專利名稱：蒸鍍設(shè)備及其蒸鍍源更換方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種蒸鍍設(shè)備，特別涉及一種方便更新蒸鍍材料的蒸鍍設(shè)備及其蒸鍍源更換方法。
背景技術(shù)：
參照圖1，其示出了現(xiàn)有的蒸鍍設(shè)備1，該現(xiàn)有的蒸鍍設(shè)備1包括一反應(yīng)腔體10、一空穴注入單元(空穴注入蒸鍍源)20、一空穴傳輸單元(空穴傳輸蒸鍍源)30、一發(fā)光層涂布單元(發(fā)光層涂布蒸鍍源)40、以及一電子傳輸單元(電子傳輸蒸鍍源)50。該空穴注入單元20、空穴傳輸單元30、發(fā)光層涂布單元40、以及電子傳輸單元50設(shè)于該反應(yīng)腔體10之中。基板2在該反應(yīng)腔體10中以滾輪傳輸?shù)确绞?未圖示)移動，并依序經(jīng)過該空穴注入單元20、空穴傳輸單元30、發(fā)光層涂布單元40、以及電子傳輸單元50的上方。該空穴注入單元20、空穴傳輸單元30、發(fā)光層涂布單元40、以及電子傳輸單元50分別對該基板2進(jìn)行制程處理。
在現(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)欲更新空穴注入單元20、空穴傳輸單元30、發(fā)光層涂布單元40、以及電子傳輸單元50中的蒸鍍材料時，需要使蒸鍍設(shè)備1停止運行，并解除反應(yīng)腔體10中的真空狀態(tài)，才能進(jìn)行蒸鍍材料的更換。由于將反應(yīng)腔體10中的真空狀態(tài)解除以及將其恢復(fù)需要花費相當(dāng)長的時間，因此現(xiàn)有的蒸鍍材料更換方式較費時，并因此導(dǎo)致生產(chǎn)成本的提高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題，提供一種蒸鍍設(shè)備及其蒸鍍源更換方法。
根據(jù)本發(fā)明一個方案的蒸鍍設(shè)備包括一反應(yīng)腔體、一子腔體、以及一第一蒸鍍源。該子腔體連通該反應(yīng)腔體，該子腔體包括一真空閥門以及一減壓閥門，該真空閥門設(shè)于該子腔體與該反應(yīng)腔體之間，該減壓閥門設(shè)于該子腔體與大氣環(huán)境之間。第一蒸鍍源設(shè)于該子腔體之中。
根據(jù)本發(fā)明，還提供了一種蒸鍍源更換方法，包括如下步驟提供如上所述的蒸鍍設(shè)備；封閉該真空閥門；開啟該減壓閥門，并從該子腔體中更換該第一蒸鍍源；關(guān)閉該減壓閥門，并將該子腔體中的氣體壓力降低至真空狀態(tài)；以及開啟該真空閥門。
根據(jù)本發(fā)明另一個方案的蒸鍍設(shè)備還包括一樞軸、一隔板、以及一第二蒸鍍源，其中該樞軸設(shè)于該隔板上并設(shè)置于該子腔體內(nèi)，使該隔板可通過該樞軸樞轉(zhuǎn)，而該第一蒸鍍源以及該第二蒸鍍源則分別設(shè)于該隔板相對的兩側(cè)上。
同時該方案還提供了一種蒸鍍源更換方法，包括如下步驟提供如另一個方案中所述的蒸鍍設(shè)備；封閉該真空閥門；開啟該減壓閥門；通過樞轉(zhuǎn)將該第二蒸鍍源取代該第一蒸鍍源；關(guān)閉該減壓閥門，并將該子腔體中的氣體壓力降低至真空狀態(tài)；以及開啟該真空閥門。
根據(jù)本發(fā)明再一個方案的蒸鍍設(shè)備包括一反應(yīng)腔體；一子腔體，其連通該反應(yīng)腔體，該子腔體包括一真空閥門以及一減壓閥門，該真空閥門設(shè)于該子腔體與該反應(yīng)腔體之間，該減壓閥門設(shè)于該子腔體與大氣環(huán)境之間；以及一第一蒸鍍源，其中，該第一蒸鍍源經(jīng)過該子腔體，進(jìn)入該反應(yīng)腔體之中。
