專利名稱：太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及至一種適用于光一熱轉(zhuǎn)換領(lǐng)域的濺射鍍膜方法和裝置，尤其是 一種適用于鍍制高質(zhì)量真空太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法及實現(xiàn)該方法 的裝置。
背景技術(shù)：
太陽能集熱元件由基材和沉積于基材上的太陽能選擇性吸收涂層膜系構(gòu) 成。太陽能選擇性吸收涂層膜系是一組具有多層結(jié)構(gòu)的薄膜體系(以下簡稱膜
系)，如圖io所示，其包含附著于基材5'表面上的紅外高反射底層r 、任選
的隔離層2'、光選擇性吸收層3'(以下簡稱吸收層)和減反射薄膜層4'(以 下簡稱減反層)。
目前，對太陽能集熱管的鍍膜通常是在立式前開門單室單靶或單室多靶鍍 膜設(shè)備中進行。但由于是前開門單室鍍膜機，每一次鍍膜后真空室都要暴露在 大氣中進行卸管、裝管，重新抽真空后進行濺射鍍膜，真空室內(nèi)壁、靶、工件 架等室內(nèi)所有零部件表面在每一次暴露大氣的過程中，都將吸附大量的空氣、 水蒸氣而被污染。被污染后的真空室在鍍膜過程將出現(xiàn)下述現(xiàn)象
1、 抽真空時間越來越長，沒有被污染的新設(shè)備抽氣5-6分鐘即可達到可鍍 膜的真空度，而隨著鍍膜時間加長，真空室壁膜層加厚，抽真空時間將達到30-40 分鐘，致使生產(chǎn)效率大大降低。
2、 真空室壁膜層加厚，不但吸附量增加，由于氮化鋁膜層是高電阻率材料， 容易出現(xiàn)無陽極現(xiàn)象，致使靶電源啟靶困難，有時出現(xiàn)3-4分鐘才可以正常啟 靶，致使工藝時間延長，效能降低。
3、 直流反應(yīng)濺射氮化鋁介質(zhì)膜層時容易出現(xiàn)靶中毒現(xiàn)象，濺射速率急劇減少，而使生產(chǎn)效率下降。
4、由于真空室內(nèi)各放氣點、面，與濺射靶之間的位置和距離不一樣，在放 電(濺射)過程中，雜散氣體及水汽分子也被離化，造成沿靶長度方向離子濃 度差異，使集熱管鍍膜質(zhì)量發(fā)生問題，出現(xiàn)鍍膜顏色不一致，不均勻現(xiàn)象時有 發(fā)生。
為此，本發(fā)明人在中國專利ZL200420077693.6中公開了另一種太陽能集熱 管的鍍膜裝置。其中包括工件架軌道和連續(xù)鍍膜室，在作為濺射室的鍍膜室中 裝有濺射靶。由于，在該鍍膜裝置中，工件架是在鍍膜室內(nèi)作直線運動，為能 夠達到工件表面的鍍膜要求，鍍膜室的長度必需加長；為使工件架上的工件鍍 膜質(zhì)量一致，在一個鍍膜室內(nèi)僅能對一個工件架單體進行鍍膜作業(yè)，因此該裝 置存在生產(chǎn)效率低，設(shè)置龐大，不能滿足實際生產(chǎn)的需求。此外，由于濺射靶 是設(shè)置在濺射室的側(cè)壁上，為平面靶或圓柱靶，盡管工件架上的玻璃管自轉(zhuǎn)并 做直線向前運動，但在長形鍍膜室內(nèi)，其濺射范圍對室內(nèi)各位置是不均等的， 因此增加了每個太陽能集熱管的鍍膜的一致性的難度。在另一個實施例中，把 兩個圓柱靶設(shè)置在沿工件架直線運動的中間，也存在濺射室內(nèi)氣氛的不均勻性、 產(chǎn)品涂層質(zhì)量控制困難的問題。
本發(fā)明人根據(jù)多年從事本領(lǐng)域工作的經(jīng)驗和知識，為克服上述太陽能集熱 鍍膜存在的上述缺陷，經(jīng)過堅持不懈的研發(fā)，終于幵發(fā)出本發(fā)明的太陽能集熱 管連續(xù)自動濺射鍍膜方法及實現(xiàn)該方法的裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種適用于鍍制高質(zhì)量真空太陽集熱管 的連續(xù)自動濺射鍍膜方法及實現(xiàn)該方法的裝置，通過設(shè)置多個真空室以及在真 空環(huán)境中可變軌跡的傳送軌道將各真空室相連接，在保證濺射真空室不接觸大 氣的狀態(tài)下，對太陽能集熱管進行連續(xù)自動的濺射鍍膜，達到降低成本，提高 生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量的目的。
