專利名稱：抽真空系統(tǒng)及其驅(qū)動方法、具有此系統(tǒng)的裝置和使用此系統(tǒng)轉(zhuǎn)移基板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及抽真空系統(tǒng)、其驅(qū)動方法、具有此系統(tǒng)的裝置和使用此系統(tǒng)轉(zhuǎn)移基板的方法。
背景技術(shù)：
通常，半導(dǎo)體設(shè)備或液晶顯示(LCD)設(shè)備通過重復(fù)在基板上沉積薄膜的步驟、使用光阻材料進(jìn)行照相平版印刷的步驟、選擇性地蝕刻薄膜的步驟和清洗基板的步驟幾次或幾十次而在制成。用于半導(dǎo)體設(shè)備或LCD設(shè)備的制造過程的這些步驟可在最佳條件下利用一具有處理腔室的裝置來執(zhí)行。
近來，一種群集器因?yàn)槠渚哂性诙虝r(shí)期內(nèi)處理大量基板的優(yōu)越處理能力而被廣泛地用作用于制造半導(dǎo)體設(shè)備和LCD設(shè)備的裝置，此群集器包括用于處理基板的處理腔室、用于暫時(shí)存儲該等基板的加載鎖定腔室(load-lockchamber)和在該處理腔室和該加載鎖定腔室之間用于將基板移進(jìn)移出該處理腔室的轉(zhuǎn)移腔室。
圖1為顯示根據(jù)先前技術(shù)的群集器的示意圖。該群集器可用于制造LCD設(shè)備以及半導(dǎo)體設(shè)備。
在圖1中，一群集器包括轉(zhuǎn)移腔室70、復(fù)數(shù)個(gè)處理腔室80、第一加載鎖定腔室40與第二加載鎖定腔室50、轉(zhuǎn)移單元10和第一加載端口(loadport)20與第二加載端口30。所述復(fù)數(shù)個(gè)處理腔室80和第一加載鎖定腔室40與第二加載鎖定腔室50被連接到轉(zhuǎn)移腔室70的各側(cè)上。所述轉(zhuǎn)移單元10被連接到第一加載鎖定腔室40與第二加載鎖定腔室50的側(cè)面，且第一加載端口20與第二加載端口30被連接到轉(zhuǎn)移單元10的側(cè)面。
通常，在基板上沉積薄膜的步驟、蝕刻薄膜的步驟和清洗基板的步驟是在處理腔室80中于高真空條件下進(jìn)行。轉(zhuǎn)移腔室70充當(dāng)利用轉(zhuǎn)移腔室機(jī)械手72在一個(gè)處理腔室80與另一個(gè)處理腔室80之間或在處理腔室之一80與加載鎖定腔室40和50兩者之一之間轉(zhuǎn)移基板的空間。轉(zhuǎn)移腔室70也保持真空條件。在每個(gè)處理腔室80與轉(zhuǎn)移腔室70之間設(shè)立了槽閥(未圖示)。
轉(zhuǎn)移單元10可稱為設(shè)備前端模塊(EFEM)。轉(zhuǎn)移單元10充當(dāng)利用其中的機(jī)械手12將未經(jīng)處理的基板移到加載鎖定腔室40和50中或?qū)⒁呀?jīng)處理的基板從加載鎖定腔室40和50移到外部去的空間。轉(zhuǎn)移單元10總是保持大氣條件，并連接到第一和第二加載端口20和30且之間設(shè)置了門(未圖示)。收納基板的盒子設(shè)置在加載端口20和30中。
可將用于設(shè)置于機(jī)械手12上的基板的平滑區(qū)域?qū)?zhǔn)(flat zonealignment)的對準(zhǔn)器60裝配在轉(zhuǎn)移單元10的一側(cè)。
因?yàn)檗D(zhuǎn)移腔室70處于真空條件下而轉(zhuǎn)移單元10處于大氣條件下，所以將第一加載鎖定腔室40和第二加載鎖定腔室50設(shè)置在轉(zhuǎn)移腔室70與轉(zhuǎn)移單元10之間作為緩沖。當(dāng)基板進(jìn)出時(shí)，第一鎖定腔室40和第二加載鎖定腔室50交替地處于真空條件和大氣條件下。
槽閥設(shè)立在第一和第二加載鎖定腔室40和50與轉(zhuǎn)移單元10之間以及第一和第二加載鎖定腔室40和50與轉(zhuǎn)移腔室70之間。
收納基板的盒子設(shè)置于第一加載端口20和第二加載端口30中，且機(jī)械手12將基板從第一加載端口20和第二加載端口30兩者之一中轉(zhuǎn)移到轉(zhuǎn)移單元10中。接著，在機(jī)械手12在對準(zhǔn)器60中實(shí)現(xiàn)了基板的平滑區(qū)域?qū)?zhǔn)之后，機(jī)械手12將基板轉(zhuǎn)移到第一和第二加載鎖定腔室40和50兩者之一中。
舉例而言，如果第一加載鎖定腔室40的門(未圖示)是打開的，那么機(jī)械手12將基板加載到第一加載鎖定腔室40中。然后，當(dāng)機(jī)械手12返回后，門關(guān)閉，并執(zhí)行抽氣步驟以將第一加載鎖定腔室40從大氣條件轉(zhuǎn)換到與轉(zhuǎn)移腔室70相同的真空條件。
當(dāng)?shù)谝患虞d鎖定腔室40在真空條件下時(shí)，第一加載鎖定腔室40與轉(zhuǎn)移腔室70之間的門(未圖示)是打開的，轉(zhuǎn)移腔室機(jī)械手72進(jìn)入第一加載鎖定腔室40以將基板移動到處理腔室80之一中。
在基板在處理腔室80中接受處理之后，以與上述過程相反的順序?qū)⒒迦〕觥４藭r(shí)，基板從轉(zhuǎn)移腔室70中轉(zhuǎn)移出來，進(jìn)入加載鎖定腔室40或50，接著執(zhí)行用于使加載鎖定腔室40或50通風(fēng)的步驟以將加載鎖定腔室40或50從真空條件改變?yōu)榇髿鈼l件。在通風(fēng)步驟之后，轉(zhuǎn)移單元10的機(jī)械手12取出加載鎖定腔室40或50中的基板并將基板轉(zhuǎn)移到加載端口20或30中的盒子中。
順便提及的是，根據(jù)先前技術(shù)的群集器需要一在真空條件下的轉(zhuǎn)移腔室70和至少一個(gè)加載鎖定腔室40或50以使在高真空條件下的處理腔室80可與外部大氣條件連接。由于轉(zhuǎn)移腔室70和轉(zhuǎn)移腔室自動機(jī)12，此導(dǎo)致群集器的大占據(jù)面積和群集器的高成本。
同時(shí)，如上所述，因?yàn)榧虞d鎖定腔室40或50交替地位于真空條件和大氣條件下，且處理腔室80和轉(zhuǎn)移腔室70總是在真空條件下，所以該群集器應(yīng)包括一抽真空系統(tǒng)和一通風(fēng)系統(tǒng)。
