專利名稱：掩?？蚝褪寡谀９潭ㄔ谘谀？蛏系姆椒?br> 技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種通過焊接使掩模固定到其上的掩?？蛞约耙环N用來使掩模固定在掩模框上的方法，其中，該掩模用于在大尺寸圖案區(qū)域上沉積有機(jī)材料。更具體地講，本發(fā)明涉及一種能夠穩(wěn)固地支撐掩模以制造有機(jī)電致發(fā)光顯示器的大尺寸有機(jī)電致發(fā)光裝置的掩模框，以及一種使掩模固定在掩?？蛏系姆椒?，其中，該掩模用于沉積有機(jī)材料層，在將該掩模焊接到該掩?？蛏现爸瘟嗽撗谀６鴽]有損壞圖案。
背景技術(shù)：
作為普通的平板顯示器，電致發(fā)光顯示器(electroluminescent display)根據(jù)用于發(fā)射層的材料分為無機(jī)電致發(fā)光顯示器和有機(jī)電致發(fā)光顯示器。因?yàn)橛袡C(jī)電致發(fā)光顯示器能用低電壓驅(qū)動(dòng)、重量輕且薄、視角寬并響應(yīng)時(shí)間快，所以它已經(jīng)引起了關(guān)注。
這種有機(jī)電致發(fā)光顯示器包括有機(jī)電致發(fā)光裝置，有機(jī)電致發(fā)光裝置具有分別堆疊在基底上的陽極、有機(jī)材料層和陰極。有機(jī)材料層包括有機(jī)發(fā)射層，有機(jī)發(fā)射層由于復(fù)合空穴和電子得到的激子而發(fā)光。此外，為了將空穴和電子平穩(wěn)地傳輸?shù)桨l(fā)射層并提高發(fā)射效率，電子注入層和電子傳輸層可設(shè)置在陰極和有機(jī)發(fā)射層之間，空穴注入層和空穴傳輸層可設(shè)置在陽極和有機(jī)發(fā)射層之間。
通常，可通過諸如真空沉積、離子電鍍、濺射等物理氣相沉積法和采用氣體反應(yīng)的化學(xué)氣相沉積法來制造具有這種構(gòu)造的有機(jī)電致發(fā)光裝置。此外，當(dāng)通過這些方法來制造有機(jī)電致發(fā)光裝置時(shí)，需要具有預(yù)定圖案的掩模以在正確的位置堆疊有機(jī)材料層。關(guān)于這個(gè)問題，掩模在受向外的拉力的狀態(tài)下固定在掩?？蛏?。
此外，當(dāng)通過諸如焊接的方法使掩模固定到掩?？驎r(shí)，在固定工藝期間，有必要采用某類工具來壓低掩模的張力。在固定工藝期間采用的這種工具會造成對掩模的圖案區(qū)域上形成的精細(xì)圖案的損壞。從而，需要不會對掩模造成這種損壞的工藝。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種掩?？颍撗谀？蚓哂心軌蚴寡谀簳r(shí)地固定到其上的結(jié)構(gòu)而不損壞位于掩模的圖案區(qū)域上的預(yù)定的圖案。在將掩模焊接到掩?？蛏现盁o需采用重錘桿(weight bar)就使掩模固定在掩?？蛏?，從而解決了由于重錘桿造成的對圖案的損壞和工作人員負(fù)擔(dān)過大的問題。本發(fā)明也包括為實(shí)現(xiàn)同一目的使掩模固定在掩?？蛏系姆椒?。
本發(fā)明的上述和/或其它目的通過提供一種掩模框來實(shí)現(xiàn)，具有圖案區(qū)域和限定圖案區(qū)域的掩模邊緣的掩模固定在該掩模框上，該掩模框包括通口，與圖案區(qū)域?qū)?yīng)；基底，與掩模邊緣對應(yīng)?；仔纬捎信欧趴?，通過該排放孔排放空氣。
優(yōu)選地，掩模邊緣通過真空吸引(vacuum suction)而附于的基底的第一表面形成有槽，該槽的寬度大于排放孔的寬度，該槽與排放孔相通。
本發(fā)明的另一目的通過提供一種使掩模固定在掩?？蛏系姆椒▉韺?shí)現(xiàn)，該方法包括幾個(gè)步驟提供具有通口、基底和排放孔的掩?？?，通口具有預(yù)定的尺寸，基底圍繞通口，排放孔形成在基底上；將掩模安放在掩?？蛏?，掩模包括與通口對應(yīng)的圖案區(qū)域和與基底對應(yīng)的邊緣；通過真空吸引使掩模緊密地附于掩模框，真空吸引由經(jīng)過排放孔排放空氣來產(chǎn)生；通過焊接使掩模的邊緣固定到掩?？虻幕?。
