專利名稱：Mg或Mg合金機(jī)殼及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及Mg或Mg合金機(jī)殼和制造這種Mg或Mg合金機(jī)殼的方法。在這種機(jī)殼中，在Mg或Mg合金制成的鑄造產(chǎn)品的表面上簡便地形成化學(xué)轉(zhuǎn)化膜，以便提高材料利用率。
背景技術(shù)：
近來，將移動(dòng)設(shè)備例如筆記本電腦和個(gè)人數(shù)字助理(PDA)帶到戶外使用的機(jī)會(huì)越來越多。對(duì)設(shè)備的小型化及減輕設(shè)備的厚度和重量的要求也隨之增加，因此，這就需要減輕占設(shè)備總質(zhì)量30％的機(jī)殼的厚度。然而，在減輕設(shè)備厚度的情況下，用樹脂機(jī)殼很難保持足夠的強(qiáng)度。而且，筆記本電腦中微處理器(MPU)的產(chǎn)熱量會(huì)增加。用交流電驅(qū)動(dòng)時(shí)產(chǎn)熱量預(yù)計(jì)可達(dá)13W到16W，所以，急需開發(fā)出具有高散熱性能的機(jī)殼。
為解決上述問題，具有低重量和高導(dǎo)熱性的輕金屬例如Al、Mg、Mg合金等成為用作機(jī)殼材料而被關(guān)注的焦點(diǎn)。特別地，Mg或Mg合金較輕，即，其重量為Al的約70％，而且還具有優(yōu)異的再生性。作為Mg或Mg合金，已經(jīng)投入實(shí)際應(yīng)用的有Mg-Al-Zn體系、Mg-Al-Mn體系、Mg或Mg-Al-Si體系、Mg-Al-RE(稀土元素)體系等。將這些材料通過壓鑄、觸變性鑄模、板金加工等進(jìn)行鑄造，并進(jìn)行化學(xué)轉(zhuǎn)化處理，再對(duì)這樣所得的化學(xué)轉(zhuǎn)化產(chǎn)品進(jìn)行覆膜處理。壓鑄是指在壓力下將熔化的金屬注入模具而得到鑄造產(chǎn)品的方法。觸變性鑄模是指將半熔化或熔化的金屬從大約600℃的壓出機(jī)中擠入大約250℃的模具而得到鑄造產(chǎn)品的方法。
化學(xué)轉(zhuǎn)化處理是指在Mg或Mg合金表面形成一種具有抗腐蝕作用的化學(xué)轉(zhuǎn)化覆膜的處理方法。按照這種處理方法，將Mg或Mg合金浸入主要含有六價(jià)鉻的鉻酸溶液或不含六價(jià)鉻的非鉻酸溶液等中，由此在Mg或Mg合金表面形成鉻酸的鉻復(fù)鹽覆膜(通常是，xCrO3·yCr2O3·2H2O，Cr(OH)2·HCrO4·2H2O等)。在化學(xué)轉(zhuǎn)化處理后，進(jìn)行覆膜處理。日本特開平11(1999)-131255A和特開2000-96255A中提出了這些化學(xué)轉(zhuǎn)化處理的方法。
用Mg或Mg合金作為材料來制造產(chǎn)品時(shí)存在以下問題。通過壓鑄、觸變性鑄模等制得的鑄造產(chǎn)品有毛刺。目前，這種毛刺可以通過手工的或機(jī)械的在壓力下沖壓、切削等去除，這些操作都很麻煩。也可以用向鑄造產(chǎn)品氣噴顆粒的噴砂清理方法來清除這些毛刺。在此情況下還有以下問題?？赡軙?huì)有Mg或Mg合金的塵粒產(chǎn)生并飛散，從而導(dǎo)致較差的可操作性和粉塵爆炸的高危險(xiǎn)性。
此外，進(jìn)行上述化學(xué)轉(zhuǎn)化處理時(shí)需要預(yù)處理。通常按如下方法進(jìn)行化學(xué)轉(zhuǎn)化處理。將上述鑄造產(chǎn)品除油污，再酸洗。然后，對(duì)該鑄造產(chǎn)品進(jìn)行浸蝕以去除鑄造過程中所使用的脫模劑。接著，進(jìn)行以下表面調(diào)整處理打磨鑄造產(chǎn)品的表面，使之光潔，以便在鑄造產(chǎn)品表面形成鉻酸的鉻復(fù)鹽覆膜。上述處理即為預(yù)處理。隨后，將鑄造產(chǎn)品浸入上述鉻酸溶液或非鉻酸溶液中，進(jìn)行化學(xué)轉(zhuǎn)化處理。接著，用水沖洗所得的鑄造產(chǎn)品，并在大約70℃干燥，由此使化學(xué)轉(zhuǎn)化膜固化。因此，化學(xué)轉(zhuǎn)化膜的預(yù)處理需要有諸如除油污、沖洗、通過浸蝕進(jìn)行表面調(diào)整處理等多個(gè)步驟，這使得操作繁瑣，處理設(shè)備復(fù)雜，而且增加了處理成本。