圖2為根據(jù)先前技術(shù)的處理腔室、抽真空系統(tǒng)和通風(fēng)系統(tǒng)的示意圖。如圖所示，一基座87設(shè)置在處理腔室80內(nèi)以在其上加載基板，且一注氣部件84(如蓮蓬頭)設(shè)置在基座87上方。注氣部件84通過穿過穹形腔室蓋81的氣體管道85連接到處理氣體存儲單元86。一穿過處理腔室80的側(cè)壁或下側(cè)且突出在處理腔室80內(nèi)的注射器可用作注氣部件84。所述腔室蓋81可具有各種形狀而不限于穹形。
一渦輪分子泵(TMP)90設(shè)置于處理腔室80下，且一擺動閥83設(shè)置在處理腔室80與TMP 90之間。
所述抽真空系統(tǒng)包括第一排氣管道91、升壓泵98、干式泵99和第二排氣管道92。第一排氣管道91的一端連接到處理腔室80的下部，且升壓泵98和干式泵99連接到第一排氣管道91的另一端。第二排氣管道92的一端連接到TMP 90，且第二排氣管道92的另一端連接到在升壓泵98之前的第一排氣管道91。
干式泵99可稱為低真空泵且可廣泛用于從大氣壓力到約1mTorr(毫托)的壓力條件下。干式泵99分為凸輪(CAM)型和螺旋型。
如圖3所示意說明的，升壓泵98包括氣缸98a和在氣缸98a中的兩個(gè)繭形轉(zhuǎn)子98b，其中該等轉(zhuǎn)子98b分別通過其軸上的傳動齒輪一致地在相反方向上旋轉(zhuǎn)。
因此，進(jìn)入升壓泵98的入口中的氣體因?yàn)檗D(zhuǎn)子98b的旋轉(zhuǎn)排向出口，緊密地封閉在氣缸98a與轉(zhuǎn)子98b之間的空間中，且氣體通過一在升壓泵98之后的附加泵(例如，圖2中的干式泵99)而排到空氣中。
因?yàn)樵谵D(zhuǎn)子間和轉(zhuǎn)子與氣缸之間保留了約0.1mm到約0.3mm的狹窄間隙，所以潤滑油是并非必需的。因此，具有可進(jìn)行無油真空排氣的優(yōu)點(diǎn)。慢速抽氣管道93從快速抽氣管道91(即第一排氣管道91)延伸。因?yàn)槁俪闅夤艿?3具有比第一排氣管道91小的橫截面積，所以慢速抽氣管道93與第一排氣管道91相比具有相對低的排氣導(dǎo)流和相對慢的抽氣速度。如果在抽氣的早期階段抽氣速度較快，那么可能會損害裝置的基板和組件。因此，使用慢速抽氣管道93來減少所述損害。
在處理腔室80和升壓泵98之間裝配三向閥96，使慢速抽氣管道93從第一排氣管道91分叉。慢速抽氣管道93的一端連接到三向閥96的一個(gè)出口，且慢速抽氣管道93的另一端連接到升壓泵98與三向閥96之間的第一排氣管道91。因此，通過三向閥從慢速抽氣管道93和第一排氣管道91中判定氣體的排氣路徑。
在第二排氣管道92的中間設(shè)置一中間閥97，且該中間閥97根據(jù)TMP 90的工作而打開和關(guān)閉。
為了利用上述以上抽真空系統(tǒng)將腔室從大氣條件改變到真空條件，首先驅(qū)動升壓泵98和干式泵99，且氣體通過控制三向閥96經(jīng)慢速抽氣管道93排出。當(dāng)處理腔室80處于某壓力下時(shí)，再次控制三向閥96，因此氣體通過第一排氣管道95而非該慢速抽氣管道93排出。此時(shí)，升壓泵98和干式泵99同時(shí)工作。
當(dāng)處理腔室80處于高真空條件下時(shí)，處理腔室80下方的擺動閥83打開，且使用TMP 90對處理腔室80抽真空直到處理腔室80的內(nèi)部達(dá)到超高真空條件。通過TMP 90排出的氣體是經(jīng)由中間閥97和第一排氣管道93通過升壓泵98和干式泵99排出的。
然而，因?yàn)槌檎婵障到y(tǒng)具有慢速的抽氣速度，所以難以頻繁使用該抽真空系統(tǒng)，且抽真空系統(tǒng)廣泛用于設(shè)定裝置的步驟中。
同時(shí)，通常為加載鎖定腔室40和50裝配一通風(fēng)系統(tǒng)，加載鎖定腔室40和50交替地在大氣條件和在真空條件下，且可為處理腔室80或轉(zhuǎn)移腔室70裝配該通風(fēng)系統(tǒng)。意即，當(dāng)處理腔室80或轉(zhuǎn)移腔室70中的壓力由于過度抽真空變得相當(dāng)?shù)蜁r(shí)，應(yīng)通過提供比如氬(Ar)或氮(N2)的氣體來調(diào)整處理腔室80或轉(zhuǎn)移腔室70中的壓力到最佳壓力。另外，在使裝置固定不動以用于修理或在其它所需狀況下，腔室可位于大氣條件下。
圖2顯示了處理腔室80的通風(fēng)系統(tǒng)。所述通風(fēng)系統(tǒng)包括通風(fēng)管道88和針閥89。通風(fēng)管道88的一端穿過處理腔室80的側(cè)壁，且通風(fēng)管道88的另一端連接到通風(fēng)氣體存儲單元(未圖示)，其中包括氬氣或氮?dú)?。針閥89設(shè)立在通風(fēng)管道88的中間且控制氣體的流速。
然而，先前技術(shù)的通風(fēng)系統(tǒng)通常在狹窄范圍內(nèi)調(diào)整在真空條件下的腔室的壓力。因此，如果加寬調(diào)整壓力的范圍，那么通風(fēng)時(shí)間應(yīng)變得更長。
如果大量的氣體流進(jìn)腔室以縮短通風(fēng)時(shí)間，那么不可能一致維持該腔室的內(nèi)部溫度，且因此降低了該等處理的再生產(chǎn)率。另外，因?yàn)榭赡軙捎跓釠_擊而導(dǎo)致裝置的退化和粒子的產(chǎn)生，所以在該等處理期間存在周期性使處理腔室通風(fēng)的限制。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明針對抽真空系統(tǒng)、其驅(qū)動方法、具有此系統(tǒng)的裝置和使用此系統(tǒng)轉(zhuǎn)移基板的方法，其大體上消除了由于先前技術(shù)的限制和缺點(diǎn)而引起的一個(gè)或多個(gè)問題。
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一基板制造裝置以用于半導(dǎo)體設(shè)備和液晶顯示設(shè)備，其通過減少所述裝置的占據(jù)面積和成本而有效地利用了所述裝置。
