專利名稱：研磨系統(tǒng)及研磨方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種研磨系統(tǒng)與研磨方法，且特別是關(guān)于一種可局部研磨刮傷部位并節(jié)省研磨液的研磨系統(tǒng)與研磨方法。
背景技術(shù)：
一般在液晶顯示器的制作工藝中，當(dāng)玻璃基板被組裝并切割完成之后，都會先檢查這些玻璃基板的表面是否有刮傷的痕跡。檢查的方式通常是借由光投射到玻璃基板后，以肉眼觀察是否有無法擦拭掉的痕跡或缺陷。當(dāng)玻璃基板上具有刮傷痕跡時，則會拋光這些玻璃基板的表面以除去刮傷痕跡。請參照圖1，其示出為傳統(tǒng)上的研磨方法的示意圖。如圖1所示，常見的做法是將整片玻璃基板1浸泡在一個裝有研磨液L的容器2里面，并以固定裝置3固定住玻璃基板1，再由研磨墊4在玻璃基板1上作局部或整面的研磨。此研磨方式需要耗費非常大量的研磨液。
再者，研磨液L通常為酸性或堿性的液體(大部份為酸性)，因此在玻璃基板1被研磨完成之后，必須將玻璃基板1清洗干凈，才不會腐蝕掉玻璃基板1邊緣的外引腳接合(outer lead bonding，OLB)部位的電極。另外，由于研磨液L中會包括有許多微小的研磨粒，在清洗玻璃基板1的過程中極不容易將電極上的研磨粒完全清洗干凈。若是研磨粒殘留在電極上，在點燈測試步驟中以探針接觸這些電極時，都將無法導(dǎo)通電極而會產(chǎn)生線缺陷，同時也會降低探針的使用壽命。此外，由于研磨液L通常為不透明的液體，在研磨過程中必須將玻璃基板1多次取出以判斷是否研磨到正確的刮傷位置，不僅容易擠壓到玻璃基板1中的液晶層，此研磨方法也非常耗工費時。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的就是在提供一種研磨系統(tǒng)與研磨方法，借由微調(diào)結(jié)構(gòu)與緩沖止滑結(jié)構(gòu)的設(shè)計，可微調(diào)研磨墊于待磨組件上的壓下力量，用以置放待磨對象的緩沖止滑結(jié)構(gòu)并可作為在研磨墊壓下力量過大時的緩沖組件，以避免因下壓力量過大而在待磨組件上造成額外的損傷。
根據(jù)本發(fā)明的目的，提出一種研磨系統(tǒng)，可應(yīng)用于研磨至少一待磨對象。研磨系統(tǒng)包括緩沖止滑結(jié)構(gòu)與研磨裝置。研磨裝置包括一基架、研磨部及微調(diào)結(jié)構(gòu)。研磨部設(shè)置在基架上，并可相對于緩沖止滑結(jié)構(gòu)移動。微調(diào)結(jié)構(gòu)設(shè)置在基架與研磨部之間，用以調(diào)整研磨部與基架的一間距，進而調(diào)整研磨部以及緩沖止滑結(jié)構(gòu)上的一待磨對象的距離。
根據(jù)本發(fā)明的目的，再提出一種研磨方法，包括首先提供一研磨系統(tǒng)，其包括緩沖止滑結(jié)構(gòu)及研磨裝置，研磨裝置包括基架、研磨部及微調(diào)結(jié)構(gòu)，微調(diào)結(jié)構(gòu)則設(shè)置在基架與研磨部之間；接著，置放一待磨對象于緩沖止滑結(jié)構(gòu)上，并使研磨部設(shè)置在待磨物件之上；然后，調(diào)整微調(diào)結(jié)構(gòu)以改變基架與研磨部的一間距，借此調(diào)整研磨部與待磨對象的距離。
為讓本發(fā)明的上述目的、特征、和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉一優(yōu)選實施例，并配合附圖，作詳細說明如下


圖1示出為傳統(tǒng)上的研磨方法的示意圖。
圖2A示出為依照本發(fā)明一優(yōu)選實施例的研磨系統(tǒng)的示意圖。
圖2B示出為圖2A的微調(diào)結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖3示出為圖2A研磨系統(tǒng)的研磨方法的流程圖。
圖4示出為圖2A的研磨系統(tǒng)在研磨時的示意圖。
主要組件符號說明1玻璃基板2容器3固定裝置4、18研磨墊10研磨系統(tǒng)11緩沖止滑結(jié)構(gòu)12研磨裝置13研磨部14微調(diào)結(jié)構(gòu)
15基架16電機16A輸出軸端17研磨液供給裝置17A噴嘴19固定塊20螺絲30待磨物件L研磨液P刮傷區(qū)域具體實施方式
請參照圖2A～圖2B，圖2A示出為依照本發(fā)明一優(yōu)選實施例的研磨系統(tǒng)的示意圖，圖2B示出為圖2A的微調(diào)結(jié)構(gòu)的示意圖。如圖2A所示，研磨系統(tǒng)10包括緩沖止滑結(jié)構(gòu)11與研磨裝置12，緩沖止滑結(jié)構(gòu)11用以固定一待磨對象(未示出)，而研磨裝置12則包括研磨部13與微調(diào)結(jié)構(gòu)14。研磨部13設(shè)置在一基架15上，并可相對于緩沖止滑結(jié)構(gòu)11移動。微調(diào)結(jié)構(gòu)14則設(shè)置在基架15與研磨部13之間，用以調(diào)整研磨部13與基架15的間距，進而調(diào)整研磨部13與待磨對象的距離。
