專利名稱：噴射沉積制備大型環(huán)件的方法及其設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種噴射沉積制備大型環(huán)件的方法，本發(fā)明還涉及該方法所使用的設(shè)備。
背景技術(shù)：
大型環(huán)型結(jié)構(gòu)件，特別是Al、Mg輕合金環(huán)件，廣泛地用于宇航、航空、交通、能量工業(yè)等方面，如宇航空間站的圈梁、框架；航空航天器的艙門、法蘭；高速列車制動(dòng)盤、大型工程機(jī)械、框架材料等。大型環(huán)件的傳統(tǒng)制備方法是采用鑄造錠坯鍛造厚板，再機(jī)加工成形(掏空)的工藝路線，這樣的環(huán)件材料利用率低，變形不均勻?qū)е陆M織均勻性差，產(chǎn)品成本高，力學(xué)性能不夠理想。若采用鑄造環(huán)形錠坯，再鍛造成形和機(jī)加工成形的工藝路線，則存在鑄造工藝復(fù)雜，鑄坯質(zhì)量差等的問題。
對于大型或特大型環(huán)件(直徑3.5米以上)，由于厚徑比相對較小，鑄造成型除了造型、澆鑄方面的困難外，同時(shí)將由于鑄件大型化造成冷速低、組織粗大、性能低劣，特別是環(huán)件的周向凝固收縮量大，難以避免所產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力使環(huán)件嚴(yán)重變形，以至開裂等問題。據(jù)悉，國內(nèi)某大型鋁加工廠對于大型鋁合金環(huán)件的成型，采用先鑄造與環(huán)件同直徑的實(shí)心盤形件，然后通過機(jī)加工將其“挖空”制成環(huán)件，造成了人力、財(cái)力上的巨大浪費(fèi)。
粉末冶金方法制備的材料雖然性能優(yōu)異，但在制備大型結(jié)構(gòu)件，特別是環(huán)狀件的需要特大型的模具壓力機(jī)和燒結(jié)設(shè)備，這是目前無法克服的工藝與設(shè)備問題。在壓制成型、燒結(jié)方面無法進(jìn)行，因?yàn)闆]有如此大型的壓力機(jī)和燒結(jié)爐。
二十世紀(jì)七十年代初提出的噴射沉積工藝是介于鑄造冶金與粉末冶金之間的第三種材料坯件的成型方法，其基本原理是將熔融金屬或合金通過高壓高速惰性氣體霧化，形成顆粒噴射流，直接噴射在相對較冷的基體上，經(jīng)過撞擊、聚結(jié)、凝固而形成沉積坯。作為一種新型的快速凝固制坯方法，該技術(shù)被廣泛用于制備各種合金及復(fù)合材料管、錠和板坯等。傳統(tǒng)的噴射沉積由于在沉積過程中，坯件成型僅僅依賴基體運(yùn)動(dòng)，噴射流采用較大流量一次掃描沉積而成，難以制備大型坯件，沉積過程凝固冷速較低組織在制備大尺寸的厚壁管板坯和大直徑圓柱錠坯時(shí)，組織成普通鑄狀組織易于惡化成普通鑄組織。申請人在近年來發(fā)明了公告號為“CN1115217”的專利“移動(dòng)坩堝自動(dòng)化控制噴射沉積制坯方法及其裝置”，克服了傳統(tǒng)噴射沉積技術(shù)的諸多缺陷，成功地制備出尺寸精確、組織微細(xì)、均勻性能優(yōu)異的大型管坯、錠坯及板坯。但對于大型環(huán)件，特別是直徑大于3000～4000mm厚徑比較小的特大型環(huán)件的制備，由于沉積坯在冷卻過程不可避免產(chǎn)生體積收縮，特別是周向收縮量大、而產(chǎn)生巨大的熱應(yīng)力，致使其開裂崩斷，這一問題一直有待于解決。
綜上所述，大型環(huán)件的制備無論是鑄造，粉末冶金工藝還是現(xiàn)有的傳統(tǒng)噴射沉積工藝都無法很好地解決大尺寸環(huán)件的制備問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種對于大型環(huán)件的制備不會(huì)產(chǎn)生開裂崩斷的噴射沉積制備大型環(huán)件的方法。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供該方法所采用的設(shè)備。