本發(fā)明的另一目的是提供抽真空系統(tǒng)和使用此系統(tǒng)的抽氣方法，其加快了處理裝置的抽氣速度。
本發(fā)明的另一目的是提供通風(fēng)系統(tǒng)和使用此系統(tǒng)的通風(fēng)方法，其通過加快通風(fēng)速度使腔室內(nèi)部的溫度變化和熱沖擊減到最小。
在下文的描述中將陳述本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點(diǎn)，且這些特征和優(yōu)點(diǎn)從描述中可部分變得顯而易見或可通過實(shí)踐本發(fā)明而得知。通過書面描述和其權(quán)利要求中特定指出的結(jié)構(gòu)以及附圖將實(shí)現(xiàn)和獲得本發(fā)明的該等目的和其他優(yōu)點(diǎn)。
為了獲得這些和其它優(yōu)點(diǎn)且根據(jù)本發(fā)明的目的，如以上具體表達(dá)和廣泛描述的，一裝置包括一轉(zhuǎn)移單元，其處于大氣條件下且其中具有一機(jī)械手；和至少一個(gè)處理腔室，其連接到該轉(zhuǎn)移單元的一側(cè)且在該處理腔室與該轉(zhuǎn)移單元之間具有一槽閥，且交替地處于真空條件下和在大氣條件下。
在另一方面，該裝置進(jìn)一步包括一連接到該處理腔室的排氣管道；依次裝配到該排氣管道的升壓泵和干式泵；和一繞過該升壓泵的旁通管道，其中該旁通管道的一端連接到升壓泵與干式泵之間的排氣管道，且該旁通管道的另一端連接到升壓泵之前的排氣管道。此外，該裝置進(jìn)一步包括一在該升壓泵與該干式泵之間的第一三向閥和一在該升壓泵之前的第二三向閥，其中該旁通管道的一端和另一端分別連接到該第一三向閥和該第二三向閥。
在另一方面，該裝置進(jìn)一步包括至少一個(gè)連接到該處理腔室的通風(fēng)管道和一通風(fēng)氣體存儲單元；和一設(shè)立在至少一個(gè)通風(fēng)管道中間的第一加熱單元。
在另一方面，該裝置進(jìn)一步包括至少一個(gè)連接到該轉(zhuǎn)移單元的另一側(cè)的加載端口。
在另一方面，一種加載基板的方法包括利用設(shè)立在該轉(zhuǎn)移單元中的機(jī)械手將基板運(yùn)載到一在大氣條件下的轉(zhuǎn)移單元中；利用機(jī)械手將基板從轉(zhuǎn)移單元轉(zhuǎn)移到一在大氣條件下的處理腔室中；和抽真空處理腔室的內(nèi)部。抽真空包括使用一干式泵的第一抽氣和同時(shí)使用該干式泵和一升壓泵的第二抽氣，其中該升壓泵和該干式泵依次連接到該處理腔室。
在另一方面，一種將基板從該處理腔室卸載的方法包括使處理腔室通風(fēng)，使處理腔室的內(nèi)部從真空條件改變?yōu)榇髿鈼l件；利用轉(zhuǎn)移單元中的機(jī)械手將基板從處理腔室轉(zhuǎn)移到一在大氣條件下的轉(zhuǎn)移單元；和利用該機(jī)械手將基板從轉(zhuǎn)移單元取出。
在另一方面，一種抽真空系統(tǒng)包括一連接到一腔室的排氣管道；依次連接到該排氣管道的升壓泵和干式泵；和一繞過該升壓泵的旁通管道，其中該旁通管道的一端連接到該升壓泵與該干式泵之間的排氣管道，且旁通管道的另一端連接到在該升壓泵之前的排氣管道。該系統(tǒng)進(jìn)一步包括一在該升壓泵與該干式泵之間的第一三向閥和一在升壓泵之前的第二三向閥，其中該旁通管道的一端和另一端分別連接到該第一三向閥和該第二三向閥。
在另一方面，一種使用依次設(shè)立在一排氣管道中的升壓泵和干式泵來抽真空一腔室的內(nèi)部的方法包括使用干式泵的第一抽氣；和同時(shí)使用干式泵和升壓泵的第二抽氣。
應(yīng)了解，以上一般描述和以下詳細(xì)描述是作為例示說明作用，且欲進(jìn)一步提供對如權(quán)利要求中所主張的本發(fā)明的闡述。


在此說明書中并入了附圖以提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，且該等附圖構(gòu)成了此說明書的一部分。該等附圖例示說明了本發(fā)明的實(shí)施例并且與具體實(shí)施方式
一起用來闡釋本發(fā)明的原理。在圖中圖1為顯示根據(jù)先前技術(shù)的群集器的示意圖；圖2為根據(jù)先前技術(shù)的處理腔室、抽真空系統(tǒng)和通風(fēng)系統(tǒng)的示意圖；圖3為顯示升壓泵的機(jī)構(gòu)的示意圖；圖4A到4E為根據(jù)本發(fā)明顯示處理裝置的實(shí)例的示意圖；圖5為說明抽氣速度的試驗(yàn)圖表；圖6為根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例說明包括抽真空系統(tǒng)的裝置的圖；圖7為根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例說明包括抽真空系統(tǒng)的裝置的圖；圖8為根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例說明包括抽真空系統(tǒng)的裝置的圖；圖9為根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例說明包括通風(fēng)系統(tǒng)的裝置的圖；和圖10為根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例說明包括通風(fēng)系統(tǒng)的裝置的圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在將詳細(xì)參考優(yōu)選實(shí)施例，并在附圖中說明了這些優(yōu)選實(shí)施例的實(shí)例。
圖4A到4E為根據(jù)本發(fā)明顯示處理裝置的實(shí)例的示意圖。如圖所示，所述裝置包括一個(gè)轉(zhuǎn)移單元10、復(fù)數(shù)個(gè)處理腔室100及第一和第二加載端口20和30。所述轉(zhuǎn)移單元10處于大氣條件下且其中具有機(jī)械手12。所述處理腔室100及第一和第二加載端口20和30被連接到轉(zhuǎn)移單元10的各側(cè)?？筛淖兲幚砬皇?0的數(shù)目和加載端口20和30的數(shù)目。