同時該方案還提供了一種蒸鍍源更換方法，包括如下步驟提供如該再一個方案中所述的蒸鍍設(shè)備；開啟該真空閥門，并將該第一蒸鍍源移入該子腔體中；封閉該真空閥門；開啟該減壓閥門，并從該子腔體中更換該第一蒸鍍源；關(guān)閉該減壓閥門；將該子腔體中的氣體壓力降低至真空狀態(tài)；開啟該真空閥門；以及移動該第一蒸鍍源進(jìn)入該反應(yīng)腔體。
根據(jù)本發(fā)明又一方案的蒸鍍設(shè)備，包括一反應(yīng)腔體；一子腔體，其連通該反應(yīng)腔體，該子腔體包括一真空閥門以及一減壓閥門，該真空閥門設(shè)于該子腔體與該反應(yīng)腔體之間，該減壓閥門設(shè)于該子腔體與大氣環(huán)境之間；一第一蒸鍍源，其設(shè)于該反應(yīng)腔體之中；以及一第二蒸鍍源，其設(shè)于該子腔體之中，其中，當(dāng)更換該第一蒸鍍源時，該第一蒸鍍源從該反應(yīng)腔體經(jīng)過該真空閥門進(jìn)入該子腔體之中，該第二蒸鍍源從該子腔體經(jīng)過該真空閥門進(jìn)入該反應(yīng)腔體之中。
應(yīng)用本發(fā)明的蒸鍍設(shè)備時，由于使用子腔體來分隔該反應(yīng)腔體以及外界的大氣環(huán)境。因此，當(dāng)欲更換蒸鍍源時，僅需要針對子腔體內(nèi)的氣體壓力進(jìn)行調(diào)整。另外，由于子腔體的體積較小，抽真空所耗費的時間將大幅縮短，因此可節(jié)省更換蒸鍍源所花費的時間，降低生產(chǎn)成本。


圖1示出了現(xiàn)有的蒸鍍設(shè)備；圖2a示出了本發(fā)明第一實施例的蒸鍍設(shè)備；圖2b示出了第一實施例中子腔體內(nèi)氣體壓力調(diào)整的情況；圖2c示出了更換第一蒸鍍源的情況；圖3示出了本發(fā)明第一實施例的蒸鍍源更換流程；圖4a示出了本發(fā)明第二實施例的蒸鍍設(shè)備；圖4b示出了本發(fā)明第二實施例中第二蒸鍍源替換第一蒸鍍源的情況；圖5a示出了本發(fā)明第三實施例的蒸鍍設(shè)備；圖5b示出了第三實施例中移動該第一蒸鍍源的情況；圖5c示出了第三實施例中子腔體內(nèi)氣體壓力調(diào)整的情況；圖6示出了本發(fā)明第三實施例的蒸鍍源更換流程；圖7示出了本發(fā)明第四實施例的蒸鍍設(shè)備；圖8示出了本發(fā)明第五實施例的蒸鍍設(shè)備；圖9a以及圖9b示出了蒸鍍源的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。
其中，附圖標(biāo)記說明如下1～蒸鍍設(shè)備2～基板；10～反應(yīng)腔體； 20～空穴注入單元；30～空穴傳輸單元 40～發(fā)光層涂布單元；50～電子傳輸單元； 60～金屬棒；100、200、300、400、500～蒸鍍設(shè)備；110～第一蒸鍍源； 111～側(cè)板；112～螺栓 113～坩堝；114～蒸鍍材料；120～子腔體；121～真空閥門 122～減壓閥門；210～第二蒸鍍源221～樞軸；
222～隔板； 223～密封組件；310～第一蒸鍍源； 320～子腔體；321～真空閥門； 322～減壓閥門；420～子腔體； 421～真空閥門；422～減壓閥門； 510～第二蒸鍍源；S11、S12、...S15～第一實施例的蒸鍍源更換步驟；S21、S22、...S26～第三實施例的蒸鍍源更換步驟。
具體實施例方式
參照圖2a，其示出了本發(fā)明第一實施例的蒸鍍設(shè)備100，其包括一反應(yīng)腔體10、一第一蒸鍍源(空穴注入蒸鍍源)110、一空穴傳輸單元30、一發(fā)光層涂布單元40、一電子傳輸單元50、以及一子腔體120。該第一蒸鍍源110、空穴傳輸單元30、發(fā)光層涂布單元40、電子傳輸單元50、以及子腔體120均設(shè)于該反應(yīng)腔體10之中。該第一蒸鍍源110設(shè)于該子腔體120之中。該子腔體120包括一真空閥門121以及一減壓閥門122。上述空穴傳輸單元30包括一空穴傳輸蒸鍍源，發(fā)光層涂布單元40包括一發(fā)光層涂布蒸鍍源，電子傳輸單元50包括一電子傳輸蒸鍍源。(在本發(fā)明的實施例中，以空穴注入蒸鍍源的更換為例，然而，上述每一種蒸鍍源均可進(jìn)行更換，其可利用旋轉(zhuǎn)方式進(jìn)入子腔體內(nèi)，或是其它等效的方法，例如當(dāng)子腔體在外部時，可以利用滑移子腔體的方式來進(jìn)行更換)。
