專利名稱：鍍膜夾具及其鍍膜載盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種鍍膜夾具(jig)，特別是有關(guān)于一種具有環(huán)形波浪狀鍍膜載盤的鍍膜夾具。
背景技術(shù)：
由于現(xiàn)行的精密銑刀及鉆頭產(chǎn)品使用量隨著各類精密機(jī)械加工產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而快速增加，為能夠符合經(jīng)濟(jì)效益需求，其品質(zhì)及特性的提升以及制造成本的降低是必須的。而傳統(tǒng)鍍膜夾具的設(shè)計(jì)方式基本上無法有效運(yùn)用鍍膜空間；使得鍍膜腔體中的工件擺置數(shù)量無法達(dá)到更具競爭力的經(jīng)濟(jì)效益；造成工件鍍膜成本相當(dāng)龐大而且昂貴。并且因工件擺置方式不正確，背離鍍膜靶材區(qū)的工件表面可能會(huì)因粒子的能量不足，而造成薄膜沉積不均勻現(xiàn)象。
臺(tái)灣專利第538975號(hào)揭露一種鍍膜夾具，如圖1a、1b、1c所示，鍍膜夾具10是呈傘狀的構(gòu)造，在其圓錐面12上設(shè)有多個(gè)放置孔14，待鍍膜的工件5可插在放置孔14中，僅露出待鍍膜的部分即可。由于靶材(未圖標(biāo))是從鍍膜夾具10的兩側(cè)濺射而出，因此對(duì)于濺射的靶材而言，較接近靶材的工件會(huì)遮蔽離靶材較遠(yuǎn)的工件，造成較接近靶材的工件與較遠(yuǎn)離靶材的工件相對(duì)會(huì)具有不同的鍍膜厚度，因此會(huì)造成鍍膜厚度的不均，而且工件的排列方式也無法有效運(yùn)用鍍膜空間。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種鍍膜夾具，可以更快速及簡便的排列工件產(chǎn)品，除了在有限的鍍膜區(qū)域中可以大量提升鍍膜工件的數(shù)量外，并且易于控制依此高密度排列裝置的鍍膜工件維持良好的鍍膜品質(zhì)及其均勻性。
為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的提供了一種鍍膜載盤，其包括一盤體，該盤體的表面是形成一波浪狀的構(gòu)造，待鍍的工件是置于該盤體表面上波浪狀構(gòu)造的凹處。
本發(fā)明的鍍膜夾具的一較佳實(shí)施例包括多個(gè)鍍膜載盤，該等鍍膜載盤可經(jīng)由組裝而形成一直立式的堆棧，每一鍍膜載盤具有一盤體，在盤體的表面形成一波浪狀的構(gòu)造，且盤體與水平面具有一既定的傾斜角，待鍍的工件是置于盤體表面上的波浪狀構(gòu)造的凹處。
在上述的較佳實(shí)施例中，每一鍍膜載盤更具有一凸緣，從其內(nèi)例圓周向外延伸并與盤體呈一既定的角度。在凸緣的外側(cè)形成一直徑較小的縮頸部并在凸緣的內(nèi)側(cè)形成一肩部，通過一鍍膜載盤的縮頸部結(jié)合于另一鍍膜載盤的肩部，多個(gè)鍍膜載盤可通過此組合方式而形成一直立式的堆棧。
本發(fā)明所述的鍍膜載盤，該盤體與水平面的傾斜角是大于或等于0度且小于或等于75度。
本發(fā)明所述的鍍膜載盤，該盤體呈多邊對(duì)稱形。
本發(fā)明所述的鍍膜載盤，該盤體呈環(huán)狀，具有一內(nèi)側(cè)圓周以及一外側(cè)圓周。
為了讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉一較佳實(shí)施例，并配合所附圖標(biāo)，作詳細(xì)說明如下。


圖1a為習(xí)知的鍍膜夾具的立體圖。
圖1b為圖1a的俯視圖。
圖1c為圖1a的側(cè)剖視圖。
圖2a為本發(fā)明的鍍膜夾具的鍍膜載盤的立體圖。
圖2b為圖2a的剖視圖。
圖3為多個(gè)鍍膜載盤堆棧成一圓柱形的鍍膜夾具的示意圖。
圖4為本發(fā)明的鍍膜載盤的俯視圖。
圖5為本發(fā)明的鍍膜載盤組合成圓柱形的鍍膜夾具的實(shí)體照片。