所述裝置與圖1中先前技術(shù)的裝置相比不包括轉(zhuǎn)移腔室、轉(zhuǎn)移腔室機(jī)械手和加載鎖定腔室40和50。在本發(fā)明中，轉(zhuǎn)移單元10同樣充當(dāng)先前技術(shù)的轉(zhuǎn)移腔室70，且處理腔室100同樣用作加載鎖定腔室40和50，以充當(dāng)真空條件和大氣條件之間的緩沖。
為了達(dá)到此狀況，根據(jù)本發(fā)明的所述裝置包括不同于先前技術(shù)的抽真空系統(tǒng)和通風(fēng)系統(tǒng)，且稍后將解釋所述抽真空系統(tǒng)和通風(fēng)系統(tǒng)。
轉(zhuǎn)移單元12的機(jī)械手12將一個(gè)基板轉(zhuǎn)移到各個(gè)處理腔室中并將所述基板運(yùn)出，且因此需要設(shè)立轉(zhuǎn)移導(dǎo)向器(transfer guide)(未圖示)以用于在轉(zhuǎn)移單元12中移動機(jī)械手12。轉(zhuǎn)移單元10中所示的箭頭表示機(jī)械手12根據(jù)轉(zhuǎn)移導(dǎo)向器的指示所移動的方向。
機(jī)械手12依據(jù)轉(zhuǎn)移單元10和處理腔室100配置的不同而僅可執(zhí)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動或可以同時(shí)執(zhí)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動和線性運(yùn)動。另外，先前技術(shù)的轉(zhuǎn)移腔室機(jī)械手72僅執(zhí)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動。
如上文所述，收納基板的盒子被設(shè)置于加載端口20和30中。在各處理腔室100和轉(zhuǎn)移單元10之間設(shè)立槽閥110以打開和關(guān)閉基板的移動路徑。有益的是在在轉(zhuǎn)移單元10與各個(gè)加載端口20和30之間設(shè)立一門(未圖示)以與外部隔離。
對準(zhǔn)器60對準(zhǔn)位于機(jī)械手12上的基板。對準(zhǔn)器60可如圖4A和圖4B中所說明地被包括為轉(zhuǎn)移單元10的一部分或可如圖4C到圖4E中所說明地與轉(zhuǎn)移單元10的一側(cè)部相組合。在基板被提前對準(zhǔn)或在其它情形中可省略對準(zhǔn)器60。
如圖4A到圖4E所示，轉(zhuǎn)移單元10依據(jù)具體情形可呈現(xiàn)為多種形狀，且因此可具有多種占據(jù)面積。此時(shí)，依據(jù)轉(zhuǎn)移單元10形狀的不同，可以適當(dāng)改變機(jī)械手12的轉(zhuǎn)移導(dǎo)向器(未圖示)。因?yàn)檗D(zhuǎn)移單元10并非處于真空條件下的氣密空間，所以可增加機(jī)械手的數(shù)目且受空間約束可將處理腔室加以堆疊。因此，設(shè)立轉(zhuǎn)移單元10以使得不存在瓶頸空間，且在幾個(gè)處理腔室100中可同時(shí)進(jìn)行處理以進(jìn)而增加再生產(chǎn)率。
圖4E的裝置進(jìn)一步包括一個(gè)第三加載端口32，且加載端口的數(shù)目為3。加載端口的數(shù)目是可變的。
在處理腔室100和大氣轉(zhuǎn)移單元10直接相連的裝置中，將基板加載到處理腔室100中和將基板卸載出處理腔室100的處理將下文參看圖4A加以解釋。
首先，轉(zhuǎn)移單元10的機(jī)械手12將基板從第一加載端口20和第二加載端口30中的一者中運(yùn)載到轉(zhuǎn)移單元10中，且機(jī)械手12在對準(zhǔn)器60對準(zhǔn)基板之后(如果必要的話)將基板加載到處理腔室100中的一者中。
轉(zhuǎn)移腔室10總是處于大氣條件下，且因此在將基板運(yùn)到處理腔室100中后，處理腔室100內(nèi)部應(yīng)變?yōu)榇髿鈼l件。因此，執(zhí)行為處理腔室100通風(fēng)的步驟，以使得在打開槽閥110之前處理腔室100的內(nèi)部處于大氣條件下。
當(dāng)處理腔室處于大氣條件下時(shí)，打開槽閥110，且其上包括有基板的機(jī)械手12進(jìn)入處理腔室100中以進(jìn)而將基板加載到基座上(未圖示)。
在加載基板之后，機(jī)械手12從處理腔室100中出來，并關(guān)閉槽閥110。進(jìn)行抽真空以使得處理腔室100處于真空條件下，且在達(dá)到所要的真空條件之后，通過注入處理氣體來執(zhí)行隨后處理。
在處理之后，將基板卸載出處理腔室100。首先，為了將處理腔室100的內(nèi)部從真空條件轉(zhuǎn)換為大氣條件，通過注入比如氮?dú)饣驓鍤獾臍怏w來執(zhí)行為處理腔室100通風(fēng)的步驟。當(dāng)處理腔室100處于大氣條件下時(shí)，打開槽閥110，且機(jī)械手12通過槽閥110進(jìn)入到處理腔室100中。機(jī)械手12將經(jīng)處理的基板從處理腔室100轉(zhuǎn)移到轉(zhuǎn)移單元10中。其次，機(jī)械手12將基板從轉(zhuǎn)移單元10中取出到第一加載端口20和第二加載端口30中的一者中，以進(jìn)而將基板放入盒子中(未圖示)。
在所述裝置中，每當(dāng)交換基板時(shí)，應(yīng)使大氣條件和真空條件交替。為了快速地產(chǎn)生適當(dāng)?shù)臈l件，可使用以下抽真空系統(tǒng)。
所述抽真空系統(tǒng)是著眼于以下觀點(diǎn)來設(shè)計(jì)的，即抽氣速度的最大范圍依據(jù)使用真空泵的方法而有所變化。
圖5為說明抽氣速度的試驗(yàn)圖表。在圖5中，曲線I顯示在使用升壓泵和干式泵的慢速抽氣情形中的抽氣速度，升壓泵和干式泵被依次設(shè)立在腔室的排氣管道處，且曲線II和曲線III顯示在早期慢速抽氣和在某壓力之后快速抽氣的情形下的抽氣速度。在曲線II的情形中，操作升壓泵和干式泵，且在曲線III的情形中，僅使用干式泵。