參照圖2a，當(dāng)進(jìn)行蒸鍍時，真空閥門121開啟，第一蒸鍍源110對該基板2進(jìn)行蒸鍍。參照圖3，當(dāng)欲更換該第一蒸鍍源110時，該真空閥門121關(guān)閉，以此隔絕該反應(yīng)腔體10與該子腔體120(步驟S11，搭配參照圖2b)。然后，該子腔體120內(nèi)的氣體壓力被調(diào)整至常壓狀態(tài)(步驟S12)。接著，該減壓閥門122開啟，以更換該第一蒸鍍源110(步驟S13，搭配參照圖2c)。然后，關(guān)閉減壓閥門122，將該子腔體120內(nèi)的氣體壓力降低至真空狀態(tài)(步驟S14，搭配參照圖2b)。最后，真空閥門121開啟(步驟S15，搭配參照圖2a)，這樣該第一蒸鍍源110即可重新進(jìn)行蒸鍍制程。
該第一蒸鍍源110以可拆卸的方式設(shè)于該子腔體120之中。在一實施例中，該第一蒸鍍源110以可滑動的方式設(shè)于該子腔體120之中，當(dāng)欲更換時，該第一蒸鍍源110滑出該子腔體120以進(jìn)行更換。
應(yīng)用本發(fā)明的蒸鍍設(shè)備，由于使用子腔體來分隔該反應(yīng)腔體以及外界的大氣環(huán)境。因此，當(dāng)欲更換蒸鍍源時，僅需要針對子腔體內(nèi)的氣體壓力進(jìn)行調(diào)整。由于子腔體體積較小，抽真空所耗費的時間將大幅縮短，因此可節(jié)省更換蒸鍍源所花費的時間，降低生產(chǎn)成本。
參照圖4a，其示出了本發(fā)明第二實施例的蒸鍍設(shè)備200，其特點在于，還包括一第二蒸鍍源210、一樞軸221、一隔板222、以及密封組件223。該第一蒸鍍源110與該第二蒸鍍源210設(shè)于該隔板222之上，該隔板222通過該樞軸221樞轉(zhuǎn)。密封組件223設(shè)于該隔板222與該子腔體120的內(nèi)壁之間。
該第一蒸鍍源110相反于該第二蒸鍍源210。當(dāng)該第一蒸鍍源110需要被更換時，參照圖4b，可通過旋轉(zhuǎn)該樞軸221而以該第二蒸鍍源210取代該第一蒸鍍源110。以此，該蒸鍍設(shè)備200可以繼續(xù)以該第二蒸鍍源210進(jìn)行制程，同時，該第一蒸鍍源110可被拆卸以及更換。在第二實施例的蒸鍍設(shè)備200的子腔體120中，氣體壓力可以分區(qū)局部地進(jìn)行控制。
應(yīng)用本發(fā)明第二實施例的蒸鍍設(shè)備200，可更進(jìn)一步節(jié)省更換蒸鍍源所花費的時間，降低生產(chǎn)成本。
參照圖5a～圖5c，其示出了本發(fā)明第三實施例的蒸鍍設(shè)備300，其特點在于，第一蒸鍍源310經(jīng)過該子腔體320而從該反應(yīng)腔體10之中置換。該子腔體320包括一真空閥門321以及一減壓閥門322。
搭配參照圖6，當(dāng)欲更換該第一蒸鍍源310時，該第一蒸鍍源310通過滑軌被移動至一待輸送位置，接著，該真空閥門321開啟，一具有螺紋的長金屬棒60將該第一蒸鍍源310推動進(jìn)入該子腔體320(步驟S21，搭配參照圖5b)。接著，該真空閥門321關(guān)閉，以此隔絕該反應(yīng)腔體10與該子腔體320(步驟S22，搭配參照圖5c)。然后，該子腔體320內(nèi)的氣體壓力被調(diào)整至常壓狀態(tài)(步驟S23)。接著，該減壓閥門322開啟，以更換該第一蒸鍍源310(步驟S24)。然后，關(guān)閉減壓閥門322，將該子腔體320內(nèi)的氣體壓力降低至真空狀態(tài)(步驟S25，搭配參照圖5c)。最后，真空閥門321開啟(步驟S26)，該第一蒸鍍源310經(jīng)過真空閥門321重新進(jìn)入反應(yīng)腔體10中以進(jìn)行蒸鍍制程。