為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是一種噴射沉積制備大型環(huán)件的方法，將熔融金屬或合金在惰性氣體中霧化，形成顆粒噴射流，直接噴射在較冷的基體上，經(jīng)撞擊、聚結(jié)、凝固而形成沉積坯，且坩堝和霧化器的運(yùn)動(dòng)以及基體的旋轉(zhuǎn)、升降運(yùn)動(dòng)均由智能控制，基體采用內(nèi)熱方法加熱，其特征是熔融金屬過熱溫度為150～350℃，噴射高度為100～300mm，霧化氣壓為0.8～1.2MPa，液流直徑為3.0～6.0mm，基體轉(zhuǎn)速為1～10rpm，坩堝運(yùn)動(dòng)速率為5～20mm/s，基體升降速度為0.1～1.0mm/min。
作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，制備沉積基體為大直徑、扁平圓柱型時(shí)，沉積基體及沉積基體加熱機(jī)構(gòu)通過輪輻固定在主軸上，主軸可作旋轉(zhuǎn)、升降運(yùn)動(dòng)，且加熱機(jī)構(gòu)與沉積基體之間保留一定距離，沉積基體采用非連續(xù)形式，即由若干弧形板構(gòu)成，板與板之間留有伸縮縫，當(dāng)沉積坯冷凝收縮時(shí)，起松馳應(yīng)力的作用，收縮縫上預(yù)先設(shè)置蓋板，防止噴射流進(jìn)入，沉積基體與蓋板依靠兩側(cè)的測壓板夾持以摩擦力固定在輪輻上，融熔金屬霧化噴射流噴向環(huán)型沉積基體側(cè)面，沉積層沿徑向長大。
該方法所采用的設(shè)備的結(jié)構(gòu)是霧化室上方設(shè)有由曲柄連桿機(jī)構(gòu)帶動(dòng)坩堝和噴槍運(yùn)動(dòng)的噴射霧化系統(tǒng)，主軸水平設(shè)置在所述的霧化室內(nèi)，在所述的主軸上徑向設(shè)有與噴射霧化系統(tǒng)對應(yīng)的由若干弧形板構(gòu)成的環(huán)型沉積基體板及基體板加熱電爐，所述的主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)置在主軸支撐系統(tǒng)上，所述的主軸支撐系統(tǒng)設(shè)置在主軸升降系統(tǒng)上，所述的噴射霧化系統(tǒng)、主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和主軸升降系統(tǒng)均由智能控制。
噴射沉積制備環(huán)件時(shí)，坩堝內(nèi)的熔融金屬流徑噴槍，被高壓氣體霧化成噴射流，直接沉積在環(huán)型沉積基體板上，環(huán)型沉積基體板一方面隨主軸作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，另一方面隨沉積層厚度增加隨主軸升降系統(tǒng)作下降移動(dòng)。坩堝及噴槍由曲柄連桿機(jī)構(gòu)帶動(dòng)作水平往返運(yùn)動(dòng)使噴射流在基體板上左右掃描。掃描的距離為環(huán)型坯件的高度，基體板的下降高度決定坯件的外徑。環(huán)型沉積基體板的直徑?jīng)Q定于環(huán)件的內(nèi)徑。
作為本發(fā)明的另一種改進(jìn)，沉積基體采用圓盤環(huán)形基體板，盤面朝上，霧化噴射流直接在盤面上往返掃描形成沉積層，沉積層不斷累積形成環(huán)形坯件，沉積基體一方面作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，同時(shí)隨沉積層增高作下降移動(dòng)，下降的距離即為環(huán)形坯件的高度，圓盤環(huán)形基體板中心不存在支撐機(jī)構(gòu)，圓盤環(huán)形基體板冷凝時(shí)徑向不受制約，可自由收縮以消除熱應(yīng)力。
該方法所采用的設(shè)備的結(jié)構(gòu)是霧化室上方設(shè)有由曲柄連桿機(jī)構(gòu)帶動(dòng)坩堝和噴槍運(yùn)動(dòng)的噴射霧化系統(tǒng)，主軸垂直設(shè)置在所述的霧化室內(nèi)，在所述的主軸上端徑向設(shè)有與噴射霧化系統(tǒng)對應(yīng)的環(huán)型沉積基體板及基體板加熱電爐，所述的主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)置在主軸支撐系統(tǒng)上，所述的主軸支撐系統(tǒng)設(shè)置在主軸升降系統(tǒng)上，所述的噴射霧化系統(tǒng)、主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和主軸升降系統(tǒng)均由智能控制。
