專利名稱：鏡片研磨方法
技術領域：
本發(fā)明有關一種鏡片研磨方法，且特別是有關一種非機械接觸式的鏡片研磨方法。
(2)背景技術在現(xiàn)今激光加工的領域中，氣體激光(gas laser)已經被廣泛地應用在鉆孔、切割、刻劃、焊接及材料熱處理等方面上。在氣體激光中，其活性介質為氣體，而氣體被密封在共振腔中。共振腔是由兩片鏡片所構成的，前面的鏡片是半反射鏡片，而后面的鏡片是全反射鏡片。且各鏡片皆具有相對的一光學膜及一氣體接觸面，氣體接觸面是與被密封于共振腔中的氣體接觸。當氣體激光運作時，其利用電壓或電流通過光學的共振腔，經由氣體的激發(fā)，而造成一個單色且高同調性的狹窄光束，此光束可以被高度精確的聚焦于一個小點上，以進行激光加工的動作。激光光振蕩的次數(shù)與共振腔所使用的鏡片的穿透率有絕對關系，當鏡片的穿透率越低，則激光光振蕩的次數(shù)越多。
需要注意的是，當氣體激光運作一段時間后，各鏡片的氣體接觸面會產生一些缺陷或污點，影響鏡片的品質甚巨。因此，業(yè)者必須每隔一段時間就要更換鏡片，且應用在氣體激光上的鏡片的價格又相當昂貴。這樣，業(yè)者勢必要投下一大筆開銷在更換鏡片上。如圖1所示，由于鏡片12的光學膜13極具敏感性，故業(yè)者無法以機械機具接觸光學膜13，而進行研磨襯墊15研磨鏡片12的與光學膜13相對的待研磨面14，待研磨面14即上述的氣體接觸面。即使是由鏡片12的側面施力，傳統(tǒng)機械接觸式的研磨方式也會產生施力不均的問題，難以達到研磨均一性的功效。也就是說，當研磨襯墊15沿著圖1的箭頭50的方向移動時，由于待研磨面14因鏡片12的側面受力而無法與研磨襯墊15保持平行。尤其是，當鏡片12被研磨所需的平坦度越高時，此種方式的研磨效果越差。
(3)發(fā)明內容有鑒于此，本發(fā)明的目的就是提供一種鏡片研磨方法。其以流體施力于光學膜的非機械接觸式的研磨設計，可以避免于研磨鏡片的待研磨面時傷害到光學膜，而提高鏡片的再利用率，并節(jié)省鏡片更換的開銷。
為實現(xiàn)本發(fā)明的上述目的，根據本發(fā)明一方面的一種鏡片研磨方法。首先，置放一鏡片于一研磨襯墊的表面上，鏡片具有相對的一光學膜及一待研磨面，待研磨面是與研磨襯墊的表面接觸。接著，以一流體導引管罩住鏡片，流體導引管具有相對的一流體入口端及一流體出口端，流體出口端具有數(shù)個夾持擋板。流體出口端是位于研磨襯墊的上方，并納入鏡片，這些夾持擋板是與鏡片的側面接觸并夾持鏡片。然后，由流體入口端連續(xù)通入一流體于流體導引管中，流體是由流體出口端流出。流體可沿著光學膜的表面的法線方向平均地施力于光學膜的表面上，使得待研磨面與研磨襯墊緊密接觸。接著，沿著研磨襯墊的表面的切線方向移動研磨襯墊，以研磨待研磨面。
為實現(xiàn)本發(fā)明的上述目的，根據本發(fā)明另一方面的一種鏡片研磨方法。首先，置放一鏡片于一研磨襯墊的表面上，鏡片具有相對的一光學膜及一待研磨面，待研磨面是與研磨襯墊的表面接觸。接著，以一流體導引管罩住鏡片，流體導引管具有相對的一流體入口端及一流體出口端，流體出口端具有數(shù)個夾持擋板。流體出口端是位于研磨襯墊的上方，并納入鏡片，這些夾持擋板是與鏡片的側面接觸并夾持鏡片。然后，由流體入口端連續(xù)通入一液體于流體導引管中，液體是由流體出口端流出。液體是可沿著光學膜的表面的法線方向平均地施力于光學膜的表面上，使得待研磨面與研磨襯墊緊密接觸。接著，沿著研磨襯墊的表面的切線方向移動研磨襯墊，以研磨待研磨面。然后，于待研磨面被磨好后停止研磨襯墊的移動。接著，停止液體的提供，并由流體入口端通入一氣體于流體導引管中，以吹干光學膜的表面。