為此，本發(fā)明提出一種太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法，包括
設(shè)置預(yù)真空室和末端真空室，并在所述預(yù)真空室和末端真空室之間設(shè)置可 以相對封閉不接觸大氣的濺射真空室，通過可變軌跡的傳送軌道將各真空室相
連接；
當裝載有太陽能集熱管的工件車進入預(yù)真空室后，對預(yù)真空室進行抽真空， 使該預(yù)真空室的真空度達到與濺射真空室的真空度相同；
在相同的真空度下，所述工件車由預(yù)真空室進入濺射真空室，工件車沿設(shè) 置在濺射真空室內(nèi)的環(huán)形軌道進行旋轉(zhuǎn)運動，同時裝載在所述工件車上的太陽 能集熱管相對于工件車進行自轉(zhuǎn)運動，通過設(shè)置在濺射真空室內(nèi)的濺射靶對所 述太陽能集熱管的表面進行太陽能選擇性吸收涂層的濺射沉積；
完成全部濺射作業(yè)后，所述工件車進入與濺射室具有相同真空度的末端真 空室；
關(guān)閉所述濺射真空室后，使所述末端真空室達到常壓狀態(tài)，所述工件車移 至末端真空室外部。
以及一種多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱形鍍膜裝置，所述鍍膜裝置 具有
多個圓柱形真空室串聯(lián)設(shè)置，每兩個真空室之間用真空通道連接，每個真 空通道內(nèi)均設(shè)置真空鎖，用以真空室與真空室之間的隔離，設(shè)置在兩端部的真 真空室還具有與外部隔離的真空鎖；
每一個真空室內(nèi)均設(shè)有一組環(huán)形軌道，每一組環(huán)形軌道均具有兩個外接軌 道，設(shè)置在所述真空室外部的外部傳送軌道的兩端分別與所述外接軌道相連接， 一旋轉(zhuǎn)道岔可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在所述環(huán)形軌道和外接軌道的交界處；
對應(yīng)于所述真空鎖的位置，在所述外部傳送軌道與外接軌道之間、以及各 組環(huán)形軌道的外接軌道之間均設(shè)有活動軌道；
所述軌道上設(shè)有多個連續(xù)運動的工件車。
本發(fā)明的太陽能集管連續(xù)自動濺射鍍膜方法及多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱形鍍膜裝置的優(yōu)點和特點是
1、 本發(fā)明采用多室、多通道、多真空鎖結(jié)構(gòu)的集熱管鍍膜機，能夠?qū)崿F(xiàn)連 續(xù)自動鍍膜?？煞质孜驳挠啥鄠€車體構(gòu)成的工件車，依次進出各個圓柱形真空 室，完成鍍膜工藝后由末端真空室出來，進入外部傳送軌道裝卸管子后再返回 預(yù)真空室，其中設(shè)置在預(yù)真空室和末端真空室之間的濺射真空室與大氣隔離， 不暴露在大氣中，大大減少了因濺射室暴露大氣污染濺射環(huán)境，破壞生產(chǎn)節(jié)拍 的潛在因素。
2、 濺射真空室是不暴露大氣的潔凈真空室，因此克服了公知技術(shù)中隨著鍍 膜時間的推移抽真空速率變慢的現(xiàn)象，大大提高了生產(chǎn)效率。
3、 由于濺射真空室是潔凈的真空室，因此、濺射氣氛穩(wěn)定，由于沒有雜氣干 擾濺射過程，使所濺射膜層的質(zhì)量得到保證。
4、 使用孿生靶中頻濺射電源不會出現(xiàn)靶啟動困難，可以做到即幵即濺射，
并且不會出現(xiàn)耙中毒現(xiàn)象。