噴射沉積過程中，坩堝中的熔融金屬通過噴槍被高壓氣壓霧化形成噴射流直接沉積在環(huán)形沉積基體板上，形成沉積層，沉積層不斷累積形成環(huán)形坯件。坩堝及噴槍作水平運(yùn)動(dòng)，使噴射流在基體上往返掃描，掃描的距離決定于環(huán)件的厚度，環(huán)形沉積基體板一方面隨主軸作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，同時(shí)隨沉積層增高隨主軸升降系統(tǒng)作下降移動(dòng)，下降的距離即為環(huán)形坯件的高度。
本發(fā)明采用沉積基體結(jié)構(gòu)以及噴射沉積方法，結(jié)合移動(dòng)坩堝運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的智能控制，與基體的旋轉(zhuǎn)、下降運(yùn)動(dòng)有機(jī)地結(jié)合，提供了一套全新的大尺寸環(huán)件的噴射沉積制備方法及其裝置。提供了一套全新的噴射沉積方法及設(shè)備，成功地解決了大型環(huán)件及其復(fù)合材料的制備，且產(chǎn)品組織均勻、晶粒度達(dá)到幾十μm以下，材料利用率高，坯錠尺寸可以任意大。性能優(yōu)越，環(huán)件尺寸精度高，成本低廉，可以進(jìn)行大規(guī)模的連續(xù)生產(chǎn)。


圖1是本發(fā)明立式噴射沉積制備環(huán)件裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是立式噴射沉積制備環(huán)件裝置基體板及加熱電爐結(jié)構(gòu)如圖；圖3是圖2中A--A向剖視圖；圖4是本發(fā)明臥式噴射沉積制備環(huán)件裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式
實(shí)施例1參見圖1、圖2和圖3，利用立式噴射沉積制備環(huán)件裝置制備沉積基體為大直徑、扁平圓柱型，采用如附表所示工藝參數(shù)，成功地制備出了直徑為3700mm，厚300mm，高200mm，質(zhì)量約為1.2t的特大型5005鋁合金環(huán)件。環(huán)件表面狀態(tài)良好，無任何裂紋。
附表 大型環(huán)件噴射沉積工藝參數(shù)

霧化室12上方設(shè)有由曲柄連桿機(jī)構(gòu)1帶動(dòng)坩堝20和噴槍19運(yùn)動(dòng)的噴射霧化系統(tǒng)，在霧化室12下部設(shè)有排風(fēng)口11，主軸15水平設(shè)置在霧化室12內(nèi)，所述的主軸15與所述的霧化室12之間設(shè)有密封滑板13，在主軸15上徑向設(shè)有與噴射霧化系統(tǒng)對應(yīng)的由若干弧形板21構(gòu)成的環(huán)型沉積基體板18及基體板加熱電爐17，主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)置在主軸支撐系統(tǒng)5上，主軸支撐系統(tǒng)5設(shè)置在主軸升降系統(tǒng)上，所述的噴射霧化系統(tǒng)、主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和主軸升降系統(tǒng)均由智能控制。
主軸支撐系統(tǒng)5通過固定在機(jī)座26上的滑桿27套裝在機(jī)座26上。
主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)主軸回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)4通過鏈傳動(dòng)3與主軸15傳動(dòng)聯(lián)接。
主軸升降系統(tǒng)包掛主軸驅(qū)動(dòng)電機(jī)7通過鏈傳動(dòng)9、傳動(dòng)軸系8與左升降絲桿6、右升降絲桿10傳動(dòng)聯(lián)接，所述的左升降絲桿6、右升降絲桿10與主軸支撐系統(tǒng)5傳動(dòng)聯(lián)接。