為進一步說明本發(fā)明的上述目的、結構特點和效果，以下將結合附圖對本發(fā)明進行詳細的描述。
(4)


圖1是傳統(tǒng)的氣體激光的鏡片及研磨襯墊的剖面圖。
圖2是依照本發(fā)明的較佳實施例的鏡片研磨方法的流程示意圖。
圖3是依照本發(fā)明的較佳實施例的位于研磨襯墊上的鏡片及流體導引管的立體分解圖。
圖4是圖3的位于研磨襯墊上的鏡片及流體導引管的剖面圖。
圖5是圖4的位于研磨襯墊上的鏡片及流體導引管的組合剖面圖。
圖6是圖5的流體導引管被連續(xù)通入一流體及研磨襯墊研磨待研磨面時的狀態(tài)的剖面圖。
(5)具體實施方式
本發(fā)明特別提供一鏡片研磨方法，用以研磨一具有相對的光學膜及待研磨面的鏡片，可以避免于研磨鏡片的待研磨面時傷害到鏡片的光學膜。
請參照圖2，其是依照本發(fā)明的較佳實施例的鏡片研磨方法的流程示意圖。首先，在步驟202中，置放一鏡片312于一研磨襯墊315的表面上，鏡片312具有相對的一光學膜313及一待研磨面314，待研磨面314是與研磨襯墊315的表面接觸，如圖3及圖4所示。接著，進入步驟204中，以一流體導引管320罩住鏡片313，流體導引管320具有相對的一流體入口端322及一流體出口端324，流體出口端322是位于研磨襯墊315的上方，并納入鏡片312，如圖5所示。其中，流體入口端322的開口大小是小于流體出口端324的開口大小，而流體出口端324具有數(shù)個夾持擋板，如3個夾持擋板326，用以與鏡片312的側面碰觸并夾持鏡片312。
然后，進入步驟206中，由流體入口端322連續(xù)通入一流體328于流體導引管320中，流體328是由流體導引管320及鏡片312的側面之間的空隙和流體出口端324流出于流體導引管320外，如圖6所示。在圖6中，在流體328于流體導引管320中流動時，流體328將會沖擊光學膜313的表面，流體328是可沿著光學膜313的表面的法線方向平均地施力于光學膜313的表面上，使得待研磨面314與研磨襯墊315可以緊密接觸。其中，流體328必須不能夠與光學膜313產生反應。接著，沿著研磨襯墊315的表面的切線方向移動研磨襯墊315，以研磨待研磨面314。
此外，鏡片312可以是應用于氣體激光上的鏡片。因此，本發(fā)明可以將氣體激光上原本要丟棄的鏡片研磨后再重新利用，以提高鏡片的再利用率，而節(jié)省鏡片更換的開銷。
當流體328是一去離子水或其它液體時，本發(fā)明可以在待研磨面314被研磨好后更包括以下的步驟首先，停止研磨襯墊315的移動。接著，停止去離子水或其它液體的提供，并由流體入口端322通入一氣體于流體導引管320中，以吹干光學膜313，避免光學膜313上殘留水痕或液體殘留痕跡。其中，此用以吹干光學膜313的氣體是一熱氮氣。
本發(fā)明上述實施例所揭示的鏡片研磨方法，其以流體施力于光學膜的非機械接觸式的研磨設計，可以避免于研磨鏡片的待研磨面時傷害到光學膜，而提高鏡片的再利用率，并節(jié)省鏡片更換的開銷。
雖然本發(fā)明已參照當前的具體實施例來描述，但是本技術領域中的普通技術人員應當認識到，以上的實施例僅是用來說明本發(fā)明，應理解其中可作各種變化和修改而在廣義上沒有脫離本發(fā)明，所以并非作為對本發(fā)明的限定，只要在本發(fā)明的實質精神范圍內，對以上所述實施例的變化、變形都將落在本發(fā)明權利要求書的范圍內。