5、 由設(shè)置在真空環(huán)境下的環(huán)形軌道和外接軌道交界處的旋轉(zhuǎn)道岔，實現(xiàn)了 本發(fā)明的鍍膜裝置的軌道可變軌跡，從而可以使工件車由一個真空室順利移到 下一個真空室，并且可以使工件車環(huán)繞靶進行連續(xù)濺射鍍膜，減少了設(shè)備長度， 提高了作業(yè)效率。
6、 本發(fā)明通過工件車在環(huán)形軌道上圍繞濺射靶旋轉(zhuǎn)的鍍膜方式，相對于立 式雙端鍍膜方式,可以在不增加靶位、不增加真空室長度的情況下，自由設(shè)定鍍 膜工藝參數(shù),雖然沒有壓差室，但各真空室均有真空鎖可以保證濺射氣體不會互 相干擾，提高了鍍膜質(zhì)量。


圖l是本發(fā)明的多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱形鍍膜裝置的示意圖2A、圖2B是圖1中C處的局部放大示意圖，表示環(huán)形軌道、外接軌道以 及旋轉(zhuǎn)道岔之間的位置關(guān)系；
圖3表示旋轉(zhuǎn)道岔的角度調(diào)整機構(gòu)一實施例示意圖4A、圖4B是本發(fā)明的工件車的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖4A是工件車的連 接關(guān)系示意圖，圖4B是車體的結(jié)構(gòu)示意圖5A是驅(qū)動真空室內(nèi)的工件車移動的第一驅(qū)動裝置的結(jié)構(gòu)示意圖5B是圖5A中D處的局部放大示意圖6A、圖6B表示驅(qū)動外部傳送軌道直線段上的工件車移動的第二驅(qū)動機構(gòu) 的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖6A為該第二驅(qū)動機構(gòu)的局部結(jié)構(gòu)俯視示意圖，圖6B 為圖6A中沿B-B線的剖視示意圖7A、圖7B表示驅(qū)動外部傳送軌道弧形段上的工件車移動的第三驅(qū)動機構(gòu) 的結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖7A為該第三驅(qū)動機構(gòu)的局部結(jié)構(gòu)俯視示意圖，圖7B 為圖7A中沿A-A線的剖視示意圖8是本發(fā)明的升降式活動軌道的一實施例示意圖9A、圖9B是平移式活動軌道的一實施例示意圖，其中，圖9A為主視示 意圖，圖9B為俯視示意圖IO表示了一種太陽能選擇性吸收涂層膜系構(gòu)造圖。
具體實施例方式
為對本發(fā)明的多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法及實現(xiàn)該方式的裝 置的特征、效果和所要達到的技術(shù)目的有更加清楚和全面的了解，下面配合附 圖及具體實施例對本發(fā)明的具體實施方式
作進一步的詳細說明。
如圖1所示，本發(fā)明提出的太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱形鍍膜裝置10 具有多個串聯(lián)連接的圓柱形真空室，每兩個真空室之間用真空通道連接，在 本實施例中，以設(shè)置4個真空室I、 II 、 III、 IV為例進行說明，且各真空室在 左右方向依次排列，其排列方式并不限于此。本發(fā)明的鍍膜裝置10還具有真空 系統(tǒng)9，該真空系統(tǒng)9是常規(guī)的公知技術(shù)，因此省略說明。
所述真空室I、 IV具有與外部隔離的真空室外鎖2，各真空室I、 II 、 ni、
IV之間的真空通道內(nèi)設(shè)置有將各真空室隔離的真空室內(nèi)鎖20;每一個真空室內(nèi)