在通過壓鑄、觸變性鑄模等制造的鑄造產(chǎn)品中，會(huì)產(chǎn)生例如縮孔、砂眼、熱液流動(dòng)痕跡(hot water flow)等鑄造缺陷。在檢查鑄造缺陷(縮孔、砂眼、流動(dòng)等)的過程中，對(duì)鑄造產(chǎn)品的局部進(jìn)行手動(dòng)擦光，以便使該鑄造產(chǎn)品易于觀察，隨后進(jìn)行目測檢查。此時(shí)，擦光以手動(dòng)進(jìn)行，這使檢查變得麻煩，而且在擦光過程中會(huì)產(chǎn)生塵粒。作為例如擦光等調(diào)整表面的方法，日本特開2003-284457A提出了濕式噴射研磨法。此外，特開2000-263442A提出了一種連續(xù)進(jìn)行的濕噴射研磨法，以此作為化學(xué)轉(zhuǎn)化處理的預(yù)處理手段。
上述常規(guī)技術(shù)(采用濕式噴射研磨法作為化學(xué)轉(zhuǎn)化處理的預(yù)處理手段)及步驟的數(shù)目等均與常規(guī)化學(xué)處理中的相似，所以在成本等方面的改善效果較小。而且，在進(jìn)行化學(xué)轉(zhuǎn)化處理前，有缺陷的鑄造產(chǎn)品需要用油灰填平來進(jìn)行矯正，因而降低了材料利用率且增加了成本。

發(fā)明內(nèi)容
所以，鑒于前面所述，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種Mg或Mg合金機(jī)殼和制造這種Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，在這種機(jī)殼中，在由Mg或Mg合金制成的鑄造產(chǎn)品的表面上簡便地形成化學(xué)轉(zhuǎn)化膜，從而減少涂抹油灰的矯正工作，增加了材料利用率，并且降低了成本。
本發(fā)明的Mg或Mg合金機(jī)殼的特征在于，用含有化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑和研磨劑的溶液對(duì)Mg或Mg合金機(jī)殼表面進(jìn)行濕式噴射研磨，由此，在Mg或Mg合金機(jī)殼表面形成化學(xué)轉(zhuǎn)化膜。
本發(fā)明的Mg或Mg合金機(jī)殼的制造方法的特征在于，用含有化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑和研磨劑的溶液對(duì)Mg或Mg合金機(jī)殼表面進(jìn)行濕式噴射研磨，由此，在Mg或Mg合金機(jī)殼表面因噴砂而變得不平整，同時(shí)形成化學(xué)轉(zhuǎn)化膜。
參照附圖，通過對(duì)以下詳細(xì)描述進(jìn)行閱讀和理解，本發(fā)明的上述和其他優(yōu)點(diǎn)對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員將是顯而易見的。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例1的工藝流程圖。
圖2是比較例1的工藝流程圖。
圖3是本發(fā)明實(shí)施例1中筆記本電腦機(jī)殼的表面觀察照片。
圖4是比較例1中筆記本電腦機(jī)殼的表面觀察照片。
圖5A到5C是本發(fā)明實(shí)施例1中的劃格法附著力試驗(yàn)結(jié)果的表面觀察照片。
圖6A到6C是比較例1中的劃格法附著力試驗(yàn)結(jié)果的表面觀察照片。
圖7A到7C是在本發(fā)明實(shí)施例1中，通過鹽水噴霧實(shí)驗(yàn)(SST)評(píng)價(jià)抗腐蝕性所得的表面觀察照片。
圖8A到8C是在比較例1中，通過鹽水噴霧實(shí)驗(yàn)(SST)評(píng)價(jià)抗腐蝕性所得的表面觀察照片。