如圖2A所示，研磨裝置12還包括一電機16，其優(yōu)選地位于微調(diào)結(jié)構(gòu)15與研磨部13之間。電機16可裝設(shè)在研磨裝置12中一個可相對于基架15伸縮移動的擋板(未示出)上，而研磨部13則是固定在電機16的輸出軸端16A。因而在調(diào)整好微調(diào)結(jié)構(gòu)14并要裝設(shè)到研磨裝置12中時，只要將擋板拉開即可裝設(shè)微調(diào)結(jié)構(gòu)14，同時電機16又可以帶動研磨部13轉(zhuǎn)動。
研磨系統(tǒng)10還可包括一個研磨液供給裝置17，用以提供研磨液到待磨對象上的局部位置。此研磨液供給裝置17可以是具有一噴嘴17A的供給裝置，由噴嘴17A將研磨液局部地滴覆在待磨對象上的刮傷區(qū)域。當(dāng)然，此供給裝置也可以以實驗器材中常見的洗瓶來取代。由于洗瓶一般具有可壓縮性，故當(dāng)裝入研磨液時可輕易地擠壓將其內(nèi)的研磨液擠出使用。
至于研磨部13，其包括一例如是羊毛材質(zhì)的研磨墊18。由于羊毛材質(zhì)細致并具有吸水的性質(zhì)，不僅不會傷害到待磨對象的表面，且又可將帶有研磨粒的研磨液吸附起來以拋光待磨對象的表面。
緩沖止滑結(jié)構(gòu)11則例如是一有彈性的軟墊，其具有止滑與緩沖的作用，除了可防止待磨對象在研磨過程中任意地移位，當(dāng)研磨部13下壓的力量過大時，此軟墊也可以作為一緩沖結(jié)構(gòu)，以避免研磨墊18在待磨對象表面造成損傷。
如圖2B所示，微調(diào)結(jié)構(gòu)14可由一固定塊19與多個螺絲20組成。固定塊19用以將微調(diào)結(jié)構(gòu)14固定于基架15與研磨部13之間，螺絲20則是鎖附于固定塊19上，并各別具有一鎖入深度。借由調(diào)整這些螺絲20的鎖入深度可進而調(diào)整研磨部13與基架15的間距。本實施例是以三個螺絲20為例做說明，而固定塊19則優(yōu)選地為一個環(huán)形組件，可以套繞于基架15與電機16之間的連接軸(未示出)上。
至于以研磨系統(tǒng)10對待磨對象拋光的方法，請參照圖3，其示出為圖2A研磨系統(tǒng)的研磨方法的流程圖。如圖3所示，首先進入步驟31，提供研磨系統(tǒng)10(見圖2A)，其包括緩沖止滑結(jié)構(gòu)11與研磨裝置12，研磨裝置12包括研磨部13、微調(diào)結(jié)構(gòu)14與基架15等，研磨部13設(shè)置在基架15上，微調(diào)結(jié)構(gòu)14則位于基架15與研磨部13之間。
接著，進入步驟32，置放一待磨對象30在緩沖止滑結(jié)構(gòu)11上，并使研磨部13設(shè)置在待磨物件30之上。此待磨對象30例如是一液晶面板，其上具有一刮傷區(qū)域P，研磨部13對應(yīng)于此刮傷區(qū)域P以進行拋光的動作。
然后，進入步驟33，調(diào)整微調(diào)結(jié)構(gòu)14，并將其裝設(shè)到基架15與研磨部13之間以改變基架15與研磨部13的間距，借此調(diào)整研磨部13與待磨對象30的距離。請同時參照圖4，其示出為圖2A的研磨系統(tǒng)于研磨時的示意圖。如圖4所示，待磨對象30(液晶面板)已設(shè)置在緩沖止滑結(jié)構(gòu)11上，可再進行調(diào)整微調(diào)結(jié)構(gòu)14上螺絲20的鎖入深度以決定研磨部13與待磨對象30的距離。由于研磨墊18會接觸待磨對象30的表面，因而研磨部13與待磨對象30的距離會影響研磨墊18的下壓力量。依次轉(zhuǎn)動三個螺絲20以控制其鎖入深度，借此可調(diào)整微調(diào)結(jié)構(gòu)14的高度。之后，再將固定塊19裝設(shè)到基架15與電機16之間，微調(diào)結(jié)構(gòu)14的高度即為基架15與電機16(見圖2A)的間距大小。
如圖4所示，在進行研磨前，可利用研磨液供給裝置17的噴嘴17A滴覆適量的研磨液L于刮傷區(qū)域P，再進行待磨對象30表面的拋光。當(dāng)初步研磨完成后，利用無塵布將研磨液L擦拭掉就可以直接判斷是否已經(jīng)拋光完成。
本發(fā)明整體的功效如下(1)以一緩沖止滑結(jié)構(gòu)固定待磨組件，相較于傳統(tǒng)上拋光時必須先以其它組件固定住玻璃基板的設(shè)計而言，本發(fā)明所使用的緩沖止滑結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)簡單并且具有止滑與緩沖的功能。
(2)以微調(diào)結(jié)構(gòu)去調(diào)整研磨墊與待磨對象的間距，以控制研磨墊的下壓力量，相較于傳統(tǒng)上必須上下反復(fù)移動研磨墊以控制下壓力量的方式而言，本發(fā)明的微調(diào)結(jié)構(gòu)既簡易且可穩(wěn)定地控制研磨墊。