設(shè)有一組環(huán)形軌道1，每一組環(huán)形軌道1均具有兩個外接軌道11、 12，所述外 接軌道11、 12分別設(shè)置在環(huán)形軌道1的左右兩側(cè)，設(shè)置在所述真空室外部的外 部傳送軌道3的一端與設(shè)置在一端部的真空室I左側(cè)的外接軌道11相連接，另 一端與設(shè)置在另一端部的真空室IV右側(cè)的外接軌道12相連接，在所述環(huán)形軌道 l和外接軌道ll、 12的交界處設(shè)有一可轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)道岔7、 8。對應(yīng)于所述真空 室外鎖2的位置，在所述外部傳送軌道3與真空室I的外接軌道11和真空室IV 的外接軌道12之間分別設(shè)有活動軌道4,在各組環(huán)形軌道的外接軌道12、 11 之間、對應(yīng)于真空室內(nèi)鎖20的位置設(shè)有活動軌道5。所述軌道上設(shè)有多個連續(xù) 運動的工件車6。其中，所述的環(huán)形軌道l,各組環(huán)形軌道的外接軌道12、 11， 活動軌道5構(gòu)成了設(shè)置在鍍膜機內(nèi)部的可變軌跡的傳送軌道。
如圖2A、圖2B所示，所述外接軌道11對接于所述環(huán)形軌道1的外環(huán)邊13， 且該外接軌道11的第一邊110與所述環(huán)形軌道1的外環(huán)邊13光滑過渡連接， 該外接軌道11的第二邊111與所述環(huán)形軌道1的外環(huán)邊13相抵接于圖中P點。 在本實施例中，僅以環(huán)形軌道左側(cè)與外接軌道ll交界處的結(jié)構(gòu)進行說明，其右 側(cè)為鏡像結(jié)構(gòu)，且運動方式相同，因此省略對外接軌道12的說明。
所述外部傳送軌道3包括直線段軌道31，以及連接直線段軌道31和所述外 接軌道ll、 12的弧線段軌道32。
所述各真空室I、 II、 III、 IV并不局限于圓柱形，設(shè)置在真空室內(nèi)的環(huán)形 軌道l也不限于圓形，且所述外接軌道ll、 12可以選擇任意的曲率半徑。為減 小鍍膜裝置的整體長度，保證工件車的運行平穩(wěn)性，以及優(yōu)良的加工工藝性優(yōu) 選各真空室采用圓柱形、環(huán)形軌道采用圓形，所述外接軌道ll、 12的曲率半徑 與所述環(huán)形軌道1的曲率半徑相同。
如圖2A、圖2B所示，所述旋轉(zhuǎn)道岔具有第一工作位置(圖2A)和第二工 作位置(圖2B)，其中在第一工作位置，所述旋轉(zhuǎn)道岔7的第一工作邊71的一 端與所述外接軌道11與環(huán)形軌道1的外環(huán)邊13的抵接點P相對接、另一端與環(huán)形軌道1的內(nèi)環(huán)邊14相貼合，此時，所述旋轉(zhuǎn)道岔7的第二工作邊72與所 述環(huán)形軌道1的外接軌道11的第一邊110脫開一定距離厶2 (A2大于工件車的 輪側(cè)寬度)，所述環(huán)形軌道1與外接軌道11之間形成連續(xù)的導(dǎo)軌，此時，所述 工件車6可以自由進出真空室。
在所述旋轉(zhuǎn)道岔7的第二工作位置，所述旋轉(zhuǎn)道岔的第二工作邊72的一端 與環(huán)形軌道1的外環(huán)邊13和所述外接軌道11的抵接點P相對接，該第二工作 邊72的另一端與所述環(huán)形軌道1的外接軌道11的第一邊110相貼合，此時， 所述旋轉(zhuǎn)道岔7的第一工作邊71與所述環(huán)形軌道1的一內(nèi)環(huán)邊14脫開厶， 大于工件車的輪側(cè)寬度)，所述環(huán)形軌道l形成一連續(xù)的導(dǎo)軌，此時，所述工件 車6可以順利地在所述環(huán)形軌道1上做圓周運動。
所述旋轉(zhuǎn)道岔8的運動方式、連接關(guān)系與上述旋轉(zhuǎn)道岔7相同，在此省略說明。