具體實(shí)施例方式
根據(jù)本發(fā)明，用含有化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑和研磨劑的混合溶液對(duì)Mg或Mg合金機(jī)殼表面進(jìn)行濕式噴射研磨，以在Mg或Mg合金機(jī)殼表面形成一種化學(xué)轉(zhuǎn)化膜，同時(shí)因噴砂使其變得不平整，這樣就無須用油灰補(bǔ)平，從而防止材料利用率的降低和成本的增加。更具體來說，當(dāng)通過濕式噴射研磨法將含有化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑和研磨劑的混合溶液噴在Mg或Mg合金機(jī)殼表面時(shí)，研磨劑會(huì)打磨表面，同時(shí)，由于Mg與化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑發(fā)生反應(yīng)，從而形成適當(dāng)厚度的致密的磷酸鈣-磷酸錳復(fù)合覆膜。這樣，Mg或Mg合金機(jī)殼表面就不會(huì)形成氧化物或氫氧化物膜，這種膜會(huì)降低裸露表面的耐腐蝕性、防銹性、涂膜的附著性和涂膜的耐腐蝕性；相反，其上會(huì)形成磷酸鈣-磷酸錳復(fù)合覆膜，其中，鈣和磷酸有助于增強(qiáng)化學(xué)轉(zhuǎn)化膜的裸露表面的耐腐蝕性，錳有助于增強(qiáng)覆膜的附著性。此外，還消除了化學(xué)轉(zhuǎn)化產(chǎn)品表面的縮孔、砂眼、流動(dòng)等缺陷，這樣，涂覆前就不必用油灰填平進(jìn)行矯正，并且可降低成本。
為解決上述問題，本發(fā)明的發(fā)明人進(jìn)行了認(rèn)真研究，并最終發(fā)現(xiàn)，例如，作為由Mg或Mg合金所制機(jī)殼的覆膜處理的預(yù)處理和防銹處理，對(duì)Mg或Mg合金同時(shí)進(jìn)行化學(xué)轉(zhuǎn)化處理和濕式噴射研磨，由此可以解決上述問題。在此，濕式噴射研磨是指這樣一種處理，將液體與研磨劑混合，并在0.1到0.3MPa的壓力下噴射這種混合物。
優(yōu)選地，本發(fā)明所用的化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑包含鈣離子、錳離子和磷酸根離子，還優(yōu)選采用一種溶液進(jìn)行濕式噴射研磨，在該溶液中將含有氧化促進(jìn)劑的水性液體與諸如氧化鋁等研磨劑混合。在濕式噴射研磨中，機(jī)殼的表面打磨和化學(xué)轉(zhuǎn)化涂覆是同時(shí)進(jìn)行的。因此，所形成的涂膜也經(jīng)過了打磨；然而，滿足上述條件才能得到足夠的覆膜。
優(yōu)選地，至少有一種選自氧化鋁、鋯、玻璃和樹脂的微粒材料被用作研磨劑。此外，作為樹脂，可以使用三聚氰胺樹脂、脲醛樹脂、聚酯樹脂、酚樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂等。優(yōu)選地，研磨劑的平均粒徑為10μm～300μm。
作為噴射用的化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑的鈣離子源，可以是硝酸鈣、亞硝酸鈣、硫代硫酸鈣、磷酸四鈣等中的一種或至少兩種的組合。此外，作為錳離子源，可以是碳酸錳、硝酸錳、磷酸氫錳、焦磷酸錳、氟硼酸錳等中的一種或至少兩種的組合。另外，作為磷酸根離子源，可以是正磷酸、縮合磷酸、亞磷酸、次磷酸等中的一種或至少兩種的組合。
此外，作為氧化促進(jìn)劑，可以用氯酸鈉、次氯酸鈉等。在化學(xué)轉(zhuǎn)化處理中，這種氧化促進(jìn)劑可增強(qiáng)Mg或Mg合金與上述各種組分的離子之間的反應(yīng)，由此，更易形成具有理想的裸露表面耐磨性的化學(xué)轉(zhuǎn)化覆膜。此外，為了穩(wěn)定地得到具有上述性能的化學(xué)轉(zhuǎn)化覆膜，氧化促進(jìn)劑組合物的量優(yōu)選是0.02g/L到2g/L。