慢速抽氣和快速抽氣是相對的概念，且需要使抽氣速度相對較慢，以減少對處理腔室中基板所造成的損害。然而，由于從曲線I所注意到的抽氣速度非常慢，所以在處理期間難以頻繁應(yīng)用慢速抽氣。
因此，在抽氣的早期階段中執(zhí)行慢速抽氣，并在達(dá)到小于預(yù)定值的壓力之后，進(jìn)行快速抽氣以進(jìn)而加快抽氣速度。
當(dāng)慢速抽氣轉(zhuǎn)變?yōu)榭焖俪闅鈺r(shí)，在區(qū)域A情形中的所述抽氣速度將無差異。在區(qū)域B中，在僅使用干式泵的曲線III的情形中，隨著壓力變得較低，曲線III具有快速抽氣速度。即，在早期使用干式泵抽氣，對抽氣速度是有益的。
然而，上述抽氣速度之間的差異維持在大氣壓力到約100托或300托的壓力范圍之中。當(dāng)曲線III僅使用干式泵的情形具有小于以上壓力的平緩斜率時(shí)，使用增壓泵連同干式泵的曲線II的情形將具有一致的斜率，以使曲線II的情形可比曲線III的情形更早地達(dá)到約1托的壓力。因此，在100托或300托到約1托的壓力范圍中，使升壓泵連同干式泵一起運(yùn)作是有利的。
在區(qū)域D中，即，在一個(gè)小于約1托的高真空區(qū)域中，抽氣速度與使用升壓泵無關(guān)，且廣泛使用一個(gè)渦輪分子泵是有利的。
曲線的斜率和壓力的數(shù)值依據(jù)裝置的尺寸而有所變化，并可獲得類似的結(jié)果。
圖6為根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例說明包括有一個(gè)抽真空系統(tǒng)的裝置的圖。所述抽真空系統(tǒng)使用以上區(qū)域抽氣速度之間的差異而最大化整個(gè)抽氣速度。
圖6的處理腔室100可具有與先前技術(shù)的處理腔室相同的構(gòu)造且也可具有其他構(gòu)造。
因此，腔室頂蓋102可被組合到處理腔室100的上部，且可在處理腔室100之下設(shè)立渦輪分子泵120，并將擺動閥122插入兩者之間。將第一排氣管道210的一端連接到處理腔室100的下部，并在第一排氣管道210的另一端依次裝配有升壓泵410和干式泵420。
將第二排氣管道220的一端連接到渦輪分子泵120，并將第二排氣管道220的另一端連接到升壓泵410前面的第一排氣管道210。
在本發(fā)明中，可進(jìn)一步形成一條環(huán)繞升壓泵410的路徑，以使得在早期僅使用干式泵420將氣體排出而不通過升壓泵410且然后在預(yù)定壓力后，利用升壓泵410和干式泵420將氣體排出。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，一條旁通管道230可從升壓泵410前面的第一排氣管道210延伸。此時(shí)，在圖6中，一個(gè)具有兩入口的第一三向閥310被裝配于升壓泵410與干式泵420之間，且一個(gè)第二三向閥320被設(shè)立于升壓泵410前面。旁通管道230的一端被連接到第一三向閥310的一個(gè)入口，且旁通管道230的另一端被連接到第二三向閥320的一個(gè)出口。因此，可通過控制第一和第二三向閥310和320，而穿過第一排氣管道210或旁通管道230將氣體選擇性地排出。
第一閥V1被設(shè)立于第二三向閥320前面，并通過將繞過第一閥V1的慢速抽氣管道240連接到第一排氣管道210而將第二閥V2裝配到慢速抽氣管道240中，以使得可在早期階段執(zhí)行慢速抽氣，以防止腔室的基板和組件因快速抽氣而受損。慢速抽氣管道240具有小于第一排氣管道210的橫截面面積并具有相對低的排氣導(dǎo)流?？珊雎月俪闅夤艿?40。
第三閥V3可被設(shè)立于第二排氣管道220中。盡管圖中未顯示，可進(jìn)一步裝配一個(gè)感測腔室內(nèi)部壓力的壓力量器和一個(gè)自動控制打開和關(guān)閉第一和第二三向閥310和320的控制器，以根據(jù)腔室的內(nèi)部壓力選擇性地控制泵的驅(qū)動或選擇性地控制氣體的路徑。
在抽真空系統(tǒng)中，首先，關(guān)閉擺動閥122和第三閥V3(即，閉合)，且渦輪分子泵12可為打開或關(guān)閉狀態(tài)。關(guān)閉升壓泵410，并打開干式泵420。因?yàn)樯龎罕?10被第一和第二三向閥310和320所隔離，所以升壓泵410可為打開的。
其次，通過控制第一和第二三向閥310和320而使氣體通過旁通管道230而排出。
如果在早期階段執(zhí)行慢速抽氣，那么關(guān)閉第一閥V1，并打開第二閥V2。第二三向閥320朝向旁通管道230的一個(gè)出口為打開狀態(tài)，以使氣體穿過慢速抽氣管道240、旁通管道230和干式泵420被排出。
在腔室的內(nèi)部壓力變?yōu)榧s500托并持續(xù)約10秒鐘之前，執(zhí)行慢速抽氣。如果所述裝置具有較大的尺寸，那么慢速抽氣將耗費(fèi)更多的時(shí)間。
當(dāng)腔室的內(nèi)部壓力達(dá)到約500托時(shí)，為增加抽氣速度，打開第一閥V1，并關(guān)閉第二閥V2，進(jìn)而執(zhí)行快速抽氣。
在快速抽氣中，不使用升壓泵410，且僅使得干式泵420運(yùn)作。執(zhí)行快速抽氣直到腔室的內(nèi)部壓力變?yōu)榧s100到約300托并對應(yīng)于圖5的區(qū)域B。
當(dāng)腔室的內(nèi)部壓力達(dá)到約100到300托時(shí)，打開升壓泵410，并關(guān)閉第二三向閥320朝向旁通管道230的出口，進(jìn)而可使氣體穿過第一排氣管道210、升壓泵410和干式泵420被排出。此步驟對應(yīng)于圖5的區(qū)域C且可執(zhí)行所述步驟直到腔室的內(nèi)部壓力變?yōu)榧s1托。
在小于約1托的壓力下，對于超高真空抽氣而言，打開擺動閥122和第三閥V3，并關(guān)閉第二三向閥320的一個(gè)入口。從而，可使得氣體通過渦輪分子泵120而排出。
圖7為根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例說明一包括有抽真空系統(tǒng)的裝置的圖。在圖7中，一第一排氣管道210被連接到處理腔室100的下部，且升壓泵410和干式泵420被依次裝配到第一排氣管道210。一第一三向閥310被設(shè)立于升壓泵410與干式泵420之間。