如圖3所示，所述旋轉(zhuǎn)道岔7、 8固定在一轉(zhuǎn)軸73上，該轉(zhuǎn)軸73與一旋轉(zhuǎn) 角度調(diào)整機構(gòu)相連接。所述旋轉(zhuǎn)角度調(diào)整機構(gòu)具有與轉(zhuǎn)軸73相連接的擺桿74， 所述擺桿74的左極限位置由設(shè)置在定位塊76上的調(diào)整螺釘77限制，該定位塊 76固定于真空室的底部。所述擺桿74的一端連接轉(zhuǎn)軸73，另一端連接在驅(qū)動 氣缸75的活塞桿接頭78上。由于氣缸行程的長短，決定了旋轉(zhuǎn)道岔的旋轉(zhuǎn)角 度的大小，因此通過調(diào)整所述螺釘77的長度，而調(diào)整所述旋轉(zhuǎn)道岔的旋轉(zhuǎn)角度， 保證旋轉(zhuǎn)道岔的轉(zhuǎn)動位置準確，使工件車6運行順暢。
其中，所述旋轉(zhuǎn)角度調(diào)整機構(gòu)設(shè)置在所述真空室的外部，所述旋轉(zhuǎn)道岔7、 8的轉(zhuǎn)軸73與真空室壁之間密封連接。
在本實施例中，僅以一氣缸驅(qū)動一擺桿運動的旋轉(zhuǎn)角度調(diào)整機構(gòu)為例，說 明對旋轉(zhuǎn)道岔的轉(zhuǎn)動控制，但并不限于此，也可以采用其它公知的結(jié)構(gòu)，如凸 輪機構(gòu)、電磁閥等等，使所述旋轉(zhuǎn)道岔在上述第一工作位置和第二工作位置之 間轉(zhuǎn)換。
如圖4A、圖4B所示，所述工件車6由多個車體61構(gòu)成，每一車體61包括一車體支架62，所述車體支架62的下部設(shè)有與所述軌道相配合的支承輪63， 一自轉(zhuǎn)軸64可轉(zhuǎn)動地支承在所述車體支架62上，該自轉(zhuǎn)軸64貫穿所述車體支 架62，其上部延伸至所述車體支架的外部，在所述自轉(zhuǎn)軸64的上部設(shè)有用于定 位太陽能集熱管的定位套65，如圖4A所示，所述定位套65與太陽能集熱管60 的內(nèi)徑相配合。
所述支承輪63的輪上設(shè)有第一傘齒輪66,所述自轉(zhuǎn)軸64的下端設(shè)有與所 述第一傘齒輪66相嚙合的第二傘齒輪67，通過一驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述支承輪63 在所述軌道上滾動，從而帶動工件車6沿軌道移動，并通過第一傘齒輪66和第 二傘齒輪67的嚙合，使所述自轉(zhuǎn)軸64帶動太陽能集熱管60自轉(zhuǎn)。
所述車體支架62的一側(cè)面設(shè)有至少一個軸線豎直設(shè)置的靠輪68，所述靠輪 凸出車體支架的側(cè)面設(shè)置。在本實施例中，在縱向設(shè)有兩個靠輪68。
一防濺射套69套在延伸至車體支架62上端外部的所述自轉(zhuǎn)軸64上，用以 防止太陽能集熱管60端部封接位置被鍍上膜。所述各車體支架62之間通過連 接耳和銷軸連接構(gòu)成所述工件車6。圖4A表示了車體61之間的一種連接關(guān)系實 施例，各車體61的一側(cè)具有連接凹部621，相反一側(cè)具有連接凸部622，兩車 之間凸部與凹部相配合，通過連接軸623將兩車體相連接。
如圖l、圖5A所示，本發(fā)明的鍍膜裝置10具有第一驅(qū)動機構(gòu)15和第二驅(qū) 動機構(gòu)33，第三驅(qū)動機構(gòu)34。該第一驅(qū)動機構(gòu)15驅(qū)動在所述圓柱形真空室內(nèi) 的工件車6的移動，該第二驅(qū)動機構(gòu)33、第三驅(qū)動機構(gòu)34驅(qū)動在所述外部傳送 軌道3上的工件車6的移動。
如圖l 、圖5A、圖5B所示，每一真空室均具有一第一驅(qū)動機構(gòu)15，所述 第一驅(qū)動機構(gòu)15具有設(shè)置在所述真空室內(nèi)、由電機151驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)盤150, 所述轉(zhuǎn)盤150的外周邊設(shè)有帶有彈簧155的壓板152，所述壓板152以固定在轉(zhuǎn) 盤150上的軸154為擺動中心，所述壓板152的外周邊緊密地壓在壓塊153上， 并通過摩擦力驅(qū)動所述工件車移動。所述壓塊153固定在所述工件車6的車體 支架62的一側(cè)。上述帶有彈簧155的壓板152是通過調(diào)節(jié)彈簧的壓力，來控制