(3)僅僅將研磨液滴覆在刮傷區(qū)域，相較于傳統(tǒng)上將整個待磨對象(液晶面板)浸泡在研磨液中做研磨，本發(fā)明不僅可避免外引腳接合部位電極與研磨液接觸，也大大地節(jié)省了研磨液的用量。
(4)不需再對待磨對象(液晶面板)作整體清洗的動作，因而不會發(fā)生因清洗不干凈而造成外引腳接合部位電極的腐蝕，或者因為研磨粒堆積所造成點燈測試不亮的情形。
(5)利用無塵布將研磨液擦拭掉就可以判斷是否已經(jīng)拋光完成，相較于傳統(tǒng)上在清洗之后必須以氣槍吹干再作判斷，且可能必須重復(fù)數(shù)次才能完成，本發(fā)明具有省時省工的優(yōu)點。
本發(fā)明上述實施例所公開的研磨系統(tǒng)與研磨方法，是將待磨對象固定在緩沖止滑結(jié)構(gòu)上，并利用調(diào)整微調(diào)裝置以固定下壓量，進而控制研磨墊的下壓力道。由于僅在刮傷部位滴覆研磨液以進行局部的研磨，可減少待磨對象上其它區(qū)域接觸研磨液的機會，并可節(jié)省研磨液與檢查的時間，進而降低產(chǎn)品的制造成本。
綜上所述，雖然本發(fā)明已以一優(yōu)選實施例公開如上，然其并非用以限定本發(fā)明。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動與潤飾。因此，本發(fā)明的保護范圍當(dāng)視權(quán)利要求書所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種研磨系統(tǒng)，可應(yīng)用于研磨至少一待磨對象，該研磨系統(tǒng)包括一緩沖止滑結(jié)構(gòu)，用以固定該待磨對象；及一研磨裝置，包括一基架一研磨部，設(shè)置在該基架上，該研磨部可相對于該緩沖止滑結(jié)構(gòu)移動；及一微調(diào)結(jié)構(gòu)，設(shè)置在該基架與該研磨部之間，用以調(diào)整該研磨部與該基架的一間距，進而調(diào)整該研磨部與該待磨對象的距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨系統(tǒng)，其特征在于，還包括一研磨液供給裝置，可提供一研磨液于該待磨對象的局部位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨系統(tǒng)，其特征在于，該研磨裝置還包括一電機，位于該微調(diào)結(jié)構(gòu)與該研磨部之間，該研磨部固定于該電機的一輸出軸端，借此該電機可帶動該研磨部轉(zhuǎn)動。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨系統(tǒng)，其特征在于，該微調(diào)結(jié)構(gòu)包括一固定塊，用以固定于該研磨部與基架之間；及多個螺絲，鎖附于該固定塊上，并各別具有一鎖入深度，借由調(diào)整該些螺絲的該些鎖入深度，以調(diào)整該研磨部與該基架的該間距。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨系統(tǒng)，其特征在于，該研磨部包括一研磨墊。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨系統(tǒng)，其特征在于，該研磨墊的材質(zhì)為羊毛。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨系統(tǒng)，其特征在于，該緩沖止滑結(jié)構(gòu)為一軟墊。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨系統(tǒng)，其特征在于，該待磨對象為一液晶面板。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種研磨系統(tǒng)及研磨方法。研磨系統(tǒng)包括緩沖止滑結(jié)構(gòu)及研磨裝置。緩沖止滑結(jié)構(gòu)用以固定一待磨對象，研磨裝置則包括基架、研磨部及微調(diào)結(jié)構(gòu)。研磨部設(shè)置在基架上，并可相對于緩沖止滑結(jié)構(gòu)移動。微調(diào)結(jié)構(gòu)設(shè)置在基架與研磨部之間，用以調(diào)整研磨部與基架的間距，進而調(diào)整研磨部與待磨對象的距離。
文檔編號B24B47/00GK1927541SQ20061014122
公開日2007年3月14日 申請日期2006年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月28日
發(fā)明者楊宗儒, 曾令賢, 徐同煉, 張源益 申請人:友達光電股份有限公司