優(yōu)選地，通過將真空吸引工具與排放孔結(jié)合來實(shí)現(xiàn)真空吸引。更優(yōu)選地，真空吸引工具包括真空泵。


通過結(jié)合附圖時(shí)來參照以下詳細(xì)的描述，本發(fā)明的更全面的解釋及其許多伴隨的優(yōu)點(diǎn)將更加清楚，同時(shí)也更易于理解，在附圖中，相同的標(biāo)號表示相同或相似的元件。
結(jié)合附圖來對優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行以下的描述，本發(fā)明的這些和/或其它目的及優(yōu)點(diǎn)將變得清楚且更易于理解，其中圖1是示意性地示出用于制造有機(jī)電致發(fā)光裝置的掩模的分解透視圖；圖2是形成有圖案的掩模的平面圖；
圖3是示出通過重錘桿使掩模固定到掩模框上的透視圖；圖4是示出將掩模焊接到掩模框上的透視圖；圖5是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的掩?？虻耐敢晥D；圖6A至圖6C是示出將掩模焊接到圖5的掩?？蛏系墓に嚨耐敢晥D；圖7是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的掩模框的透視圖；圖8是示出使掩模附于掩?？虻难貓D7的I-I線截取的剖視圖；圖9是根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩?？虻耐敢晥D；圖10是示出使掩模附于掩模框的沿圖9的II-II線截取的剖視圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在將參照附圖來詳細(xì)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例。在下文，術(shù)語“掩?！敝感纬捎袌D案的鋼板，術(shù)語“掩模圖案”指在掩模片上形成的圖案。描述下列實(shí)施例為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠獲得對本發(fā)明的徹底的理解?？蓪Ρ景l(fā)明進(jìn)行各種修改，應(yīng)當(dāng)指出的是，本發(fā)明并不限于這里所公開的實(shí)施例。
圖1是示意性地示出用于制造有機(jī)電致發(fā)光裝置的掩模的分解透視圖；圖2是形成有圖案的掩模的平面圖；圖3是示出通過重錘桿使掩模固定到掩?？蛏系耐敢晥D；圖4是示出將掩模焊接到掩?？蛏系耐敢晥D。
參照圖1，為了在基底1的一側(cè)上形成具有預(yù)定結(jié)構(gòu)的有機(jī)材料層(未示出)，掩模3對于在A方向上受拉力的狀態(tài)下，具有與有機(jī)材料層的結(jié)構(gòu)對應(yīng)的預(yù)定圖案區(qū)域3a的掩模3被固定到掩?？?，掩模3位于基底1的前面。然后，在B方向上，氣態(tài)有機(jī)材料由有機(jī)材料噴射室(effusion cell)(未示出)提供，并在經(jīng)過掩模3的圖案區(qū)域3a和掩?？?的開口5a后沉積在基底1的一個(gè)面上，從而形成了具有與圖案區(qū)域3a的圖案對應(yīng)的預(yù)定結(jié)構(gòu)的有機(jī)材料層。
參照圖2，掩模3包括形成為預(yù)定圖案的圖案區(qū)域3a和將固定在掩?？?上的邊緣3b。
參照圖3和圖4，為了將掩模3焊接到掩?？?上，當(dāng)掩模3處于在A方向上受到拉力的狀態(tài)下，掩模3被放置在掩?？?上。然后，將重錘桿7安放在掩模3上，從而使受拉的掩模3暫時(shí)地固定到掩?？?。其后，將掩模3的邊緣3b焊接到掩?？?上，具體地講，基于點(diǎn)焊焊接到焊點(diǎn)W處。在改變掩模3上的重錘桿7的位置的同時(shí)，連續(xù)地執(zhí)行這種點(diǎn)焊。
然而，將重錘桿7安放在掩模3上或在掩模3上移動(dòng)的同時(shí)，重錘桿7可能會損壞形成在掩模3的圖案區(qū)域3a上的精細(xì)圖案。為了保護(hù)精細(xì)圖案免受因重錘桿7而造成的損壞，工作人員必須謹(jǐn)慎地操作重錘桿7，從而增加了工作人員的負(fù)擔(dān)。