第四閥V4被裝配于升壓泵410的前面，以隔離升壓泵410。慢速抽氣管道240及快速抽氣管道250分別從第四閥V前面的第一排氣管道210處分枝，且都連接到旁通管道230的一端。此時(shí)，慢速抽氣管道240具有一小于快速抽氣管道250的橫截面面積。旁通管道230的另一端被連接到第一三向閥310。在此處，第二三向閥320用于分叉慢速抽氣管道240?？焖俪闅夤艿?50可從第二三向閥320后面的第一排氣管道210而延伸。
在下文中，將著重于與圖6的抽真空過程之間的差異來解釋使用圖7的真空系統(tǒng)的抽真空過程。
在圖7中，第四閥V4被設(shè)立于第一排氣管道210中，以隔離升壓泵410。因而，如果關(guān)閉第四閥V4，那么可使氣體通過旁通管道230、第一三向閥310和干式泵420而被排出。當(dāng)關(guān)閉第四閥V4時(shí)，可關(guān)閉或打開升壓泵410。
如果在早期執(zhí)行慢速抽氣步驟，那么打開第一三向閥320朝向慢速抽氣管道240的一個(gè)出口，且而后執(zhí)行慢速抽氣直到腔室的壓力變?yōu)榧s500托。然后，關(guān)閉第一三向閥320朝向慢速抽氣管道240的出口，并打開第一三向閥320朝向第一排氣管道210的出口。此時(shí)，關(guān)閉第四閥V4，且氣體通過快速抽氣管道250而排入到旁通管道230中。
當(dāng)腔室的壓力達(dá)到約100到300托時(shí)，關(guān)閉第一三向閥310朝向旁通管道230的一個(gè)入口，并打開第四閥V4。同時(shí)，如果關(guān)閉升壓泵410，那么應(yīng)該打開升壓泵410。因此，氣體可通過第一排氣管道210、升壓泵410和干式泵420而排出。
然后，在小于約1托的壓力下，打開擺動閥122和第二閥V2為的，并關(guān)閉第二三向閥320的入口，進(jìn)而可使氣體通過渦輪分子泵120而排出。
圖8為說明根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的一包括一抽真空系統(tǒng)的裝置的視圖。圖8的裝置具有與圖6和圖7相同的結(jié)構(gòu)如下一升壓泵410和一干式泵420，依次裝配到一第一排氣管道210，該第一排氣管道210連接到處理腔室100的下部；一繞過升壓泵410的旁通管道230，其設(shè)立在第一排氣管道210中；和一第二排氣管道220，其連接渦輪分子泵120與第一排氣管道210。
然而，除第一、第二和第三閥V1、V2和V3之外，圖8的裝置進(jìn)一步包括一第四閥V4和一第五閥V5。，不同于圖6和圖7中使用第一和第二三向閥的情況，在圖8的裝置中可根據(jù)第四閥V4和第五閥V5的打開/關(guān)閉的狀態(tài)來選擇氣體的排氣路徑。
該第四閥V4設(shè)立在升壓泵410之前的第一排氣管道210中，以隔離升壓泵410。旁通管道230從在第四閥V4之前的第一排氣管道210處分叉且其連接到升壓泵410之后的第一排氣管道210。
第一閥V1和慢速抽氣管道240設(shè)立在旁通管道230從第一排氣管道210分叉點(diǎn)之前的第一排氣管道210中。慢速抽氣管道240繞過第一閥V1，且第二閥V2裝配在慢速抽氣管道240中。如上所述，慢速抽氣管道240具有小于第一排氣管道210的橫截面面積。
第三閥V3設(shè)立在第二排氣管道220中。另外，需要控制器自動控制閥門和升壓泵的打開/關(guān)閉。隔離閥可進(jìn)一步設(shè)立在升壓泵410后的第一排氣管道210中，且在此情況下，不必控制升壓泵的打開/關(guān)閉。
在一使用圖8的抽真空系統(tǒng)進(jìn)行抽氣的過程中，首先，將腔室的內(nèi)部與外部隔離，且關(guān)閉擺動閥122和第三閥V3。在此時(shí)，渦輪分子泵120可為打開的或可為關(guān)閉的。升壓泵410為關(guān)閉的，且干式泵420是打開的。
接著，打開第一閥V1和第五閥V5，且關(guān)閉第二閥V2和第四閥V4。從而，氣體可通過第一排氣管道210、旁通管道230和干式泵420排出。
同時(shí)，為了較早地執(zhí)行慢速抽氣步驟，第二閥V2可為打開的，且第一閥V1可為關(guān)閉的。在此情況下，考慮到抽氣速度，可執(zhí)行慢速抽氣步驟直到腔室的壓力變?yōu)榧s500托。其后，關(guān)閉第二閥V2，且打開第一閥V1。從而，執(zhí)行快速抽氣步驟直到腔室的壓力變?yōu)榧s100至300托。同樣，在快速抽氣步驟中，僅干式泵420用于排氣。
當(dāng)腔室的壓力在約100至300托之下時(shí)，關(guān)閉第五閥V5，且打開升壓泵410和第四閥V4。因此，氣體可通過第一排氣管道210、升壓泵410和干式泵420排出。
在小于約1托的壓力下，關(guān)閉第一和第二閥V1和V2，打開且擺動閥122和第三閥V3，藉此可利用用于超高真空抽氣的渦輪分子泵120來排出氣體。此時(shí)，第五閥V5仍為關(guān)閉的。
該抽真空系統(tǒng)也可用于與圖1的先前技術(shù)裝置的轉(zhuǎn)移腔室或加載鎖定腔室。
可使用其他控制閥門的打開/關(guān)閉和控制泵的方法，以在早期階段使用干式泵，且其后共同使用升壓泵和干式泵以藉此提供一排氣路徑。
同時(shí)，可設(shè)立一通風(fēng)系統(tǒng)以使處理腔室處于非真空條件的大氣條件之下。
圖9為說明根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的一包括一通風(fēng)系統(tǒng)的裝置的視圖。在圖9中，第一通風(fēng)管道500a的一端穿過并連接到腔室100的第一側(cè)壁，且第二通風(fēng)管道500b的一端連接到與腔室100的第一側(cè)壁相對的腔室100的第二側(cè)壁。第一和第二通風(fēng)管道500a和500b的另一端連接到通風(fēng)氣體存儲單元(未圖示)。氬(Ar)或氮(N2)可用作為通風(fēng)氣體。通風(fēng)氣體存儲單元的數(shù)目可為一個(gè)，因而第一和第二通風(fēng)管道500a和500b可連接到一個(gè)通風(fēng)氣體存儲單元。第一和第二通風(fēng)管道500a和500b可連接于各自的通風(fēng)氣體存儲單元。