壓板152和壓塊153之間的摩擦力，從而實現(xiàn)通過該摩擦力驅(qū)動所述工件車的 目的。所述彈簧155可采用公知的結(jié)構(gòu)設(shè)置，只要能實現(xiàn)調(diào)節(jié)壓板152與壓塊 153之間的壓力就可以。
如圖6A、圖6B所示，所述第二驅(qū)動機構(gòu)33具有設(shè)置在直線段軌道31兩側(cè)、 由電機330驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的兩組皮帶輪335、設(shè)置在所述兩組皮帶輪335上的兩組皮 帶333，以及設(shè)置在所述軌道兩側(cè)的至少一個將所述皮帶333向所述工件車6 頂?shù)值目枯?31，且所述靠輪331、皮帶輪335均可設(shè)置在支架332上。設(shè)置在 軌道兩側(cè)的兩組皮帶333同步同方向運動，且相互平行，通過所述靠輪331頂 抵該兩組皮帶333，使所述兩組皮帶333夾持并通過摩擦力驅(qū)動所述工件車6 移動。
在本實施例中，所述皮帶333夾持在所述車體61的車體支架62兩側(cè)，通 過皮帶333與車體支架62之間的摩擦力驅(qū)動工件車6移動。
如圖7A、圖7B所示，所述第三驅(qū)動機構(gòu)34具有設(shè)置在所述弧線段軌道32 一側(cè)、由電機344驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的皮帶輪343，設(shè)置在所述皮帶輪343上的皮帶345， 以及通過摩擦力由皮帶345驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的多個驅(qū)動輪341，設(shè)置在弧線段軌道32 另一側(cè)的靠板342，所述靠板342的曲率半徑與所述弧線段軌道的曲率半徑相匹 配，所述工件車6被夾持在所述驅(qū)動輪341和靠板342之間，所述靠板342頂 抵于設(shè)置在所述工件車6的車體支架62 —側(cè)面的靠輪68。通過摩擦力由驅(qū)動輪 341驅(qū)動所述工件車移動。為提高摩擦力，優(yōu)選使橡膠驅(qū)動輪。
為了提高所述皮帶345的張緊力，以保持皮帶345與驅(qū)動輪341之間具有 足夠的摩擦力，優(yōu)選在兩皮帶輪343之間設(shè)置至少一個張緊輪346。
如圖8所示，所述活動軌道5為升降式活動軌道，其下部設(shè)有升降氣缸51; 所述升降氣缸設(shè)置在兩真空室之間形成的真空通道的外部，氣缸活塞桿52貫穿 所述真空通道壁53與所述升降式活動軌道5固定連接，所述活塞桿與真空通道 壁之間密封配合。在本實施例中，在所述氣缸活塞桿52的前端設(shè)有接長部分 521，以滿足行程要求。
所述升降式活動軌道與至少一個導(dǎo)向桿54固定連接，所述導(dǎo)向桿的下部貫 穿延伸至所述真空通道的外部，并與真空通道壁之間密封配合。在本實施例中 設(shè)有兩個導(dǎo)向桿54，但并不限于此。所述活塞桿52、導(dǎo)向桿54與真空通道壁 53之間通過密封套55密封配合。
如圖9A、圖9B所示活動軌道4為平移式活動軌道，真空室外鎖2的開啟與 關(guān)閉占有一定的移動空間，為防止干涉，將外環(huán)軌緊靠真空室部分做成可移動 的結(jié)構(gòu)。活動軌道4裝在兩個帶直線軸承的支座93上，直線軸承沿兩平行導(dǎo) 桿92做直線運動，保證運動精度，整套移動裝置由氣缸91驅(qū)動。