根據(jù)本發(fā)明，當(dāng)通過濕式噴射將化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑和研磨劑的混合溶液噴射在Mg或Mg合金機(jī)殼表面時(shí)，研磨劑打磨表面，并且由于Mg或Mg合金與化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑發(fā)生反應(yīng)而形成適當(dāng)厚度的致密的磷酸鈣-磷酸錳復(fù)合覆膜。這樣，Mg或Mg合金機(jī)殼表面就不會(huì)形成氧化物或氫氧化物膜，相反，會(huì)形成磷酸鈣-磷酸錳復(fù)合覆膜。優(yōu)選地，通過化學(xué)轉(zhuǎn)化處理形成的復(fù)合覆膜的附著量，以Ca的重量計(jì)為5mg/m2～50mg/m2，以Mn的重量計(jì)為3mg/m2～25mg/m2，以磷的重量計(jì)為30mg/m2～100mg/m2。
此外，優(yōu)選地，化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑的比例為70質(zhì)量％～90質(zhì)量％，研磨劑的比例為10質(zhì)量％～30質(zhì)量％。
在Mg或Mg合金表面形成一種化學(xué)轉(zhuǎn)化覆膜，使之含有上述預(yù)定數(shù)量的鈣、錳和磷，由此得到具有一定裸露表面耐腐蝕性、防銹性、涂膜附著性和涂膜耐腐蝕性的化學(xué)轉(zhuǎn)化覆膜。特別地，鈣和磷被認(rèn)為有助于增強(qiáng)化學(xué)轉(zhuǎn)化覆膜的裸露表面抗腐蝕性，錳有助于增強(qiáng)涂膜附著性。
此外，用研磨劑打磨Mg或Mg合金表面，由此可消除Mg或Mg合金機(jī)殼產(chǎn)品表面的縮孔、砂眼、流動(dòng)等缺陷，而且，涂覆前不必用油灰補(bǔ)平，因而可降低成本。優(yōu)選地，由于濕式噴射研磨溶液中所含研磨劑的打磨作用，Mg或Mg合金機(jī)殼的表面粗糙度為，其10個(gè)點(diǎn)的平均表面粗糙度為0.5μm到100μm。
上述處理之后，優(yōu)選地，用水沖洗所述表面，接著進(jìn)行干燥。而且，在濕式噴射研磨和用水沖洗后，如果將含有鈣離子、錳離子和磷酸根離子(與濕式噴射研磨所用的化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑中的類似)以及氧化促進(jìn)劑的水性液體噴淋到表面上，則可增加該涂膜的厚度，從而增強(qiáng)了耐腐蝕性。
此后，進(jìn)行涂裝處理。在涂裝處理中，可以通過噴涂、電鍍等方式涂覆環(huán)氧樹脂等涂料，然后在其上涂覆三聚氰胺樹脂等涂料。選擇性地，通過靜電涂覆還可以涂覆各種樹脂粉末涂料。
實(shí)施例在下文中，將通過實(shí)施例和比較例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更具體的描述。
實(shí)施例1作為待處理的目標(biāo)構(gòu)件，采用由ASTM AZ91D的Mg或Mg合金經(jīng)觸變性鑄模制造的筆記本電腦機(jī)殼(長329mm，寬274mm，厚2mm)。觸變性鑄模的操作如下將半熔化或熔化的Mg或Mg合金從大約600℃的壓出機(jī)中擠入大約250℃的模具而得到鑄造產(chǎn)品。圖1顯示了表面處理過程。
作為化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑，采用的是一種混合物，該混合物含有80質(zhì)量％的“Grander-Finer MC1000”(由Million Chemical Co.，Ltd.生產(chǎn)15質(zhì)量％～25質(zhì)量％的磷酸、10質(zhì)量％～15質(zhì)量％的錳化合物和10質(zhì)量％～20質(zhì)量％的鈣化合物)和作為研磨劑的20質(zhì)量％的平均顆粒尺寸為40μm的氧化鋁(Macorundum A#320，由Macoho Co.，Ltd.生產(chǎn))。濕式噴射研磨是用由Macoho Co.，Ltd.生產(chǎn)的WFB-2-2C在以下條件下進(jìn)行的壓縮空氣壓力為0.2MPa，泵壓為0.12MPa，機(jī)殼與噴嘴間距為30mm，機(jī)殼以40mm/s(毫米/秒)的速度向前推進(jìn)。用水沖洗機(jī)殼以清除化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑和研磨劑，進(jìn)一步用去離子水沖洗，接著進(jìn)行干燥。