一第一加熱單元520a和一第二加熱單元520b分別裝配在第一通風(fēng)管道500a和第二通風(fēng)管道500b的中間。第一和第二加熱單元520a和520b預(yù)加熱通風(fēng)氣體接近于處理腔室中處理溫度的溫度并注入通風(fēng)氣體。因此，防止了腔室的內(nèi)部溫度因通風(fēng)而迅速改變，且使熱沖擊降至最低。
換言之，在執(zhí)行薄膜的沉積和蝕刻過程中，處理的一致性和再生產(chǎn)率非常重要，處理溫度對處理的一致性和再生產(chǎn)率有很大影響。在本發(fā)明中，可通過加熱單元使由于注入通風(fēng)氣體造成的處理溫度的變化降至最低。
在圖9中，第一和第二加熱單元520a及520b可分別為圍繞第一和第二通風(fēng)管道500a和500b的電阻線圈。除電阻線圈之外，也可使用其他形狀的熱交換器。
為使注入到腔室中的通風(fēng)氣體產(chǎn)生的干擾降至最低，可對稱性地排列通風(fēng)管道500a和500b。
可選擇性地將針閥設(shè)立在加熱單元之前或在加熱單元之后。針閥可針對腔室的溫度、通風(fēng)氣體的溫度和總體壓力來控制氣體的流速。
圖10為說明根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的一包括一通風(fēng)系統(tǒng)的裝置的視圖。與圖9的裝置相比，圖10的裝置可進(jìn)一步包括在第一和第二加熱單元520a和520b與腔室100之間的第一和第二膨脹單元530a和530b。
第一和第二膨脹單元530a和530b降低了通風(fēng)氣體的壓力和流速，以防止高壓通風(fēng)氣體被直接注入腔室中。在圖10中，膨脹單元530a和530b可為直徑大于通風(fēng)管道500a和500b直徑的罐形形狀，但是膨脹單元530a和530b可具有其他形狀。
此外，通風(fēng)氣體的溫度由于膨脹而降低，藉此對腔室內(nèi)部的溫度產(chǎn)生影響。為防止此問題，第三和第四加熱單元532a和532b可重新加熱膨脹的通風(fēng)氣體。在圖10中，第三和第四加熱單元532a和532b可為圍繞第一和第二膨脹單元530a和530b的電阻線圈，且類似于第一和第二加熱單元520a及520b，也可使用其他形狀的熱交換器作為膨脹單元530a和530b。
在圖10中，一個(gè)膨脹單元與一個(gè)通風(fēng)管道500a或500b組合，而額外兩個(gè)膨脹單元可根據(jù)通風(fēng)氣體的壓力或腔室內(nèi)部的條件與一個(gè)通風(fēng)管道相連。
本發(fā)明將參照圖10闡釋通過通風(fēng)系統(tǒng)注入通風(fēng)氣體的過程。
首先，可通過第一和第二加熱單元520a和520a預(yù)加熱流入通風(fēng)管道500a和500b的通風(fēng)氣體。在預(yù)加熱的通風(fēng)氣體穿過針閥510a和510b之后，該預(yù)加熱的通風(fēng)氣體可首先在第一和第二膨脹單元530a和530b中膨脹，且由此降低其壓力和流速。
為補(bǔ)償由于膨脹而引起的溫度下降，可在第一和第二膨脹單元530a和530b中利用第三和第四加熱單元532a和532b重新加熱通風(fēng)氣體，且由此將該重新加熱的通風(fēng)氣體注入到腔室中。
利用本發(fā)明的通風(fēng)系統(tǒng)，通風(fēng)速度可增加，且腔室中的溫度變化或干擾可得到最小化。
因?yàn)楦鶕?jù)本發(fā)明的制造半導(dǎo)體設(shè)備或LCD設(shè)備的裝置不包括轉(zhuǎn)移腔室、轉(zhuǎn)移腔室機(jī)械手和在真空條件下的加載鎖定腔室，所以該裝置的占據(jù)面積得以減少，且從而該裝置的成本可被降低。
此外，縮短了該處理腔室從大氣條件到真空條件的抽氣時(shí)間，且縮短了通風(fēng)時(shí)間，使溫度變化得以最小化。因此，裝置的生產(chǎn)率得到了極大的改良。
所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將不難發(fā)現(xiàn)在不脫離本發(fā)明的精神或范疇的前提下，可對該裝置作出各種修改和變化。因此，本發(fā)明欲涵蓋對本發(fā)明的修改和變化，但是該等修改和變化必須在隨附權(quán)利要求書和其對等物的范疇之中。
權(quán)利要求
1.一種裝置，其包含一轉(zhuǎn)移單元，其在一大氣條件之下且其中具有一機(jī)械手；和至少一個(gè)處理腔室，該處理腔室連接到該轉(zhuǎn)移單元的一側(cè)且在該處理腔室與該轉(zhuǎn)移單元之間具有一槽閥，且可交替地處于一真空條件及一大氣條件之下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其進(jìn)一步包含一排氣管道，其連接到所述處理腔室；一升壓泵和一干式泵，其依次裝配到所述排氣管道；和一旁通管道，其繞過所述升壓泵，其中所述旁通管道的一端連接到在所述升壓泵與所述干式泵之間的所述排氣管道，及所述旁通管道的另一端連接到在所述升壓泵之前的所述排氣管道。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其進(jìn)一步包含一在所述升壓泵與所述干式泵之間的第一三向閥，和一在所述升壓泵之前的第二三向閥，其中所述旁通管道的所述一端及所述另一端分別連接到所述第一和第二三向閥。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中在所述第二三向閥與所述升壓泵之間設(shè)置有一閥，且一慢速抽氣管道被連接到所述第二三向閥和所述旁通管道，其中所述慢速抽氣管道具有一小于所述旁通管道的直徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中在所述旁通管道從所述排氣管道分叉的一分叉點(diǎn)與所述升壓泵之間裝配了一用于隔離所述升壓泵的第一閥，且在所述旁通管道之中設(shè)立了一第二閥。