主軸回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)4通過鏈傳動(dòng)機(jī)構(gòu)3驅(qū)動(dòng)主軸15繞軸向旋轉(zhuǎn)，環(huán)型沉積基體板18，基體板加熱電爐17依靠輪輻16固定在主軸15上，并隨之一同旋轉(zhuǎn)。主軸15通過軸承依托左升降支架2、右升降支架14支撐在主軸支撐系統(tǒng)5上。主軸升降驅(qū)動(dòng)電機(jī)7經(jīng)減速機(jī)通過鏈傳動(dòng)9及傳動(dòng)軸系8驅(qū)動(dòng)左旋升降絲桿6以及右旋升降絲桿10旋轉(zhuǎn)。左升降絲桿6、右升降絲桿10的轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)主軸支撐系統(tǒng)5作上、下移動(dòng)。左升降支架2、鏈傳動(dòng)機(jī)構(gòu)3、右升降支架14、主軸15、輪輻16固定在主軸支撐系統(tǒng)5上，隨之同步作上、下移動(dòng)。主軸15移動(dòng)時(shí)與霧化室12之間利用密封滑板13密封，防止霧化過噴粉末噴出。曲柄連桿機(jī)構(gòu)1，通過導(dǎo)板帶動(dòng)坩堝20、噴槍19作水平往返運(yùn)動(dòng)。
噴射沉積制備環(huán)件時(shí)，坩堝20內(nèi)的熔融金屬流徑噴槍19，被高壓氣體霧化成噴射流，直接沉積在環(huán)型沉積基體板18上，環(huán)型沉積基體板18一方面隨主軸15作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，另一方面隨沉積層厚度增加隨主軸支撐系統(tǒng)5作下降移動(dòng)。坩堝20及噴槍19水平往返運(yùn)動(dòng)使噴射流在環(huán)型沉積基體板18上左右掃描。掃描的距離為環(huán)型坯件的高度，環(huán)型沉積基體板18的下降高度決定坯件的外徑。環(huán)型沉積基體板18的直徑?jīng)Q定于環(huán)件的內(nèi)徑。
環(huán)型沉積基體板18采用非連續(xù)形式，即由若干弧形板21構(gòu)成，板與板之間留有伸縮縫22，當(dāng)沉積坯冷凝收縮時(shí)，起松馳應(yīng)力的作用。為防止噴射開始時(shí)噴射物進(jìn)入伸縮縫22中，伸縮縫22事先采用蓋板24蓋住。蓋板24將收縮縫22蓋住，基體板加熱電爐17與弧形板21之間保留一定距離。側(cè)壓板25通螺栓23固定在輪輻16上，依靠磨擦力夾持弧形板21及蓋板24。
實(shí)施例2參見圖4，用臥式噴射沉積制備環(huán)件裝置圓盤環(huán)形基體板，采用附表所示的工藝參數(shù)，成功地制備出1200mm×200mm×200mmA359/SiCp鋁基復(fù)合材料環(huán)件，經(jīng)后續(xù)加工后可用于制備高速列車用鋁基復(fù)合材料制動(dòng)盤。
霧化室317上方設(shè)有由曲柄連桿機(jī)構(gòu)31帶動(dòng)坩堝321和噴槍320運(yùn)動(dòng)的噴射霧化系統(tǒng)，霧化室317由機(jī)座322支撐，霧化室317外層設(shè)有帶進(jìn)水口35和出水口323的水冷夾層318，下部設(shè)有排風(fēng)口316，主軸34垂直設(shè)置在霧化室317內(nèi)，在主軸34上端水平設(shè)有與噴射霧化系統(tǒng)對應(yīng)的基體環(huán)板32及加熱電爐33，主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)置在主軸支撐系統(tǒng)上，主軸支撐系統(tǒng)設(shè)置在主軸升降系統(tǒng)上，所述的噴射霧化系統(tǒng)、主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和主軸升降系統(tǒng)均由智能控制。
主軸支撐系統(tǒng)導(dǎo)向桿310和升降絲桿311固裝在機(jī)座322上，主軸升降滑動(dòng)箱314套裝在導(dǎo)向桿310上，用于支撐主軸34的主軸上支撐36和主軸下支撐39安裝在主軸升降滑動(dòng)箱314上。
