專利名稱：一種對(duì)垂直晶舟上大量晶圓偵測(cè)的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種檢測(cè)方法，尤其涉及集成電路制造中對(duì)垂直晶舟上大 量晶圓偵測(cè)的方法。
背景技術(shù)：
在化學(xué)氣相沉積中，為進(jìn)行150片或更多晶圓的批次量產(chǎn)，爐管內(nèi)晶 圓垂直密集地豎放于晶舟上，擺放在晶舟上的每片晶圓間隔一格。通常， 爐管的運(yùn)行為批量生產(chǎn)方式， 一批150片晶圓被放置于垂直的晶舟上，然 后晶舟上升至反應(yīng)室進(jìn)行工藝反應(yīng)。
現(xiàn)有技術(shù)中，在晶舟進(jìn)入爐管前，并沒有機(jī)制方式或方法對(duì)晶圓在晶 舟上的位置正確與否進(jìn)行確認(rèn)，而是直接進(jìn)入反應(yīng)室內(nèi)，如圖4所示。在 這種情況下，晶圓在晶舟可能發(fā)生以下兩種可能而不被偵測(cè)到(1)凸片 不整齊現(xiàn)象，如圖5a，會(huì)影響制程均勻度，情況嚴(yán)重時(shí)會(huì)在晶舟進(jìn)入反應(yīng) 室的過程中形成撞擊破片，圖6a所示，會(huì)造成大量報(bào)廢，(2)斜插現(xiàn)象， 如圖5b，即位于別的晶圓所在位子，制程結(jié)束后，當(dāng)傳送器重新將晶圓從 晶舟上傳至暗盒內(nèi)時(shí)，傳送器會(huì)與斜插的晶圓撞擊導(dǎo)致破片或刮傷報(bào)廢， 圖6b所示。從而，給工藝帶來一定的威脅，影響生產(chǎn)的順利進(jìn)行。
因此，在晶舟進(jìn)入爐管前能對(duì)晶圓在晶舟上的位置正確與否進(jìn)行檢測(cè) 確認(rèn)，能正確偵測(cè)凸片和斜插等不良情況，將是集成電路制造中一項(xiàng)意義 重大的研究課題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種對(duì)垂直晶舟上大量晶圓偵測(cè)的方法，旨在有
效消除凸片和斜插現(xiàn)象的發(fā)生，避免工藝制程的不均勻和撞擊破片及刮傷 等不良后果。
本發(fā)明的目的通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)-
一種對(duì)垂直晶舟上大量晶圓偵測(cè)的方法，其特征在于在機(jī)臺(tái)內(nèi)壁晶 舟附近設(shè)置光感傳感器，在傳送器上設(shè)置掃描傳感器；在晶舟進(jìn)入反應(yīng)室 之前，光感傳感器自上而下進(jìn)行掃描，晶圓有突出時(shí)即遮住光感傳感器發(fā) 出的紅外線，光感傳感器發(fā)出警報(bào)，機(jī)械動(dòng)作停止；另外，在晶舟進(jìn)入反 應(yīng)室之前以及從反應(yīng)室出來后，傳送器上的掃描傳感器自上而下掃描晶舟 上的晶圓，有斜插時(shí)掃描傳感器發(fā)出警告信號(hào)，傳送即停止。
進(jìn)一步地，上述的一種對(duì)垂直晶舟上大量晶圓偵測(cè)的方法，所述光感 傳感器有一發(fā)射端和一接收端。
本發(fā)明技術(shù)方案的突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步主要體現(xiàn)在 本發(fā)明通過在機(jī)臺(tái)內(nèi)壁晶舟附近設(shè)置光感傳感器和在傳送器上設(shè)置 掃描傳感器，在晶舟進(jìn)入反應(yīng)室之前，光感傳感器自上而下進(jìn)行掃描，晶 圓有突出時(shí)即遮住光感傳感器發(fā)出的紅外線，光感傳感器發(fā)出警報(bào)，機(jī)械 動(dòng)作停止；在晶舟進(jìn)入反應(yīng)室之前以及從反應(yīng)室出來后，傳送器上掃描傳 感器自上而下掃描晶舟上的晶圓，有斜插時(shí)掃描傳感器發(fā)出警告信號(hào)，傳 送即停止；能夠有效避免工藝制程的不均勻和撞擊破片及刮傷等不良后果 的發(fā)生，產(chǎn)生了巨大的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效應(yīng)。


下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案作進(jìn)一步說明 圖l:反應(yīng)室的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2:傳送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3a:晶舟的側(cè)面圖； 圖3b:晶舟的俯視圖4:晶舟上升進(jìn)入反應(yīng)室的示意圖5a:現(xiàn)有技術(shù)晶圓在晶舟上發(fā)生凸片現(xiàn)象的示意圖5b:現(xiàn)有技術(shù)晶圓在晶舟上發(fā)生斜插現(xiàn)象的示意圖6a:圖5a凸片現(xiàn)象導(dǎo)致撞擊破片的示意圖6b:圖5b斜插現(xiàn)象導(dǎo)致破片刮傷的示意圖7:本發(fā)明在機(jī)臺(tái)內(nèi)壁晶舟附近設(shè)置光感傳感器的示意圖8:本發(fā)明在傳送器上設(shè)置掃描傳感器的示意圖。
