專利名稱:用于在基底上氣相沉積的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種根據(jù)權(quán)利要求1的前序部分所述的、用于在基底上氣相沉積的設(shè)備。
背景技術(shù):
通常在真空條件下使合成膜具有金屬層,例如以便于使合成膜不能透過(guò)氣體、或者使其導(dǎo)電。如果并非所有區(qū)域、而是只是某些印跡線做成導(dǎo)電的,則使不會(huì)接收到金屬層的那些區(qū)域具有若干油膜條帶。由于這些油膜,金屬無(wú)法附著在疊層上。借助于油蒸發(fā)器涂敷這些油膜條帶。
用于以在真空條件下涂布膜印跡線的方式生產(chǎn)不含金屬的條帶、尤其是用于生產(chǎn)電容的設(shè)備是已知的,在該設(shè)備中設(shè)有裝油的容器,該設(shè)備具有至少一個(gè)出氣管(DE 3922187 A1)。該出氣管的出氣管嘴終止于涂布室中的油面下方,緊鄰所要涂布的基底。
而且,已知一種用于在隔熱材料帶的金屬氣相沉積中生產(chǎn)不含金屬的條帶的方法和設(shè)備(EP 0756020 A1)。這里,在所要生產(chǎn)的不含金屬的條帶的區(qū)域中涂上覆帶,借助于油蒸發(fā)器,該覆帶在一側(cè)涂有油。油蒸發(fā)器結(jié)構(gòu)的細(xì)節(jié)并未提供。
在另一種已知的用于生產(chǎn)油遮蔽膜的設(shè)備中設(shè)置了圓柱形的遮蔽輥,遮蔽油被導(dǎo)入該設(shè)備中(JP2001-279425)。在遮蔽輥的周圍有開(kāi)口,遮蔽油通過(guò)該開(kāi)口輸出。在該遮蔽輥上方定位有帶若干通孔的薄疊層,且這些通孔與該開(kāi)口重疊。
在JP 2004-214185中公開(kāi)了另一種設(shè)備,其中基底被引導(dǎo)經(jīng)過(guò)若干線性設(shè)置的管嘴。這里所說(shuō)的設(shè)備包括裝油的盒形裝置,以及定位于該設(shè)備下方的加熱系統(tǒng)。
上述設(shè)備不具有計(jì)量流出的油汽量的能力。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明解決了提供一種用于在基底上氣相沉積油的設(shè)備的問(wèn)題,該設(shè)備可以設(shè)定流出的油汽量。
該問(wèn)題通過(guò)權(quán)利要求1所述的特征而得到解決。
因此,本發(fā)明涉及一種用于在基底上氣相沉積的設(shè)備。該設(shè)備包括盤以及帶若干線性設(shè)置的孔的蓋。在該蓋的上方設(shè)置有密封裝置,該密封裝置也具有若干開(kāi)口。通過(guò)該密封裝置,蓋的這些孔可以封閉或者開(kāi)放,且所有的孔都被同時(shí)處理。通過(guò)該密封裝置,能夠在極短的時(shí)間內(nèi)設(shè)定不同的蒸發(fā)速率。
本發(fā)明中所述的設(shè)備具有使蒸汽壓力具有更明顯的均一性的優(yōu)點(diǎn),并因而在油膜的整個(gè)工作寬度上使油膜條帶精度獲得更明顯的均一性。
設(shè)備包括設(shè)置成行的若干孔,且這些孔可借助于密封裝置敞開(kāi)或者封閉。該密封裝置還包括若干開(kāi)口,并且,通過(guò)致動(dòng)該密封裝置,這些孔可以敞開(kāi)或者封閉。
該密封裝置同時(shí)處理所有的孔,從而可以實(shí)現(xiàn)一致地開(kāi)放所有的孔。
由此變得可以在極短的時(shí)間內(nèi)設(shè)定熱慣性蒸發(fā)設(shè)備的蒸發(fā)速率。
本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)包括可以設(shè)置密封裝置,使得流出的蒸汽量一直保持恒定。由于蒸汽量的恒定,因而基底的涂層也可以變得均勻,從而該設(shè)備尤其適合于在金屬合成膜上形成條帶、圖案以及表面不含金屬的區(qū)域。
本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于,準(zhǔn)備期間以及氣相沉積工藝的結(jié)束期間,蒸發(fā)空間可以借助于密封裝置而封閉。因此,油的泄漏變得不大可能,這還使油對(duì)環(huán)境的污染降到了最小。從而,可以顯著地減小油的損耗。因此,密封裝置具有設(shè)定打開(kāi)位置或者關(guān)閉位置的能力。