主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)主軸旋轉(zhuǎn)電機(jī)38通過旋轉(zhuǎn)傳動(dòng)齒輪37與主軸34傳動(dòng)聯(lián)接。
主軸升降系統(tǒng)主軸升降電機(jī)313安裝在主軸升降滑動(dòng)箱314，主軸升降滑動(dòng)箱314套裝在導(dǎo)向柱310上，導(dǎo)向柱310和升降絲桿311設(shè)置在機(jī)座322上，主軸升降電機(jī)313通過升降傳動(dòng)齒輪312與升降絲桿311傳動(dòng)聯(lián)接。
基體旋轉(zhuǎn)電機(jī)38通過旋轉(zhuǎn)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)37，以齒輪帶動(dòng)主軸34旋轉(zhuǎn)?；w環(huán)板32通過法蘭固定在主軸34并隨之一同旋轉(zhuǎn)。主軸升降電機(jī)313驅(qū)動(dòng)升降齒輪傳動(dòng)機(jī)構(gòu)312通過升降絲桿311使主軸升降滑動(dòng)箱314系統(tǒng)沿導(dǎo)向柱310作上、下移動(dòng)。主軸34通過主軸上支撐36、主軸下支撐39與主軸升降滑動(dòng)箱14連接，基體旋轉(zhuǎn)電機(jī)38、旋轉(zhuǎn)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)37、主軸升降電機(jī)313、升降齒輪傳動(dòng)機(jī)構(gòu)312、主軸上支撐36、主軸下支撐39、主軸34、升降箱體滑套315與主軸34構(gòu)成一個(gè)整體同步移動(dòng)。曲柄連桿機(jī)構(gòu)31通過導(dǎo)板319帶動(dòng)坩堝321及噴槍320作水平往返運(yùn)動(dòng)。坩堝321、噴槍320固定在導(dǎo)板319上。
噴射沉積過程中，坩堝321中的熔融金屬通過噴槍320被高壓氣壓霧化形成噴射流直接沉積在基體環(huán)板32上，形成沉積層，沉積層不斷累積形成環(huán)形坯件。
坩堝321及噴槍320水平運(yùn)動(dòng)，使噴射流在基體環(huán)板32上往返掃描，掃描的距離決定于環(huán)件的厚度，基體環(huán)板32一方面隨主軸34作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，同時(shí)隨沉積層增高隨主軸34作下降移動(dòng)。下降的距離即為環(huán)形坯件的高度。
權(quán)利要求
1.一種噴射沉積制備大型環(huán)件的方法，將熔融金屬或合金在惰性氣體中霧化，形成顆粒噴射流，直接噴射在較冷的基體上，經(jīng)撞擊、聚結(jié)、凝固而形成沉積坯，且坩堝和霧化器的運(yùn)動(dòng)以及基體的旋轉(zhuǎn)、升降運(yùn)動(dòng)均由智能控制，基體采用內(nèi)熱方法加熱，其特征是熔融金屬過熱溫度為150～350℃，噴射高度為100～300mm，霧化氣壓為0.8～1.2MPa，液流直徑為3.0～6.0mm，基體轉(zhuǎn)速為1～10rpm，坩堝運(yùn)動(dòng)速率為5～20mm/s，基體升降速度為0.1～1.0mm/min。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴射沉積制備大型環(huán)件的方法，其特征是制備沉積基體為大直徑、扁平圓柱型時(shí)，沉積基體及沉積基體加熱機(jī)構(gòu)通過輪輻固定在主軸上，主軸可作旋轉(zhuǎn)、升降運(yùn)動(dòng)，且加熱機(jī)構(gòu)與沉積基體之間保留一定距離，沉積基體采用非連續(xù)形式，即由若干弧形板構(gòu)成，板與板之間留有伸縮縫，當(dāng)沉積坯冷凝收縮時(shí)，起松馳應(yīng)力的作用，收縮縫上預(yù)先設(shè)置蓋板，防止噴射流進(jìn)入，沉積基體與蓋板依靠兩側(cè)的測壓板夾持以摩擦力固定在輪輻上，融熔金屬霧化噴射流噴向環(huán)型沉積基體側(cè)面，沉積層沿徑向長大。