此外，如上所述，當(dāng)掩模3的圖案被重錘桿7損壞時(shí)，掩模3不能再用來形成有機(jī)電致發(fā)光裝置的有機(jī)材料層。因此，必須廢棄或修改這種掩模，從而增加了生產(chǎn)成本。
圖5是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的掩?？虻耐敢晥D；圖6A至圖6C是示出將掩模焊接到圖5的掩?？蛏系墓に嚨耐敢晥D。
參照圖5以及圖6A至圖6C，掩模框15被設(shè)置成用來通過焊接等使掩模固定在其上。掩模用來形成有機(jī)電致發(fā)光裝置的有機(jī)材料層。通常，與掩模的圖案區(qū)域?qū)?yīng)的通口15a形成在掩模框15的中間部分，與圍繞圖案區(qū)域的邊緣對應(yīng)的基底15b圍繞通口15a形成。
根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例，基底15b形成有穿透基底15b的多個(gè)孔15c。在本發(fā)明的第一實(shí)施例中，孔15c呈圓形，但是本發(fā)明并不局限于此。作為選擇，孔15c可具有各種形狀?？?5c用作排放空氣的通道，從而通過真空吸引方法使掩模3的邊緣3b安放在掩?？?5的基底15b上。
圖6A至圖6C是示出將掩模焊接到圖5的掩?？蛏系墓に嚨耐敢晥D。
參照圖4、圖5以及圖6A至圖6C，真空吸引工具(例如真空泵17)在基底15b的后表面上與孔15c結(jié)合。為了參考，安放有掩模3的邊緣的基底15b的表面將稱作前表面，基底15b的另一表面將稱作后表面。因此，當(dāng)真空泵17運(yùn)行時(shí)，將空氣從基底15b的前表面經(jīng)過孔15c排到基底15b的后表面。結(jié)果，通過真空吸引的方法將掩模3的邊緣3a安放在掩?？?5的基底15b上。在圖中，僅代表性地示出了一臺真空泵17，但是真空泵17的數(shù)量并不局限于此。
圖7是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的掩?？虻耐敢晥D；圖8是示出掩模附于掩?？虻难貓D7的I-I線截取的剖視圖。
根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例，如圖7和圖8中所示，掩?？?5的基底25b的前表面設(shè)置有在其內(nèi)形成并與孔25c相通的槽25e，槽25e的槽徑大于孔25c的直徑。如此，增加了用于真空吸引的表面區(qū)域，從而提高了在掩模3的邊緣處的真空吸引效率。
作為選擇，如果槽25e的槽徑小于孔25c的直徑，則增加了通過槽25e的由真空吸引工具排放的空氣量。因此，排放的空氣量增加，從而提高了在掩模3的邊緣處的真空吸引效率。
圖9是根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩?？虻耐敢晥D；圖10是示出掩模附于掩模框的沿圖9的II-II線截取的剖視圖。
根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例，如圖9和圖10中所見，槽35d可具有溝槽結(jié)構(gòu)(trench structure)，從而相鄰的孔35c彼此連接并相通。具體地講，掩?？?5的基底35b的前表面可具有如圖9所示的溝槽結(jié)構(gòu)。即，通過與孔35c相通并在通口35a周圍的真空槽35d來實(shí)現(xiàn)溝槽結(jié)構(gòu)。因此，增加了在掩模3的邊緣處對真空吸引起作用的表面區(qū)域。
下面，將描述使掩模固定在根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的掩?？蛏系姆椒?。
參照圖6A至圖6C，掩?？?5的基底15b設(shè)置有孔15c，通過真空泵17經(jīng)過孔15c排放空氣。具有預(yù)定圖案的掩模3(圖4)安放在掩?？?5的前表面上。此時(shí)，掩?？?5的基底15b被掩模3的邊緣3b覆蓋，從而蓋住孔15c的頂部。然后，在A方向上掩模3受到拉力。