比較例1圖2顯示了比較例在浸蝕后進(jìn)行化學(xué)轉(zhuǎn)化處理的方法。圖2中的表面調(diào)整1和2代表浸蝕處理。
采用“GFMG15SX”(由Million Chemical Co.，Ltd.生產(chǎn))作為脫模劑，并將其溫度保持在70℃。然后，將上述Mg或Mg合金機(jī)殼在脫脂劑中浸泡5分鐘，以使機(jī)殼脫脂，接著用水沖洗。使作為浸蝕劑的“Grander-Finer MG104S”(由Million Chemical Co.，Ltd.生產(chǎn)30質(zhì)量％～40質(zhì)量％的磷酸、少于0.1質(zhì)量％的表面活性劑，其余為水)的濃度保持在5％，溫度為60℃。然后將所述機(jī)殼在該浸蝕劑中浸泡60秒，進(jìn)行浸蝕，接著用水沖洗。此后，將經(jīng)過浸蝕處理的該構(gòu)件浸入溫度保持在60℃的上述“GFMG15SX”(由Million Chemical Co.，Ltd.生產(chǎn))中7分鐘，接著用水沖洗。采用“Grander-Finer MC1000”(由MillionChemical Co.，Ltd.生產(chǎn)15質(zhì)量％～25質(zhì)量％的磷酸、10質(zhì)量％～15質(zhì)量％的錳化合物和10質(zhì)量％～20質(zhì)量％的鈣化合物)作為化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑，并將溫度保持在35℃。然后，將經(jīng)上述處理的Mg或Mg合金機(jī)殼在化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑中浸泡40秒，用水沖洗，進(jìn)一步用去離子水沖洗，接著進(jìn)行干燥。
對(duì)實(shí)施例1和比較例1的外觀進(jìn)行評(píng)價(jià)。此外，用熒光X射線定量測定Mg或Mg合金機(jī)殼表面元素的附著量。在機(jī)殼表面上的選擇五個(gè)部位，并檢查其差異。用由Dia Instruments Co.，Ltd.生產(chǎn)的“Loresta MP”(4-端子雙探針系統(tǒng))檢測電阻。表1和圖3、4顯示了其結(jié)果。圖3是顯示比較例1的外觀的照片，圖4是顯示實(shí)施例1的外觀的照片。實(shí)施例1的外觀是平整的表面，而比較例1的外觀是不平整的。
表1

注1污點(diǎn)是指由于粉末附著所致的外觀缺陷。
此外，在Mg或Mg合金機(jī)殼上，將環(huán)氧型2次涂覆涂層(150℃下烘烤)在高溫高濕環(huán)境(60℃，相對(duì)濕度為95％)中保持100小時(shí)。此后，進(jìn)行劃格法附著力試驗(yàn)(在樣品表面劃出棋盤形圖案，將該表面分成100份，剝離膠帶后計(jì)算剩余方格的數(shù)量，根據(jù)以下標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行判斷剩余方格數(shù)是100為成功，剩余方格數(shù)少于100為失敗)。
圖5A～5C是顯示實(shí)施例1的結(jié)果的外觀照片，圖6A～6C是顯示比較例1的結(jié)果的外觀照片。在圖5A～5C到圖6A～6C中，“OH”代表“試驗(yàn)前”，“2mm”和“1mm”分別代表方格的大小。