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其進(jìn)一步包含至少一個(gè)通風(fēng)管道，其連接到所述處理腔室和一通風(fēng)氣體存儲單元；和第一加熱單元，其設(shè)立在所述至少一個(gè)通風(fēng)管道的中間。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中所述裝置包括兩個(gè)以上相對于所述處理腔室的中心對稱地連接到所述處理腔室的通風(fēng)管道。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中在所述第一加熱單元與所述處理腔室之間的所述至少一個(gè)通風(fēng)管道中設(shè)立了一閥，且在所述閥與所述處理腔室之間裝配了至少一個(gè)膨脹單元。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中一第二加熱單元連接到所述至少一個(gè)膨脹單元。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其進(jìn)一步包含至少一個(gè)連接到所述轉(zhuǎn)移單元的另一端的加載端口(load port)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述機(jī)械手執(zhí)行一旋轉(zhuǎn)運(yùn)動及一線性運(yùn)動中的至少一個(gè)運(yùn)動。
12.一種加載一基板的方法，其包含在一大氣條件下利用一設(shè)立在所述轉(zhuǎn)移單元中的機(jī)械手將所述基板運(yùn)載到一轉(zhuǎn)移單元中；在所述大氣條件下利用所述機(jī)械手將所述基板從所述轉(zhuǎn)移單元轉(zhuǎn)移到一處理腔室中；和抽真空所述處理腔室的內(nèi)部。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中所述抽真空包括使用一干式泵的第一抽氣和同時(shí)使用所述干式泵和一升壓泵的第二抽氣，其中所述升壓泵和所述干式泵是依次連接到所述處理腔室。
14.一種從一處理腔室卸載一基板的方法，其包含使所述處理腔室通風(fēng)，以使所述處理腔室的內(nèi)部從一真空條件改變?yōu)橐淮髿鈼l件；利用所述轉(zhuǎn)移單元中的一機(jī)械手將所述基板從所述處理腔室轉(zhuǎn)移到一處于所述大氣條件下的轉(zhuǎn)移單元中；和利用所述機(jī)械手將所述基板從所述轉(zhuǎn)移單元中取出。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中所述通風(fēng)包括在一通風(fēng)管道的中間加熱一通風(fēng)氣體，以檢查所述通風(fēng)氣體并將所述加熱的通風(fēng)氣體注入到所述處理腔室中。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其進(jìn)一步包含在加熱所述通風(fēng)氣體之后利用一膨脹單元使所述通風(fēng)氣體膨脹。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其進(jìn)一步包含在使所述通風(fēng)氣體膨脹之后重新加熱所述通風(fēng)氣體。
18.一種抽真空系統(tǒng)，其包含一排氣管道，其連接到一腔室；一升壓泵和一千式泵，其依次連接到所述排氣管道；和一旁通管道，其繞過所述升壓泵，其中所述旁通管道的一端連接到所述升壓泵和所述干式泵之間的所述排氣管道，且所述旁通管道的另一端連接到在所述升壓泵之前的所述排氣管道。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其進(jìn)一步包含一在所述升壓泵與所述干式泵之間的第一三向閥和一在所述升壓泵之前的第二三向閥，其中所述旁通管道的所述一端和所述另一端分別連接到所述第一和第二三向閥。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的系統(tǒng)，其中在所述第二三向閥與所述升壓泵之間設(shè)置了一閥，且一慢速抽氣管道連接到所述第二三向閥和所述旁通管道，其中所述慢速抽氣管道具有一小于所述旁通管道的直徑。
21.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其中在所述旁通管道從所述排氣管道分叉的一分叉點(diǎn)與所述升壓泵之間裝配了一用于隔離所述升壓泵的第一閥，且在所述旁通管道之中設(shè)立了一第二閥。
22.一種使用依次裝配在一排氣管道中的一升壓泵和一干式泵來抽真空一腔室的內(nèi)部的方法，所述方法包含使用所述干式泵的第一抽氣；和同時(shí)使用所述干式泵和所述升壓泵的第二抽氣。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法，其中當(dāng)所述腔室的內(nèi)部壓力變?yōu)榧s100托至約300托時(shí)，執(zhí)行所述第二抽氣。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種裝置，該裝置包括一轉(zhuǎn)移單元，該轉(zhuǎn)移單元處于大氣條件之下且其中具有一機(jī)械手；和至少一個(gè)處理腔室，該處理腔室連接到轉(zhuǎn)移單元的一側(cè)且在該處理腔室與該轉(zhuǎn)移單元之間具有一槽閥，且可交替地處于真空條件和大氣條件之下。
文檔編號C23C16/00GK1667459SQ20051005351
公開日2005年9月14日 申請日期2005年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月8日
發(fā)明者金洪習(xí), 樸賢洙, 鄭淳彬, 車城昊, 金東珍, 黃郁重, 劉真赫 申請人:周星工程股份有限公司