其后，真空泵17與各孔15c的底部結(jié)合。當(dāng)真空泵17運(yùn)行時(shí)，向真空泵17排放孔15c內(nèi)的空氣，使得掩模3的邊緣3b通過真空吸引緊密地附于掩模框15的前表面。在該狀態(tài)下，在焊點(diǎn)W處對掩模3的邊緣3b施加點(diǎn)焊，從而使掩模3固定到掩?？?5上。
如上所述，因?yàn)檠谀?通過孔15c排放空氣而附于掩?？?5的前表面，所以保護(hù)了形成在掩模3的圖案區(qū)域3a上的圖案免受損壞。
同樣地，參照圖7和圖8，根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例，將掩模3安放在掩?？?5的前表面上。此時(shí)，掩模3的邊緣3b位于形成在掩?？?5的基底25b上的槽25e的頂部上。然后，真空泵17與暴露于掩模框25的后表面的孔25c結(jié)合。當(dāng)真空泵17運(yùn)行時(shí)，向真空泵17排放槽25e內(nèi)和孔25c內(nèi)的空氣。
結(jié)果，由于排放的空氣引起的真空吸引使掩模3的邊緣3b緊密地附于掩模框25的基底25b。通過槽25e增大了真空吸引作用的區(qū)域，從而掩模3的邊緣3b更加穩(wěn)固地附于掩?？?5的基底25b。
在這種狀態(tài)下，在焊點(diǎn)W處對掩模3的邊緣3b施加點(diǎn)焊，從而使掩模3固定到掩?？?5。
此外，參照圖9和圖10，根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例，將掩模3安放在掩?？?5的前表面上。此時(shí)，掩模3的邊緣3b位于形成在掩?？?5的基底35b上的真空槽35d的頂部上。然后，真空泵17與暴露于掩模框35的后表面的孔35c結(jié)合。當(dāng)真空泵17運(yùn)行時(shí)，向真空泵17排放真空槽35d內(nèi)和孔35c內(nèi)的空氣。
結(jié)果，由于排放的空氣引起的真空吸引使掩模3的邊緣3b緊密地附于掩?？?5的基底35b。通過真空槽35d增大了真空吸引作用的區(qū)域，從而掩模3的邊緣3b更加穩(wěn)固地附于掩模框35的基底35b。
在這種狀態(tài)下，在焊點(diǎn)W處對掩模3的邊緣3b施加點(diǎn)焊，從而使掩模3固定到掩模框35。
本發(fā)明的結(jié)果是，經(jīng)過孔排放空氣，從而掩模的邊緣和掩?？虻幕字g的真空吸引使掩模緊密地附于掩?？颍瑥亩Ｗo(hù)了掩模的圖案區(qū)域內(nèi)形成的圖案免受損壞。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，通過真空吸引使掩模附于掩?？?，然后對掩模施加點(diǎn)焊，從而使掩模安全地固定到掩?？蚨鴽]有損壞掩模的圖案區(qū)域內(nèi)的圖案。
雖然已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，在不脫離本發(fā)明的原理和精神的情況下，可以對實(shí)施例進(jìn)行修改，其中，本發(fā)明的范圍限定在權(quán)利要求及其等同物內(nèi)。
本申請要求于2005年1月5日提交到韓國知識產(chǎn)權(quán)局的第10-2005-0000962號申請的所有權(quán)益，本申請參考該文獻(xiàn)并包含于此。
權(quán)利要求
1.一種掩?？?，具有圖案區(qū)域和限定所述圖案區(qū)域的掩模邊緣的掩模固定在所述掩模框上，所述掩?？虬ㄍ冢c所述掩模的所述圖案區(qū)域?qū)?yīng)；基底，與所述掩模邊緣對應(yīng)，其中，所述基底設(shè)置有排放孔，所述排放孔形成在所述基底內(nèi)，并且空氣通過所述排放孔排放。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩?？?，其中，所述掩模邊緣通過真空吸引而附于的所述基底的第一表面形成有槽，所述槽的各自的寬度大于所述排放孔的各自的寬度，所述槽與所述排放孔相通。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩?？?，其中，所述槽具有溝槽結(jié)構(gòu)，相鄰的孔通過所述溝槽結(jié)構(gòu)而彼此連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩?？?，其中，各槽形成為圍繞各自的通口。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩?？颍渲?，所述掩模邊緣通過真空吸引而附于的所述基底的第一表面形成有槽，所述槽的各自的寬度小于所述排放孔的各自的寬度，所述槽與所述排放孔相通。