權利要求
1.一種鏡片研磨方法，至少包括置放一鏡片于一研磨襯墊的表面上，其中，該鏡片具有相對的一光學膜及一待研磨面，該待研磨面是與該研磨襯墊的表面接觸；以一流體導引管罩住該鏡片，其中，該流體導引管具有相對的一流體入口端及一流體出口端，該流體出口端具有數(shù)個夾持擋板，該流體出口端是位于該研磨襯墊的上方，并納入該鏡片，這些夾持擋板是與該鏡片的側面接觸并夾持該鏡片；由該流體入口端連續(xù)通入一流體于該流體導引管中，該流體是由該流體出口端流出，其中，該流體是可沿著該光學膜的表面的法線方向平均地施力于該光學膜的表面上，使得該待研磨面與該研磨襯墊緊密接觸；以及沿著該研磨襯墊的表面的切線方向移動該研磨襯墊，以研磨該待研磨面。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于該流體是一液體。
3.如權利要求2所述的方法，其特征在于該流體是一去離子水。
4.如權利要求2所述的方法，其特征在于該方法子該待研磨面被研磨好后還包括停止該研磨襯墊的移動；以及停止該液體的提供，并由該流體入口端通入一氣體于該流體導引管中，以吹干該光學膜的表面。
5.如權利要求4所述的方法，其特征在于該氣體是一熱氮氣。
6.如權利要求1所述的方法，其特征在于該流體入口端的開口大小是小于該流體出口端的開口大小。
7.如權利要求1所述的方法，其特征在于該鏡片是一應用于氣體激光上的鏡片。
8.一種鏡片研磨方法，至少包括置放一鏡片于一研磨襯墊的表面上，其中，該鏡片具有相對的一光學膜及一待研磨面，該待研磨面是與該研磨襯墊的表面接觸；以一流體導引管罩住該鏡片，其中，該流體導引管具有相對的一流體入口端及一流體出口端，該流體出口端具有數(shù)個夾持擋板，該流體出口端是位于該研磨襯墊的上方，并納入該鏡片，這些夾持擋板是與該鏡片的側面接觸并夾持該鏡片；由該流體入口端連續(xù)通入一液體于該流體導引管中，該液體是由該流體出口端流出，其中，該液體是可沿著該光學膜的表面的法線方向平均地施力于該光學膜的表面上，使得該待研磨面與該研磨襯墊緊密接觸；沿著該研磨襯墊的表面的切線方向移動該研磨襯墊，以研磨該待研磨面；于該待研磨面被磨好后停止該研磨襯墊的移動；以及停止該液體的提供，并由該流體入口端通入一氣體于該流體導引管中，以吹干該光學膜的表面。
9.如權利要求8所述的方法，其特征在于該液體是一去離子水。
10.如權利要求8所述的方法，其特征在于該氣體是一熱氮氣。
11.如權利要求8所述的方法，其特征在于該流體入口端的開口大小是小于該流體出口端的開口大小。
12.如權利要求8所述的方法，其特征在于該鏡片是一應用于氣體激光上的鏡片。
全文摘要
一種鏡片研磨方法，首先，置放鏡片于研磨襯墊上，鏡片具有光學膜及待研磨面。接著，以流體導引管罩住鏡片，流體導引管具有流體入口端及流體出口端。流體出口端是位于研磨襯墊的上方，并納入鏡片。然后，由流體入口端連續(xù)通入一流體于流體導引管中，流體是由流體出口端流出。流體可沿著光學膜的表面的法線方向平均地施力于光學膜的表面上。接著，沿著研磨襯墊的表面的切線方向移動研磨襯墊，以研磨待研磨面。
文檔編號B24B13/00GK1537701SQ20031010285
公開日2004年10月20日 申請日期2003年10月22日 優(yōu)先權日2003年10月22日
發(fā)明者曹義昌, 林文章 申請人:友達光電股份有限公司