另外，按照J(rèn)IS Z 2371進(jìn)行8小時(shí)和24小時(shí)的鹽水噴霧實(shí)驗(yàn)(SST)，對(duì)耐腐蝕性進(jìn)行評(píng)價(jià)。圖7A～7C是顯示實(shí)施例1的結(jié)果的外觀照片，圖8A～8C是顯示比較例1的結(jié)果的外觀照片。在圖7A～7C到圖8A～8C中，“OH”代表“試驗(yàn)前”，“8H”和“24H”分別代表試驗(yàn)處理的時(shí)間。
上述結(jié)果證實(shí)，與比較例1相比，實(shí)施例1中的機(jī)殼具有均勻的色調(diào)，而且光滑。此外，在實(shí)施例1中，不存在鑄造產(chǎn)品表面的縮孔、砂眼和流動(dòng)等缺陷。這樣增加了處理后覆膜形成的材料利用率，而且在覆膜前不必用油灰補(bǔ)平，從而降低了成本。
在實(shí)施例1中，雖然覆膜的附著量小于比較例1中的附著量，但與比較例1相比，其附著量的變化較小。在實(shí)施例1和比較例1之間，覆膜的其他特性例如電阻、涂裝性和耐腐蝕性具有相似的值。
另外，在實(shí)施例1中，由于步驟數(shù)目較少，所以覆膜處理容易進(jìn)行，從而降低了成本。
本發(fā)明還可以表現(xiàn)為其他的形式而不背離本發(fā)明的精神或本質(zhì)特征。無論從任何角度來看均應(yīng)當(dāng)認(rèn)為，本申請(qǐng)所公開的實(shí)施方式均為解釋性的，而非限制性的。本發(fā)明的范圍由所附的權(quán)利要求來限定，而不是由以上描述來限定，本發(fā)明包括與權(quán)利要求的含義和范圍相等同的范圍內(nèi)的所有變化。
權(quán)利要求
1.一種Mg或Mg合金機(jī)殼，其中，對(duì)該Mg或Mg合金機(jī)殼的表面用含有化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑和研磨劑的混合物進(jìn)行濕式噴射研磨，由此，在所述Mg或Mg合金機(jī)殼表面形成化學(xué)轉(zhuǎn)化膜。
2.如權(quán)利要求1所述的Mg或Mg合金機(jī)殼，其中，通過化學(xué)轉(zhuǎn)化處理形成的復(fù)合覆膜的附著量，以Ca的重量計(jì)為5mg/m2～50mg/m2，以Mn的重量計(jì)為3mg/m2～25mg/m2，以磷的重量計(jì)為30mg/m2～100mg/m2。
3.如權(quán)利要求1所述的Mg或Mg合金機(jī)殼，其中，所述化學(xué)轉(zhuǎn)化膜含有鈣、錳和磷。
4.如權(quán)利要求1所述的Mg或Mg合金機(jī)殼，其中，按照其10個(gè)點(diǎn)的平均表面粗糙度，所述機(jī)殼的表面粗糙度在0.5μm～100μm的范圍內(nèi)。
5.如權(quán)利要求1所述的Mg或Mg合金機(jī)殼，其中，在所述濕式噴射研磨處理所使用的溶液中，化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑的比例為70質(zhì)量％～90質(zhì)量％，研磨劑的比例為10質(zhì)量％～30質(zhì)量％。
6.如權(quán)利要求1所述的Mg或Mg合金機(jī)殼，其中，所述濕式噴射研磨處理包括在0.1MPa到0.3MPa的壓力下，噴射含有液體和研磨劑的混合物的步驟。
7.如權(quán)利要求1所述的Mg或Mg合金機(jī)殼，其中，所述研磨劑是選自由氧化鋁、氧化鋯、玻璃和樹脂組成的組中的至少一種顆粒材料。
8.如權(quán)利要求1所述的Mg或Mg合金機(jī)殼，其中，所述研磨劑的平均粒徑為10μm～300μm。
9.一種制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，該方法包括以下步驟用含有化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑和研磨劑的混合物濕式噴射研磨Mg或Mg合金表面，由此，使Mg或Mg合金機(jī)殼表面因噴射變得不平整，同時(shí)在該表面上形成化學(xué)轉(zhuǎn)化膜。
