面，用拋光研磨進(jìn)行精加工，用顯微鏡觀察。測定了3次板厚×25mm長度的斷面，并換算成100mm2。圖12示出了造成不合格原因的大型夾雜物的照片。
在本發(fā)明中，可以通過在精煉過程中，使鋼水包內(nèi)夾雜物上浮分離，來控制上述純凈度和夾雜物個(gè)數(shù)。
在本發(fā)明中，關(guān)于合金中的晶粒度，優(yōu)選按照J(rèn)IS G 0551的方法測定的晶粒度等級(jí)顯示為7.0以上的大小的粒度(較細(xì)等級(jí)控制)。較佳為8.5以上，尤佳為9.5以上。
限定合金晶粒度的理由是晶粒大(粒度等級(jí)7.0以下)時(shí)，因晶體取向使蝕刻速度不同為起因，發(fā)生偏差、蝕刻孔不一致造成的透過光斑痕，進(jìn)而發(fā)生稱為斑點(diǎn)的現(xiàn)象，而且發(fā)生孔不良的情況，使合格率降低。此外，沖壓加工時(shí)也產(chǎn)生不適合的情況。
上述晶粒度的測定方法是，以軋制直角方向的板斷圓作為顯微鏡面，拋光研磨后用王水進(jìn)行腐蝕，以觀察倍率200倍比較對(duì)照J(rèn)1S G 0551中記載的奧氏體組織標(biāo)準(zhǔn)晶粒度圖，決定晶粒度等級(jí)。此外，由于標(biāo)準(zhǔn)晶粒度圖是以100倍的觀察倍率作為基準(zhǔn)，所以對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)圖的晶粒度等級(jí)+2.0進(jìn)行補(bǔ)正。(晶粒度等級(jí)以0.5的級(jí)差進(jìn)行測定)。
實(shí)施例實(shí)施例1采用真空脫氣操作法，熔煉適合于上述表2所示成分組成的本發(fā)明的Fe-Ni系合金鋼錠，然后進(jìn)行熱軋，制成5mm的熱軋板，再將其以表3所示條件反復(fù)冷軋和退火，得到0.13mm厚的原料。然后，使該原料經(jīng)光蝕刻工序制成實(shí)際的蔭罩制品，進(jìn)行各種評(píng)價(jià)。蝕刻使用0.26mm間距的掩模圖案，在46波美度氯化鐵溶液、液溫50℃、噴霧壓力2.5kgf/cm2的條件下進(jìn)行。
表3中試樣No.1～5是根據(jù)本發(fā)明制造的例子，試樣No.6～11是比較材的例子。另外，評(píng)價(jià)了所得到的蔭罩制品蝕刻后的特性，在沖壓成形性方面，本發(fā)明材都有良好的對(duì)金屬型的跑合性和膨脹剛性，另外，在黑化性方面，也可以確認(rèn)密合性好、能夠生成獲得充分輻射特性的黑化膜，顯然，作為蔭罩制品顯示了優(yōu)良的特性。
實(shí)施例2在本實(shí)施例中，與以前的蔭罩材相比，只要X射線強(qiáng)度比和斷面純凈度在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)，都是在質(zhì)量和制品合格率方面能夠充分滿足要求的蔭罩材，但是，為了提高合格率等，要進(jìn)一步研究與各種因素的組合。表7示出了其結(jié)果。
表7示出了沖壓前退火時(shí)有無燒接、孔不合格率，與斷面純凈度、表面粗糙度(Ra、Rsk、Sm)、平面和斷面的10m以上夾雜物個(gè)數(shù)和晶粒度等級(jí)的關(guān)系。表面粗糙度的計(jì)算使用(株)東京精密サ-フコム1500A。以下是確切的結(jié)果。
(1)當(dāng)斷面純凈度超過0.05％時(shí)，孔不合格率稍稍變多(No.44)。
(2)可以確認(rèn)，在平面和斷面上觀察的10m以上夾雜物個(gè)數(shù)分別超過每單位面積65個(gè)和80個(gè)時(shí)，孔不合格的發(fā)生稍稍增加(No.50，51)。
(3)當(dāng)晶粒度等級(jí)在7.0以下時(shí)，孔不合格率稍稍增加，這是因?yàn)?，由于各個(gè)晶粒大，造成了依存于各自晶體取向的開孔形狀，使得開均一的孔比較困難(No.52)。
(4)如前所述，適當(dāng)?shù)谋砻娲植诙瓤梢栽谖g刻前的保護(hù)層的涂敷、曝光工序中提高保護(hù)層的密合性，還具有改善抽真空同時(shí)防止曝光造成光暈的作用，除此以外，還可以防止沖壓前退火時(shí)蔭罩彼此粘合，進(jìn)而防止粘合造成的黑化(氧化)皮膜的不均勻。根據(jù)這些可以認(rèn)為，因Ra、Rsk、Sm的組合，使蝕刻引起孔不合格或燒接(沖壓前退火時(shí)板彼此粘合)，由此產(chǎn)生了黑化不均勻(No.45，46，47，48，49)。
表7

備注(1)孔不合格率蝕刻孔的不合格發(fā)生率(2)沖壓前退火時(shí)的燒接不合格在沖壓前退火時(shí)板表面粘合而造成不適合制造間距0.28mm、高精細(xì)蔭罩的結(jié)果實(shí)施例3對(duì)于表8所示的Fe-Ni-Co系合金蔭罩用材料進(jìn)行與實(shí)施例1相同的實(shí)驗(yàn)。將其結(jié)果示于表9，而且，得到了與Fe-Ni系蔭罩用材料的情況同樣的結(jié)果。
表8 成分組成(wt％)