圖6為本發(fā)明的鍍膜夾具裝載工件的實(shí)體照片。
具體實(shí)施例方式
圖2a為本發(fā)明的鍍膜夾具中一鍍膜載盤的立體圖。圖2b為圖2a的剖視圖。鍍膜載盤20包括一盤體22以及一凸緣24。盤體22呈環(huán)形，在盤體22的表面上形成波浪狀，而且盤體22是向上方傾斜，而與水平面具有一傾斜角，在本實(shí)施例中，傾斜角為0度至75度之間，最佳的傾斜角為15～30度。凸緣24是從盤體22的內(nèi)圓周側(cè)向上方延伸，而與盤體22具有一既定的角度。凸緣24頂部的外側(cè)形成一頸縮部26，凸緣24的內(nèi)側(cè)形成一肩部28，通過一鍍膜載盤20的頸縮部26卡合于另一鍍膜載盤20的肩部28，多個(gè)鍍膜載盤20可組合成一直立的圓柱形堆棧，如圖3所示，工件5則置于盤體22波浪狀結(jié)構(gòu)的凹處，如此通過改變盤體22的內(nèi)外徑以及波浪狀結(jié)構(gòu)的尺寸大小，可以適用于各種尺寸的柱形(如棒狀或是長條狀等)工件的待鍍膜組件，此外通過改變波浪狀結(jié)構(gòu)的波浪數(shù)目，使夾持于該盤體上的待鍍膜組件增加，進(jìn)而提升鍍膜的效率。
本發(fā)明的鍍膜夾具同時(shí)兼具了以下多項(xiàng)功能和特色1.組合式工件載盤的設(shè)計(jì)方式每個(gè)鍍膜載盤可以單獨(dú)承載工件，裝載完畢后再予以組合成一圓柱形立體夾具。
2.單一平面式載盤設(shè)計(jì)可以更直接、快速及簡便的排列鉆頭或銑刀工件產(chǎn)品。
3.鍍膜載盤使用圓形結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)具有最高的對(duì)稱幾何形狀，并且使工件成放射狀排列，如此鍍膜工件的排列也會(huì)具有高度的對(duì)稱性，有助于鍍膜工件產(chǎn)品在鍍膜腔體內(nèi)獲得較佳的鍍膜厚度均勻性及表面品質(zhì)一致性的控制。
4.組合式鍍膜載盤的設(shè)計(jì)方式可以垂直堆棧，將鍍膜腔體有限空間作最大的應(yīng)用。
5.使用本創(chuàng)作設(shè)計(jì)的鍍膜載盤所鍍制的工件產(chǎn)品在與載盤接觸的非應(yīng)用區(qū)域也會(huì)產(chǎn)生鍍膜，由于夾具阻隔作用此非應(yīng)用區(qū)域與應(yīng)用區(qū)域會(huì)有色差產(chǎn)生，但是并不會(huì)影響應(yīng)用的刃端鍍膜品質(zhì)。
6.放置在載盤上的工件上方的鍍膜與未鍍膜區(qū)由于是懸空面，因此鍍膜離子仍能有部分游離至較深入載盤內(nèi)側(cè)的工件表面，造成此部分區(qū)域的工件表面的鍍膜與未鍍膜區(qū)隔色差并不明顯。
圖4為本發(fā)明的鍍膜載盤的俯視圖。圖5為本發(fā)明的鍍膜載盤組合成圓柱形的鍍膜夾具的實(shí)體照片。圖6為本發(fā)明的鍍膜夾具裝載工件的實(shí)體照片。工件先分別裝載于鍍膜載盤中，再將各鍍膜載盤重疊成圓柱狀，如此來自兩旁濺射的靶材，可以對(duì)各載盤上的工件做均勻的濺鍍。
以上所述僅為本發(fā)明較佳實(shí)施例，然其并非用以限定本發(fā)明的范圍，任何熟悉本項(xiàng)技術(shù)的人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可在此基礎(chǔ)上做進(jìn)一步的改進(jìn)和變化，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以本申請(qǐng)的權(quán)利要求書所界定的范圍為準(zhǔn)。
附圖中符號(hào)的簡單說明如下10鍍膜夾具；12圓錐面；14放置孔；20鍍膜載盤；