10.如權(quán)利要求9所述的制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，其中按照其10個(gè)點(diǎn)的平均表面粗糙度，所述機(jī)殼的表面粗糙度在0.5μm～100μm的范圍內(nèi)。
11.如權(quán)利要求9所述的制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，其中，所述濕式噴射研磨處理包括在0.1MPa到0.3MPa的壓力下，噴射含有液體和研磨劑的混合物的步驟。
12.如權(quán)利要求9所述的制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，所述研磨劑是選自由氧化鋁、氧化鋯、玻璃和樹脂組成的組中的至少一種顆粒材料。
13.如權(quán)利要求12所述的制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，其中，所述樹脂選自由三聚氰胺樹脂、脲醛樹脂、聚酯樹脂、酚樹脂、環(huán)氧樹脂和聚氨酯樹脂組成的組。
14.如權(quán)利要求9所述的制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，其中，所述研磨劑的平均粒徑為10μm～300μm。
15.如權(quán)利要求9所述的制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，其中，濕式噴射研磨處理的溶液中所使用的鈣是選自由硝酸鈣、亞硝酸鈣、硫代硫酸鈣和磷酸四鈣組成的組中的至少一種物質(zhì)。
16.如權(quán)利要求9所述的制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，其中，濕式噴射研磨處理的溶液中所使用的錳是選自由碳酸錳、硝酸錳、磷酸氫錳、焦磷酸錳和氟硼酸錳組成的組中的至少一種物質(zhì)。
17.如權(quán)利要求9所述的制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，其中，用于濕式噴射研磨處理的溶液中的磷酸是選自由正磷酸、縮合磷酸、亞磷酸和次磷酸組成的組中的至少一種物質(zhì)。
18.如權(quán)利要求9所述的制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，其中，在濕式噴射研磨處理所使用的溶液中還加入選自氯酸鈉和次氯酸鈉中的至少一種物質(zhì)作為氧化促進(jìn)劑。
19.如權(quán)利要求18所述的制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，其中，所加的氧化促進(jìn)劑的量為0.02g/L～2g/L。
20.如權(quán)利要求9所述的制造Mg或Mg合金機(jī)殼的方法，其中，在所述濕式噴射研磨處理所使用的溶液中，化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑的比例為70質(zhì)量％～90質(zhì)量％，研磨劑的比例為10質(zhì)量％～30質(zhì)量％。
全文摘要
用含有化學(xué)轉(zhuǎn)化處理劑和研磨劑的混合物濕式噴射研磨本發(fā)明的Mg或Mg合金機(jī)殼表面，由此，在該Mg或Mg合金機(jī)殼表面形成化學(xué)轉(zhuǎn)化膜。故此，在由Mg或Mg合金制成的鑄造產(chǎn)品的表面上簡便地形成化學(xué)轉(zhuǎn)化膜，無須用油灰補(bǔ)平，從而提供了一種Mg或Mg合金機(jī)殼，其中可以防止材料利用率的降低和成本的增加。
文檔編號(hào)B24C11/00GK1745971SQ20041008217
公開日2006年3月15日 申請(qǐng)日期2004年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月10日
發(fā)明者木村浩一, 藤原隆之 申請(qǐng)人:富士通株式會(huì)社