利用調(diào)節(jié)流出的油汽量的能力,可以使油量最優(yōu),從而變得可以在邊緣精度和殘留油量方面改善不含金屬的區(qū)域的質(zhì)量。例如,可以精確地設(shè)定,從而借助于測(cè)量設(shè)備確定所排出的油量。如果油汽的排出量與標(biāo)定值不相對(duì)應(yīng),則有信號(hào)傳遞到用于致動(dòng)密封裝置的裝置,從而再將油汽量設(shè)定在標(biāo)定值。
該設(shè)備的構(gòu)思還體現(xiàn)在,使得上升蒸汽只沿著向上方向、即朝向一個(gè)側(cè)面離開(kāi)該設(shè)備,這是因?yàn)槠渌袀?cè)面上完全不能透過(guò)蒸汽。從而,不再發(fā)生交叉流,在設(shè)備的所有區(qū)域中蒸汽壓力接近相等,由此在管嘴下方的空間中也不存在流阻。由于坩堝和呈滑塊形式的密封裝置的較淺的構(gòu)造,設(shè)備可以采取比先前已知的蒸發(fā)器單元小得多的尺寸。
本發(fā)明的主題顯示在附圖中,且將在下文中進(jìn)一步詳細(xì)地描述。在附圖中圖1是用在基底上沉積油的設(shè)備、以及被導(dǎo)向經(jīng)過(guò)該設(shè)備的基底的透視圖;圖2是根據(jù)圖1的設(shè)備在沒(méi)有基底和管嘴桿時(shí)的透視圖;
圖3是沿A-A通過(guò)根據(jù)圖1的設(shè)備的縱向截面的一段的視圖,其中滑塊處于打開(kāi)位置;圖4是在沿順時(shí)針?lè)较蜣D(zhuǎn)動(dòng)90度之后,沿B-B通過(guò)圖1所示的設(shè)備的截面視圖,其中滑塊處于打開(kāi)位置。
具體實(shí)施例方式
圖1顯示了用于在真空下、在例如有機(jī)材料的材料基底上氣相沉積的設(shè)備1的透視圖。在該設(shè)備1上方,沿B-B引導(dǎo)疊層基底38。如果該基底為合成膜,則如JP 2001-279425所述,基底可以在設(shè)備1上方移動(dòng)。為了產(chǎn)生出尖銳邊緣的條帶,基底38和設(shè)備1之間的距離通常非常小。
該設(shè)備1包括油盤2,其中設(shè)置有所要蒸發(fā)的油。在油盤2上有隔熱層3,在隔熱層3上設(shè)有加熱板4。在該加熱板4上定位有管嘴桿5,該管嘴桿5在其頂部邊緣具有間隙6。還可以設(shè)置若干獨(dú)立管嘴以代替間隙6。沿線A-A設(shè)有帶若干孔的滑塊7,在圖1中只有其中的孔10是可見(jiàn)的。間隙6由兩個(gè)區(qū)域24、25定界。
而且,該設(shè)備1包括若干連接元件28-32,它們將油盤2、隔熱層3、加熱板4以及擱在它們上面的管嘴桿5彼此連接起來(lái)。
油盤2包括至少一個(gè)加熱系統(tǒng),在圖1中該加熱系統(tǒng)顯示為棒式加熱器9。該加熱器9為例如電阻加熱器,其優(yōu)選地在交流電壓源下工作。通過(guò)該棒式加熱器9,使油盤2中的油蒸發(fā)。
為了防止蒸汽在設(shè)備1的中心區(qū)域冷凝,加熱板4包括至少一個(gè)單獨(dú)的棒式加熱器8。
圖2顯示了圖1所示的設(shè)備1沒(méi)有基底38和管嘴桿5時(shí)的透視圖。而且,可以看到滑塊7,該滑塊7被設(shè)置在加熱板4中。如這里所示,滑塊7可以呈細(xì)長(zhǎng)板的形式。加熱板4與靠在油盤2上面的隔熱板3相接觸,而且隔熱板3、加熱板4以及油盤2通過(guò)連接元件28-37而彼此連接起來(lái)。而且,棒式加熱器9、8和27是明顯可見(jiàn)的。
隔熱板3用于將油盤2和加熱板4熱隔離開(kāi)。在單獨(dú)加熱器的情況下,可以將不同溫度的棒式加熱器8和加熱器9因此設(shè)置在加熱板4和油盤2中。隔熱板3由大體柔性的合成材料構(gòu)成,其同時(shí)用作密封材料。