參照圖7，其示出了本發(fā)明第四實施例的蒸鍍設(shè)備400，其特點在于，子腔體420位于該反應(yīng)腔體10之外，該子腔體420包括一真空閥門421以及一減壓閥門422。同第三實施例，該第一蒸鍍源310經(jīng)過該子腔體420而進(jìn)入該反應(yīng)腔體10之中。
參照圖8，其示出了本發(fā)明第五實施例的蒸鍍設(shè)備500，其特點在于，子腔體320設(shè)有第二蒸鍍源510，當(dāng)欲更換該第一蒸鍍源310時，該第二蒸鍍源510直接與該第一蒸鍍源310相互替換，如此，可更進(jìn)一步節(jié)省更換蒸鍍源所花費的時間，從而降低生產(chǎn)成本。
參照圖9a以及圖9b，在此以第一蒸鍍源110為例，說明各蒸鍍源的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。第一蒸鍍源110包括一殼體111、一側(cè)板112、多個螺栓113、一坩堝114、以及蒸鍍材料115。蒸鍍材料115置于坩堝114之中。坩堝114設(shè)于殼體111之中。螺栓113將側(cè)板112固定于該殼體111之上。當(dāng)欲更換蒸鍍材料115時，所述螺栓113被拆卸，該側(cè)板112開啟，該坩堝114從該殼體111中被取出以更換該蒸鍍材料115。
雖然本發(fā)明以具體的較佳實施例進(jìn)行了如上所述的披露，但是，其并非用來限定本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下，可對本發(fā)明進(jìn)行各種變化與修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以所附的權(quán)利要求書所界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種蒸鍍設(shè)備，包括一反應(yīng)腔體；一子腔體，其連通該反應(yīng)腔體，該子腔體包括一真空閥門以及一減壓閥門，該真空閥門設(shè)于該子腔體與該反應(yīng)腔體之間，該減壓閥門設(shè)于該子腔體與大氣環(huán)境之間；以及一第一蒸鍍源，其設(shè)于該子腔體之中。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其中，還包括一樞軸、一隔板、以及一第二蒸鍍源，其中該樞軸設(shè)于該隔板上并設(shè)置于該子腔體內(nèi)，以使該隔板可通過該樞軸樞轉(zhuǎn)，該第一蒸鍍源以及該第二蒸鍍源則分別設(shè)于該隔板相對的兩側(cè)上。
3.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該第一蒸鍍源及該第二蒸鍍源包括一空穴注入蒸鍍源。
4.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該第一蒸鍍源及該第二蒸鍍源包括一空穴傳輸蒸鍍源。
5.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該第一蒸鍍源及該第二蒸鍍源包括一發(fā)光層涂布蒸鍍源。
6.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該第一蒸鍍源及該第二蒸鍍源包括一電子傳輸蒸鍍源。
7.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該第一蒸鍍源包括一殼體、一側(cè)板、多個螺栓、以及一坩堝，蒸鍍材料置于該坩堝之中，該坩堝設(shè)于該殼體之中，所述螺栓將該側(cè)板固定于該殼體之上。