表9

對(duì)板厚為0.13mm的材料進(jìn)行評(píng)價(jià)。
各項(xiàng)目的評(píng)價(jià)基準(zhǔn)等與表4、表7相同。
實(shí)施例5在本實(shí)施例中，與以前的蔭罩材相比，只要X射線強(qiáng)度比、在斷面方向Ni偏析的強(qiáng)度分布和斷面純凈度在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)，都是在質(zhì)量和合格率方面能夠充分滿足要求的蔭罩材，但是，為了提高合格率等，要再研究與各種因素的組合。表10示出了其結(jié)果。
表10示出了在沖壓前退火時(shí)有無燒接和孔不合格率，與斷面純凈度、表面粗糙度(Ra、Rsk、Sm)、平面和斷面的10μm以上夾雜物個(gè)數(shù)和晶粒度等級(jí)的關(guān)系。表面粗糙度的計(jì)算使用(株)東京精密サ-フコム1500A。結(jié)果說明了以下的情況。
(1)當(dāng)斷面純凈度超過0.05％時(shí)；孔不合格率稍稍變多(No.84)。
(2)當(dāng)在平面和斷面上觀察的10μm以上的夾雜物個(gè)數(shù)分別超過單位面積平均65個(gè)、和80個(gè)時(shí)，可以確認(rèn)孔不合格的發(fā)生稍稍增加(No.92，93)。
(3)當(dāng)晶粒度等級(jí)在7.0以下時(shí)，孔不合格率稍稍增加，這是因?yàn)橛捎诟鱾€(gè)晶粒大，所以決定了依存于各自晶體取向的開孔形狀，使得開均勻的孔比較困難(No.94)。
(4)如前所述，適當(dāng)?shù)谋砻娲植诙瓤梢栽谖g刻前的保護(hù)層的涂敷、曝光工序中提高保護(hù)層的密合性，還具有改善抽真空的作用，同時(shí)有防止曝光產(chǎn)生光暈的作用，此外，還可以防止沖壓前退火時(shí)蔭罩彼此粘合、進(jìn)而防止因粘合造成的黑化(氧化)皮膜的不均勻。根據(jù)這些可以確認(rèn)，由于Ra、Rsk、Sm的組合，產(chǎn)生了蝕刻引起的孔不合格率或燒接(沖壓前退火時(shí)板彼此粘合)造成的黑化不均勻(No.85，86，87，88，89，90)。
表10

備注(1)孔不合格率蝕刻孔的不合格發(fā)生率(2)沖壓前退火時(shí)的燒接不合格沖壓前退火時(shí)板表面粘合而不適合測定CNis0.1％以下、CNimax0.5％以下的原料產(chǎn)業(yè)上利用的可能性如上所述，按照本發(fā)明，就能夠提供蝕刻特性優(yōu)良的Fe-Ni合金、Fe-Ni-Co合金、特別是蝕刻時(shí)不發(fā)生條痕和斑點(diǎn)的低熱膨脹型的Fe-Ni系蔭罩用材料。從而，只要采用這樣的材料，就能夠確實(shí)地以高的合格率提供映象美觀的彩色布勞恩管和顯示用材料。
權(quán)利要求
1.Fe-Ni-Co系蔭罩用材料，其特征在于，該材料是含Ni23～38重量％及Co10重量％以下，且余量為Fe的鐵-鎳-鈷合金的蔭罩用材料，具有(111)極圖中的立方體取向(100)<001>與其孿晶取向(221)<212>的X射線強(qiáng)度比Ir處于0.5～5∶1的范圍內(nèi)的織構(gòu)，而且據(jù)JIS G 0555的規(guī)定得到的斷面純凈度為0.05％以下。
2.權(quán)利要求1所述的蔭罩用材料，其特征在于，涉及表面粗糙度的參數(shù)Ra為0.2μm≤Ra≤0.9μm。
3.權(quán)利要求1所述的蔭罩用材料，其特征在于，涉及表面粗糙度的參數(shù)Sm為20μm≤Sm≤250μm。
4.權(quán)利要求1所述的蔭罩用材料，其特征在于，涉及表面粗糙度的參數(shù)Rsk為-0.5≤Rsk≤1.3。
5.權(quán)利要求1所述的蔭罩用材料，其特征在于，由板表面研磨到任意深度的位置中，10μm以上的夾雜物的個(gè)數(shù)，為每100mm2單位面積65個(gè)以下。
6.權(quán)利要求1所述的蔭罩用材料，其特征在于，在板斷面中測定的10μm以上的夾雜物的個(gè)數(shù)，為每100mm2單位面積80個(gè)以下。
7.權(quán)利要求1所述的Fe-Ni系蔭罩用材料，其特征在于，用JIS G 0551的方法測定的晶粒度等級(jí)為顯示7.0以上的大小。
全文摘要
本發(fā)明涉及作為彩色電視布勞恩管(陰極射線顯象管)等的材料所用的由Fe－Ni－Co合金構(gòu)成的Fe－Ni系蔭罩用材料，具體說是涉及以下這樣的材料具有(111)極圖中的立方體取向(100)<001>和其孿晶取向(221)<212>的X射線強(qiáng)度比Ir處于0.5～5∶1的范圍內(nèi)的織構(gòu)、而且Ni和Mn等的偏析小、按照J(rèn)IS G 0555的規(guī)定得到的斷面純凈度為0.05％以下、在光蝕刻時(shí)條痕和斑點(diǎn)發(fā)生少。
文檔編號(hào)C22C38/10GK1515698SQ0310019
公開日2004年7月28日 申請(qǐng)日期2000年6月9日 優(yōu)先權(quán)日1999年6月10日
發(fā)明者伊藤辰哉, 大森勉 申請(qǐng)人:日本冶金工業(yè)株式會(huì)社