專(zhuān)利名稱(chēng)：一種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于真空蒸鍍裝置，特別是一種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
目前真空蒸鍍薄膜的裝置，一般以鍍鋁為主，間以其他的鍍覆金屬材料。但是由于在蒸鍍的過(guò)程中存在蒸鍍輥的附近由于金屬的蒸發(fā)而產(chǎn)生的熱量，使得被蒸鍍的薄膜材料受熱產(chǎn)生變形，由于牽引輥的動(dòng)力是基本恒定的縱向拉力(相對(duì)于被蒸鍍薄膜的運(yùn)動(dòng)方向)，而在各個(gè)引導(dǎo)輥?zhàn)拥妮S線(xiàn)方向，由于薄膜受熱引起的橫向(也就是沿引導(dǎo)輥?zhàn)虞S線(xiàn)方向)的膨脹得不到釋放，因此造成鍍膜上的黑條(暗條)、亮條、皺褶等缺陷，使得真空蒸鍍的成品率一直在70-80％。相對(duì)于材料的應(yīng)用和環(huán)保節(jié)能的角度來(lái)講，以及后續(xù)的印刷、包裝等應(yīng)用，是極大的浪費(fèi)和不合理。為了解決這個(gè)問(wèn)題本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)人進(jìn)行了認(rèn)真的研究，提出了本實(shí)用新型的發(fā)明目的。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的發(fā)明目的是為了解決上述存在的由于在蒸鍍的過(guò)程中存在蒸鍍輥的附近由于金屬的蒸發(fā)而產(chǎn)生的熱量，使得被蒸鍍的薄膜材料受熱產(chǎn)生變形，因此造成黑條(暗條)、亮條、皺褶等缺陷的問(wèn)題而提出的，即本實(shí)用新型的發(fā)明目的是提供一種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜裝置。
本實(shí)用新型的發(fā)明目的是通過(guò)以下的一種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜裝置提出的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的。該裝置具有真空蒸鍍室[1]，牽引輥[5]，制動(dòng)輥[4]，以及一組引導(dǎo)輥[6]和[7]，在靠近真空蒸鍍室[1]的下部是一個(gè)蒸鍍輥[10]，其特征在于在蒸鍍輥[10]的兩側(cè)具有一組彎輥[8]和/或者[9]。
本實(shí)用新型的有益的技術(shù)效果是，彎輥在被蒸鍍薄膜的蒸鍍受熱時(shí)，預(yù)先提供了一個(gè)橫向的預(yù)拉力，這樣，由于受熱產(chǎn)生的橫向膨脹被該預(yù)拉力抵消。因此基本克服了原有的由于金屬的蒸發(fā)熱量而產(chǎn)生的使被蒸鍍的薄膜材料受熱變形造成的黑條(暗條)、亮條、皺褶等缺陷，使得真空蒸鍍薄膜的成品率由原來(lái)的70-80％提高到95-99.5％，甚至以上。


附圖1是本實(shí)用新型的真空蒸鍍室結(jié)構(gòu)布置示意視圖，附圖2是附圖1的彎輥的A向結(jié)構(gòu)示意圖。在附圖中的序號(hào)描述為1、真空蒸鍍室，2、被鍍薄膜輥，3、已鍍薄膜輥，4、牽引輥，5、制動(dòng)輥，6、7、導(dǎo)引輥組，8、彎輥，9、彎輥，10、蒸鍍輥。附圖中的箭頭表示薄膜的運(yùn)行方向。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖中給出的實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)和使用進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。參照附圖，參照附圖中的實(shí)施例，該種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜裝置，該裝置具有真空蒸鍍室[1]，牽引輥[5]，制動(dòng)輥[4]，以及一組引導(dǎo)輥[6]和[7]，在靠近真空蒸鍍室[1]的下部是一個(gè)蒸鍍輥[10]，在蒸鍍輥[10]的兩側(cè)具有一組彎輥[8]和[9]。對(duì)于一般性使用的卷繞式真空鍍膜裝置彎輥只設(shè)計(jì)一根彎輥[8]或者一根彎輥[9]即可以。當(dāng)采用一根彎輥[8]或者[9]，其軸線(xiàn)的空間位置最好在蒸鍍輥[10]和制動(dòng)輥[4]所在的彎輥[8]的一側(cè)空間內(nèi)，即附圖1中的左邊，且與該兩輥的軸線(xiàn)基本平行排列。當(dāng)然也可以設(shè)置在附圖1的右邊的彎輥[9]的一側(cè)。即可以有一對(duì)彎輥[8]和[9]，一個(gè)彎輥[8]或者一個(gè)彎輥[9]的不同結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)方案，其技術(shù)效果基本相同。對(duì)于該改進(jìn)結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜裝置的彎輥，通常按照曲率為1‰至5％設(shè)計(jì)，即可以滿(mǎn)足目前廣泛使用的包括鍍鋁原紙?jiān)趦?nèi)的各種薄膜的真空蒸鍍的需要。對(duì)于膨脹系數(shù)大的真空蒸鍍薄膜材料，選擇曲率偏向于大，即接近于5％，對(duì)于膨脹系數(shù)小的真空蒸鍍薄膜材料，選擇曲率偏向于小，即接近于1‰。
權(quán)利要求1.一種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜裝置，該裝置具有真空蒸鍍室[1]，牽引輥[5]，制動(dòng)輥[4]，以及一組引導(dǎo)輥[6]和[7]，在靠近真空蒸鍍室[1]的下部是一個(gè)蒸鍍輥[10]，其特征在于在蒸鍍輥[10]的兩側(cè)具有一組彎輥[8]和/或者[9]。
2.按照權(quán)利要求1所述的一種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜裝置，其特征在于所說(shuō)的彎輥只有一根彎輥[8]。
3.按照權(quán)利要求1所述的一種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜裝置，其特征在于所說(shuō)的彎輥[8]的空間位置在蒸鍍輥[10]和制動(dòng)輥[4]一側(cè)所在的空間內(nèi)與該兩棍基本平行排列。
4.按照權(quán)利要求1所述的一種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜裝置，其特征在于所說(shuō)的彎輥[8]的曲率為1‰至5％。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜裝置，該裝置具有真空蒸鍍室[1]，牽引輥[5]，制動(dòng)輥[4]，以及一組引導(dǎo)輥[6]和[7]，在靠近真空蒸鍍室[1]的下部是一個(gè)蒸鍍輥[10]，其特征在于在蒸鍍輥[10]的兩側(cè)具有一組彎輥[8]和/或者[9]。其優(yōu)點(diǎn)是，由于彎輥的存在，使得在蒸鍍輥[10]的位置被突然加熱的被鍍物質(zhì)的受熱膨脹后產(chǎn)生的橫向力被本裝置的彎輥產(chǎn)生的橫向奮力抵消，從而保證了真空蒸鍍薄膜材料在真空蒸鍍室內(nèi)的縱向和橫向受力的基本均勻一致，從而保證了真空蒸鍍薄膜的均勻和一致性。
文檔編號(hào)C23C14/54GK2928872SQ20062008333
公開(kāi)日2007年8月1日 申請(qǐng)日期2006年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2006年4月20日
發(fā)明者李正平 申請(qǐng)人:李正平