加熱板4在它沿A-A的中心具有凹槽,滑塊7被裝配在該凹槽中。該滑塊7具有設(shè)置成行的若干開(kāi)口10-14,它們基本彼此等距地間隔開(kāi)?;瑝K7能夠沿A-A(見(jiàn)箭頭)移動(dòng)。必須有至少與加熱板4(圖2中不可見(jiàn))的孔一樣多的開(kāi)口10-14,兩個(gè)開(kāi)口10-14的中心距與加熱板4中的兩個(gè)孔的中心距相對(duì)應(yīng)。加熱板的孔徑大致與滑塊7的開(kāi)口10-14的直徑相對(duì)應(yīng)。從而,滑塊7的長(zhǎng)度與加熱板4的長(zhǎng)度加上兩個(gè)開(kāi)口10-14的中心距相對(duì)應(yīng)。因此,變得可能的是一方面,開(kāi)口10-14的中心可以精確地位于這些孔的中心上方,另一方面,位于這些孔的中心之間。如果這些開(kāi)口精確地位于這些孔上方,則蒸汽可以從油盤2的內(nèi)部離開(kāi),然而,如果這些開(kāi)口位于這些孔之間,則阻止了蒸汽離開(kāi)。要理解的是,在這兩個(gè)極端位置之間可以有若干可能位置,在這些位置,可以使減小量的蒸汽離開(kāi)。要理解的是,可以設(shè)置比圖2中所示的開(kāi)口數(shù)量更多、且尺寸更小的開(kāi)口10-14。
在沿A-A延伸的加熱板4的兩個(gè)側(cè)面上均設(shè)有密封材料15、16,這防止了蒸汽從油盤2離開(kāi)。該密封材料15、16優(yōu)選地包含橡膠型的彈性材料。
圖3顯示了圖1所示設(shè)備沿A-A的縱向截面的一段。在油盤2的內(nèi)部空間18中可以看到加熱棒9,該加熱棒9完全被油包圍。在油盤2上定位有隔熱板3,在隔熱板3上設(shè)有加熱板4。該加熱板4包括若干孔19-22,蒸汽可從這些孔離開(kāi)并通過(guò)滑塊7的開(kāi)口10-14而進(jìn)入空隙26。
如在圖3中所見(jiàn),帶開(kāi)口10的滑塊7的一部分位于油盤2外側(cè)。以下述方式將滑塊7設(shè)置在加熱板4上,即,使得滑塊的開(kāi)口12-14的一部分與加熱板4的孔19-21對(duì)準(zhǔn)。從而,上升的蒸汽能夠通過(guò)這些孔19-21和開(kāi)口12-14進(jìn)入管嘴桿5的空隙26中,并從那通過(guò)間隙6而穿到設(shè)備1外。以此方式,蒸汽到達(dá)在設(shè)備1上方移動(dòng)的基底38。
如果滑塊7進(jìn)一步滑動(dòng)到設(shè)備1中,則可以確定開(kāi)口10-12現(xiàn)在僅部分地位于孔19-22上方。在此情況中,滑塊7作用類似于節(jié)流閥,這是因?yàn)檩^少的蒸汽能夠穿到油盤2外。如果滑塊7又進(jìn)一步滑動(dòng)到設(shè)備1中,則涂布工藝被完全中斷,這是因?yàn)闆](méi)有開(kāi)口仍然位于孔19-22上方,且蒸汽不再可能從油盤2離開(kāi)。
圖4顯示了圖3所示的設(shè)備在沿順時(shí)針?lè)较蜣D(zhuǎn)動(dòng)90度之后沿B-B的截面視圖?;?8在設(shè)備1上方移動(dòng),并經(jīng)過(guò)設(shè)備1。加熱棒9在油盤2的內(nèi)部18延伸,該加熱棒9完全被油17所包圍。
在油盤2上有隔熱板3以及加熱板4和管嘴桿5。所有的這些元件2-5通過(guò)連接件29-34而保持在一起,從而這些元件彼此緊密地相鄰。從而,蒸汽不可能在設(shè)備1的側(cè)面離開(kāi)。兩個(gè)加熱棒8和27延伸通過(guò)加熱板4。還可看到的是橡膠型的彈性材料15、16以及平行延伸到孔19的密封材料23。從而,該孔19與余下的孔20、21、22一樣也被密封材料完全包圍。
在加熱板4上??坑袔ч_(kāi)口12的滑塊7,滑塊7正好位于孔19上方。因此,上升蒸汽可以到達(dá)空隙26。為了獲得均勻的油膜條帶,特別是在帶有很少管嘴的管嘴桿的情況下,蒸汽壓力的平衡必須是可能的,而沒(méi)有明顯的流阻。因此,管嘴下方的空隙26必須盡可能的大。管嘴桿5具有由兩個(gè)區(qū)域24、25限定出的間隙6。通過(guò)該間隙6,蒸汽可以離開(kāi)設(shè)備1,并到達(dá)移動(dòng)經(jīng)過(guò)該設(shè)備1的基底38,蒸汽最后冷凝在基底38上。
滑塊7的滑動(dòng)完成,使得開(kāi)口12不再、或者僅部分地位于孔19上方。
如果滑塊7僅部分地位于孔19上方,則獲得了節(jié)流效果,相反的,如果開(kāi)口12不再位于孔19上方,則蒸汽不能離開(kāi)。從而,滑塊7作為密封閥。
一旦涂布工藝完成,而且設(shè)備1已冷卻下來(lái),則可以卸下連接件29、34,而且可以容易拆開(kāi)該裝置并清潔它。