圖中各附圖標(biāo)記的含義1—反應(yīng)室，2—晶舟，3—傳送器，4—晶圓，
5—機(jī)臺(tái)，6—光感傳感器，7—掃描傳感器。
具體實(shí)施例方式
如圖1 3b所示的氣相沉積工藝設(shè)備的反應(yīng)室1、傳送器3及晶舟2， 爐管內(nèi)晶圓4垂直密集地豎放于晶舟2上。
對(duì)垂直晶舟上大量晶圓偵測(cè)的方法，不僅在機(jī)臺(tái)5的內(nèi)壁晶舟2的附 近設(shè)置光感傳感器6，還在傳送器上3上設(shè)置掃描傳感器7;在晶舟2進(jìn) 入反應(yīng)室l之前，光感傳感器6自上而下進(jìn)行掃描，類似電梯門的光感傳 感器， 一端發(fā)射， 一端接受，圖7所示，晶圓4有突出時(shí)即遮住光感傳感 器6發(fā)出的紅外線，光感傳感器6發(fā)出警報(bào)，機(jī)械動(dòng)作停止；另外，在晶 舟2進(jìn)入反應(yīng)室1之前以及從反應(yīng)室1出來后，傳送器上的掃描傳感器7 自上而下掃描晶舟2上的晶圓4，圖8所示，有斜插時(shí)掃描傳感器7發(fā)出 警告信號(hào)，傳送即停止。
每批150片晶圓4被放置于垂直的晶舟2上，然后晶舟2上升至反應(yīng) 室1進(jìn)行反應(yīng)；在晶舟2進(jìn)入爐管前，機(jī)臺(tái)內(nèi)壁晶舟附近的光感傳感器6 和傳送器上的掃描傳感器7，對(duì)晶圓4在晶舟2上的位置正確與否進(jìn)行檢 測(cè)確認(rèn)，從而，晶圓4在晶舟2上可能發(fā)生的凸片和斜插等不良情況而被 偵測(cè)到，有效消除因凸片或斜插現(xiàn)象而導(dǎo)致撞擊破片和刮傷等不良后果的
發(fā)生，確保工藝生產(chǎn)的正常進(jìn)行，經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益顯著。
以上僅是本發(fā)明的具體應(yīng)用范例，對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍不構(gòu)成任何限 制。凡采用等同變換或者等效替換而形成的技術(shù)方案，均落在本發(fā)明權(quán)利 保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種對(duì)垂直晶舟上大量晶圓偵測(cè)的方法，其特征在于在機(jī)臺(tái)內(nèi)壁晶舟附近設(shè)置光感傳感器，在傳送器上設(shè)置掃描傳感器；在晶舟進(jìn)入反應(yīng)室之前，光感傳感器自上而下進(jìn)行掃描，晶圓有突出時(shí)即遮住光感傳感器發(fā)出的紅外線，光感傳感器發(fā)出警報(bào)，機(jī)械動(dòng)作停止；另外，在晶舟進(jìn)入反應(yīng)室之前以及從反應(yīng)室出來后，傳送器上的掃描傳感器自上而下掃描晶舟上的晶圓，有斜插時(shí)掃描傳感器發(fā)出警告信號(hào)，傳送即停止。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種對(duì)垂直晶舟上大量晶圓偵測(cè)的方法，其 特征在于所述光感傳感器有一發(fā)射端和一接收端。
全文摘要
本發(fā)明提供一種對(duì)垂直晶舟上大量晶圓偵測(cè)的方法，在機(jī)臺(tái)內(nèi)壁晶舟附近設(shè)置光感傳感器，在傳送器上設(shè)置掃描傳感器；在晶舟進(jìn)入反應(yīng)室之前，光感傳感器自上而下進(jìn)行掃描，晶圓有突出時(shí)即遮住光感傳感器發(fā)出的紅外線，光感傳感器發(fā)出警報(bào)，機(jī)械動(dòng)作停止；另外，在晶舟進(jìn)入反應(yīng)室之前以及從反應(yīng)室出來后，傳送器上掃描傳感器自上而下掃描晶舟上的晶圓，有斜插時(shí)掃描傳感器發(fā)出警告信號(hào)，傳送即停止。本發(fā)明技術(shù)方案通過在機(jī)臺(tái)內(nèi)壁晶舟附近設(shè)置光感傳感器和在傳送器上設(shè)置掃描傳感器，能夠有效消除凸片和斜插現(xiàn)象的發(fā)生，避免工藝制程的不均勻和撞擊破片及刮傷等不良后果。
文檔編號(hào)C23C16/52GK101359610SQ20071002550
公開日2009年2月4日 申請(qǐng)日期2007年8月1日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月1日
發(fā)明者王愛進(jìn) 申請(qǐng)人:和艦科技(蘇州)有限公司