6.如權(quán)利要求5所述的掩?？颍渲?，所述槽具有溝槽結(jié)構(gòu)，相鄰的孔通過所述溝槽結(jié)構(gòu)而彼此連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩模框，其中，各槽形成為圍繞各自的通口。
8.一種使掩模固定在掩?？蛏系姆椒?，所述方法包括幾個(gè)步驟提供具有通口、基底和至少一個(gè)排放孔的掩?？?，所述通口具有預(yù)定的尺寸，所述基底圍繞所述通口，所述排放孔形成在所述基底上；將所述掩模安放在所述掩?？蛏?，所述掩模包括與所述通口對應(yīng)的圖案區(qū)域和與所述基底對應(yīng)的邊緣；通過真空吸引使所述掩模緊密地附于所述掩?？?，所述真空吸引由經(jīng)過所述至少一個(gè)排放孔排放空氣來產(chǎn)生；通過焊接使所述掩模的所述邊緣固定到所述掩模框的所述基底。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，通過將真空吸引部件與所述至少一個(gè)排放孔結(jié)合來實(shí)現(xiàn)所述真空吸引。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述真空吸引部件包括真空泵。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，還包括在焊接前對所述掩模施加拉力的步驟。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述至少一個(gè)排放孔包括形成在所述基底內(nèi)的多個(gè)排放孔，其中，所述掩模邊緣通過真空吸引而附于的所述基底的第一表面在其內(nèi)形成有槽，各槽的寬度大于各自的排放孔的寬度，所述各槽與所述各自的排放孔相通。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述槽具有溝槽結(jié)構(gòu)，相鄰的孔通過所述溝槽結(jié)構(gòu)而彼此連接。
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述至少一個(gè)排放孔包括形成在所述基底內(nèi)的多個(gè)排放孔，其中，所述掩模邊緣通過真空吸引而附于的所述基底的第一表面在其內(nèi)形成有槽，所述槽的各自的寬度小于所述排放孔的各自的寬度，所述槽與所述排放孔相通。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述槽具有溝槽結(jié)構(gòu)，相鄰的孔通過所述溝槽結(jié)構(gòu)而彼此連接。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種掩?？?，具有圖案區(qū)域和限定圖案區(qū)域的掩模邊緣的掩模固定在該掩?？蛏?，該掩?？虬ㄍ?，與圖案區(qū)域?qū)?yīng)；基底，與掩模邊緣對應(yīng)?；自O(shè)置有在其內(nèi)形成的排放孔，真空泵與排放孔結(jié)合，從而使掩模固定到掩?？蚨鴽]有損壞形成在掩模的圖案區(qū)域上的圖案。
文檔編號C23C16/04GK1824824SQ200510137658
公開日2006年8月30日 申請日期2005年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月5日
發(fā)明者康熙哲, 金振圭 申請人:三星Sdi株式會社