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴射沉積制備大型環(huán)件的方法，其特征是沉積基體采用圓盤環(huán)形基體板，盤面朝上，霧化噴射流直接在盤面上往返掃描形成沉積層，沉積層不斷累積形成環(huán)形坯件，沉積基體一方面作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，同時(shí)隨沉積層增高作下降移動(dòng)，下降的距離即為環(huán)形坯件的高度，圓盤環(huán)形基體板中心不存在支撐機(jī)構(gòu)，圓盤環(huán)形基體板冷凝時(shí)徑向不受制約，可自由收縮以消除熱應(yīng)力。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的噴射沉積制備大型環(huán)件的設(shè)備，其特征是霧化室(12)上方設(shè)有由曲柄連桿機(jī)構(gòu)(1)帶動(dòng)坩堝(20)和噴槍(19)運(yùn)動(dòng)的噴射霧化系統(tǒng)，主軸(15)水平設(shè)置在所述的霧化室(12)內(nèi)，在所述的主軸(15)上同軸設(shè)有與噴射霧化系統(tǒng)對應(yīng)的由若干弧形板(21)構(gòu)成的環(huán)型沉積基體板(18)及環(huán)型基體板加熱電爐(17)，主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)置在主軸支撐系統(tǒng)(5)上，所述的主軸支撐系統(tǒng)(5)設(shè)置在主軸升降系統(tǒng)上，所述的噴射霧化系統(tǒng)、主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和主軸升降系統(tǒng)均由智能控制。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的噴射沉積制備大型環(huán)件的設(shè)備，其特征是霧化室(317)上方設(shè)有由曲柄連桿機(jī)構(gòu)(31)帶動(dòng)坩堝(321)和噴槍(320)運(yùn)動(dòng)的噴射霧化系統(tǒng)，主軸(34)垂直設(shè)置在所述的霧化室(317)內(nèi)，在所述的主軸(34)上端水平設(shè)有與噴射霧化系統(tǒng)對應(yīng)的環(huán)型沉積基體板(32)及基體板加熱電爐(33)，主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)設(shè)置在主軸支撐系統(tǒng)上，所述的主軸支撐系統(tǒng)設(shè)置在主軸升降系統(tǒng)上，所述的噴射霧化系統(tǒng)、主軸驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和主軸升降系統(tǒng)均由智能控制。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種噴射沉積制備大型環(huán)件的方法，將熔融金屬或合金在惰性氣體中霧化，形成顆粒噴射流，直接噴射在較冷的基體上，經(jīng)撞擊、聚結(jié)、凝固而形成沉積坯，且坩堝和霧化器的運(yùn)動(dòng)以及基體的旋轉(zhuǎn)、升降運(yùn)動(dòng)均由智能控制，基體采用內(nèi)熱方法加熱，其特征是熔融金屬過熱溫度為150℃～ 350℃，噴射高度為100～300mm，霧化氣壓為0.8～1.2MPa，液流直徑為3.0～6.0mm，基體轉(zhuǎn)速為1～10rpm，坩堝運(yùn)動(dòng)速率為5～20mm/s，基體升降速度為0.1～1.0mm/min。本發(fā)明還公開了該方法所采用的設(shè)備。本發(fā)明是一種對于大型環(huán)件的制備不會(huì)產(chǎn)生開裂崩斷的噴射沉積制備大型環(huán)件的方法。
文檔編號B22F3/115GK1559727SQ20041002295
公開日2005年1月5日 申請日期2004年3月5日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月5日
發(fā)明者陳振華, 陳剛, 嚴(yán)紅革, 傅定發(fā) 申請人:湖南大學(xué)