22盤體；24凸緣；26頸縮部；28肩部。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜載盤，包括一盤體，該盤體的表面是形成一波浪狀的構(gòu)造，待鍍的工件是置于該盤體表面上波浪狀構(gòu)造的凹處。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜載盤，其特征在于，該盤體與水平面具有一既定的傾斜角。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜載盤，其特征在于，該傾斜角是大于或等于0度且小于或等于75度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜載盤，其特征在于，該盤體呈多邊對(duì)稱形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜載盤，其特征在于，該盤體呈環(huán)狀，具有一內(nèi)側(cè)圓周以及一外側(cè)圓周。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的鍍膜載盤，其特征在于，其更包括一凸緣，從該內(nèi)側(cè)圓周向外延伸并與該盤體呈一既定的角度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜載盤，其特征在于，在該凸緣的外側(cè)形成一直徑較小的縮頸部并在該凸緣的內(nèi)側(cè)形成一肩部，通過一鍍膜載盤的縮頸部結(jié)合于另一鍍膜載盤的肩部，多個(gè)鍍膜載盤形成一直立式的堆棧。
8.一種鍍膜夾具，包括多個(gè)鍍膜載盤，該多個(gè)鍍膜載盤形成一直立式的堆棧，每一鍍膜載盤具有一盤體，在該盤體的表面形成一波浪狀的構(gòu)造，待鍍的工件是置于該盤體表面上波浪狀構(gòu)造的凹處。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜夾具，其特征在于，該盤體呈環(huán)狀，并具有一內(nèi)側(cè)圓周以及一外側(cè)圓周。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鍍膜夾具，其特征在于，該每一鍍膜載盤更具有一凸緣，從該內(nèi)側(cè)圓周向外延伸并與該盤體呈一既定的角度。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的鍍膜夾具，其特征在于，在該凸緣的外側(cè)形成一直徑較小的縮頸部并在該凸緣的內(nèi)側(cè)形成一肩部，通過一鍍膜載盤的縮頸部結(jié)合于另一鍍膜載盤的肩部，多個(gè)鍍膜載盤形成一直立式的堆棧。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜夾具，其特征在于，該盤體呈多邊對(duì)稱形。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍍膜夾具，其特征在于，該盤體與水平面具有一既定的傾斜角。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的鍍膜夾具，其特征在于，該傾斜角是大于或等于0度且小于或等于75度。
全文摘要
一種鍍膜夾具及其鍍膜載盤，該鍍膜夾具包括多個(gè)鍍膜載盤，該等鍍膜載盤可獨(dú)立使用或形成一直立式的堆棧，每一載盤具有一盤體，在盤體的表面形成一波浪狀的構(gòu)造，且盤體與水平面具有一既定的傾斜角，待鍍的工件是置于盤體表面上波浪狀構(gòu)造的凹處。通過該鍍膜夾具，可以在有限的鍍膜區(qū)域中大量提升鍍膜工件的數(shù)量，并且維持良好的鍍膜品質(zhì)及其均勻性。
文檔編號(hào)C23C14/34GK1990904SQ20051013741
公開日2007年7月4日 申請(qǐng)日期2005年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月30日
發(fā)明者呂明生, 施進(jìn)德, 吳清勛 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院