權(quán)利要求
1.一種用于在基底上氣相沉積的設(shè)備,該設(shè)備包括盤(2)以及在該盤(2)上方、帶有若干線性設(shè)置的孔(19-22)的蓋(4),其特征在于,在該蓋(4)的上方設(shè)有密封裝置(7),該密封裝置(7)還包括若干線性設(shè)置的開(kāi)口(10-14)。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述密封裝置(7)具有至少與所述蓋(4)具有的孔(19-22)一樣多的開(kāi)口(10-14)。
3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述密封裝置(7)能夠沿著一個(gè)坐標(biāo)移動(dòng)。
4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述密封裝置(7)的長(zhǎng)度大致與所述蓋(4)的長(zhǎng)度相對(duì)應(yīng)。
5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述密封裝置(7)的長(zhǎng)度至少為所述蓋(4)的長(zhǎng)度加上與兩個(gè)孔(19-22)的中心距相對(duì)應(yīng)的長(zhǎng)度。
6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述密封裝置(7)的兩個(gè)相鄰開(kāi)口(10-14)的中心之間的距離近似與所述蓋(4)的兩個(gè)相鄰孔(19-22)的中心之間的距離相對(duì)應(yīng)。
7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述密封裝置(7)采取這樣的位置,在該位置,所述開(kāi)口(10-14)的中心精確地位于所述蓋(4)的孔(19-22)的中心上方。
8.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述密封裝置(7)采取這樣的位置,在該位置,所述開(kāi)口(10-14)的中心精確地位于所述蓋(4)的相鄰孔(19-22)之間的中心。
9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述盤(2)具有至少一個(gè)加熱器(9)。
10.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述蓋(4)具有至少一個(gè)加熱器(8、27)。
11.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,在所述盤(2)和所述蓋(4)之間設(shè)有隔熱板(3)。
12.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,在管嘴桿(5)中,在所述密封裝置(7)上方設(shè)有蒸汽空隙(26)。
13.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備,其中,在所述管嘴桿(5)中,在所述蒸汽空隙(26)上方設(shè)有間隙(6)。
14.如權(quán)利要求9或權(quán)利要求10所述的設(shè)備,其中,所述加熱器(9、8、27)為棒式加熱器。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于在基底上氣相沉積的設(shè)備。該設(shè)備包括盤和帶有若干線性設(shè)置的孔的蓋。在該蓋的上方設(shè)有密封裝置,該密封裝置也包括若干開(kāi)口。通過(guò)該密封裝置,可以使蓋的這些孔敞開(kāi)或者封閉,所有的孔被同時(shí)處理。通過(guò)該密封裝置,能夠在極短的時(shí)間內(nèi)設(shè)定不同的蒸發(fā)速率。
文檔編號(hào)C23C14/54GK1955331SQ20061011007
公開(kāi)日2007年5月2日 申請(qǐng)日期2006年7月31日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月26日
發(fā)明者甘特·克萊姆 申請(qǐng)人:應(yīng)用材料有限公司