8.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該反應(yīng)腔體包括一滑軌以及一具有螺紋的長金屬棒，該第一蒸鍍源通過該滑軌被移動至一待輸送位置，并由該具有螺紋的長金屬棒推動進(jìn)入該子腔體。
9.一種蒸鍍源更換方法，包括提供如權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備；封閉該真空閥門；開啟該減壓閥門，并從該子腔體中更換該第一蒸鍍源；關(guān)閉該減壓閥門，并將該子腔體中的氣體壓力降低至真空狀態(tài)；以及開啟該真空閥門。
10.一種蒸鍍源更換方法，包括提供如權(quán)利要求2所述的蒸鍍設(shè)備；封閉該真空閥門；開啟該減壓閥門；通過樞轉(zhuǎn)將該第二蒸鍍源取代該第一蒸鍍源；關(guān)閉該減壓閥門，并將該子腔體中的氣體壓力降低至真空狀態(tài)；以及開啟該真空閥門。
11.一種蒸鍍設(shè)備，包括一反應(yīng)腔體；一子腔體，其連通該反應(yīng)腔體，該子腔體包括一真空閥門以及一減壓閥門，該真空閥門設(shè)于該子腔體與該反應(yīng)腔體之間，該減壓閥門設(shè)于該子腔體與大氣環(huán)境之間；以及一第一蒸鍍源，其中，該第一蒸鍍源經(jīng)過該子腔體，進(jìn)入該反應(yīng)腔體之中。
12.如權(quán)利要求11所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該子腔體設(shè)于該反應(yīng)腔體之內(nèi)。
13.如權(quán)利要求11所述的蒸鍍設(shè)備，其中，該子腔體設(shè)于該反應(yīng)腔體之外。
14.一種蒸鍍源更換方法，包括提供如權(quán)利要求11所述的蒸鍍設(shè)備；開啟該真空閥門，并將該第一蒸鍍源移入該子腔體中；封閉該真空閥門；開啟該減壓閥門，并從該子腔體中更換該第一蒸鍍源；關(guān)閉該減壓閥門；將該子腔體中的氣體壓力降低至真空狀態(tài)；開啟該真空閥門；以及移動該第一蒸鍍源進(jìn)入該反應(yīng)腔體。
15.一種蒸鍍設(shè)備，包括一反應(yīng)腔體；一子腔體，其連通該反應(yīng)腔體，該子腔體包括一真空閥門以及一減壓閥門，該真空閥門設(shè)于該子腔體與該反應(yīng)腔體之間，該減壓閥門設(shè)于該子腔體與大氣環(huán)境之間；一第一蒸鍍源，其設(shè)于該反應(yīng)腔體之中；以及一第二蒸鍍源，其設(shè)于該子腔體之中，其中，當(dāng)更換該第一蒸鍍源時，該第一蒸鍍源從該反應(yīng)腔體經(jīng)過該真空閥門進(jìn)入該子腔體之中，該第二蒸鍍源從該子腔體經(jīng)過該真空閥門進(jìn)入該反應(yīng)腔體之中。
全文摘要
一種蒸鍍設(shè)備及其蒸鍍源更換方法，其中該蒸鍍設(shè)備包括一反應(yīng)腔體、一子腔體、以及一第一蒸鍍源。該子腔體連通該反應(yīng)腔體，該子腔體包括一真空閥門以及一減壓閥門，該真空閥門設(shè)于該子腔體與該反應(yīng)腔體之間，該減壓閥門設(shè)于該子腔體與大氣環(huán)境之間。第一蒸鍍源設(shè)于該子腔體之中。根據(jù)本發(fā)明的蒸鍍設(shè)備及其蒸鍍源更換方法可節(jié)省更換蒸鍍源所花費的時間，降低生產(chǎn)成本。
文檔編號C23C14/54GK101016620SQ20071008448
公開日2007年8月15日 申請日期2007年3月2日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月2日
發(fā)明者李興銓 申請人:友達(dá)光電股份有限公司