在對應(yīng)于各真空室外鎖2、真空室內(nèi)鎖20設(shè)置的所述活動軌道4、 5均可以 采用升降式活動軌道或平移式活動軌道。為增加鍍膜裝置真空室的有效作業(yè)空 間，減小裝置的整體體積，優(yōu)選對應(yīng)于真空室內(nèi)鎖設(shè)置升降式活動軌道，而在 真空室外部，對應(yīng)于真空室外鎖設(shè)置平移式活動軌道。
本發(fā)明的太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法，包括將上述左、右兩端 的真空室I 、 IV設(shè)置為預(yù)真空室和末端真空室，并在所述預(yù)真空室和末端真空 室之間設(shè)置不接觸大氣的濺射真空室，即上述的真空室II、 III,通過可變軌跡 的傳送軌道將各真空室相連接。
當裝載有太陽能集熱管的工件車6進入預(yù)真空室后，對預(yù)真空室進行抽真 空，使該預(yù)真空室的真空度達到與濺射真空室的真空度相同。
在相同的真空度下，所述工件車6由預(yù)真空室進入濺射真空室，工件車沿 設(shè)置在濺射真空室內(nèi)的環(huán)形軌道1進行旋轉(zhuǎn)運動，同時裝載在所述工件車上的 太陽能集熱管相對于工件車進行自轉(zhuǎn)運動，通過設(shè)置在濺射真空室內(nèi)的濺射耙 對所述太陽能集熱管的表面進行太陽能選擇性吸收涂層的濺射沉積。
完成全部濺射作業(yè)后，所述工件車進入與濺射室具有相同真空度的末端真 空室。
關(guān)閉所述濺射真空室后，使所述末端真空室達到常壓狀態(tài)，所述工件車移 至末端真空室外部。
本發(fā)明的濺射鍍膜方法可以通過在所述預(yù)真空室和末端真空室之間設(shè)置多 個濺射真空室，在各濺射真空室內(nèi)對所述太陽能集熱管進行不同的膜層的濺射 沉積，從而易于控制選擇性吸收層的濺射質(zhì)量，并由于可以對各濺射真空室進 行獨立的控制，因此，工件車能夠在本發(fā)明的鍍膜裝置的各個工位同步進行作 業(yè)，提高了生產(chǎn)效率。
例如，可以在第一濺射真空室(真空室H)內(nèi)對所述太陽能集熱管的表面
濺射沉積底層和吸收層，在第二濺射真空室(真空室in)內(nèi)對所述太陽能集熱
管的表面濺射沉積減反層。 一個具體實施例是，在第一濺射真空室安裝3個材 料與尺寸相同的鋁圓柱靶(也可以是2個鋁靶)，啟動鍍膜程序后，在該第一濺
射真空室進行磁控濺射鍍鋁膜作為太陽能選擇性吸收涂層的底層，以及磁控濺 射鍍鋁與氮化鋁復(fù)合材料薄膜作為太陽能選擇性吸收涂層的吸收層。在第二濺
射真空室安裝3個材料與尺寸相同的鋁圓柱靶(也可以2個鋁靶)，在工件車從 第一濺射真空室進入第二濺射真空室后，啟動該室的鍍膜程序，磁控濺射鍍氮化 鋁介質(zhì)材料薄膜作為太陽能選擇性吸收涂層的減反層，從而完成太陽能選擇性 吸收涂層磁控濺射制備。
或者，在第一濺射真空室內(nèi)對所述太陽能集熱管的表面濺射沉積底層，在 第二濺射真空室內(nèi)對所述太陽能集熱管的表面濺射沉積吸收層，在第三濺射真 空室(圖中未示出)內(nèi)對所述太陽能集熱管的表面濺射沉積減反層。根據(jù)產(chǎn)品 的工藝要求，還可以適當增加所述濺射真空室的數(shù)量，細化各濺射真空室的作 業(yè)范圍，以進一步提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。另一可行的實施例是，在第一濺 射室內(nèi)安裝2個材料與尺寸相同的銅圓柱靶，在第二濺射室內(nèi)安裝1個鋁圓柱靶 與l個不銹鋼圓柱靶，在第三濺射室內(nèi)安裝2個材料與尺寸相同的鋁圓柱靶(也 可以3個鋁耙或4個鋁靶)。裝有玻璃管的工件車進入第一濺射真空室后，啟動 該第一驅(qū)動機構(gòu)，使工件車6在該室內(nèi)進行圓周運動，并啟動鍍膜程序,磁控濺 射鍍銅膜作為太陽能選擇性吸收涂層的底層。在工件車由第一濺射真空室進入 第二濺射真空室后，啟動第二濺射真空室的鍍膜程序，磁控濺射鍍不銹鋼與氮
化鋁復(fù)合材料薄膜作為太陽能選擇性吸收涂層的吸收層。隨后工件車6從第二 濺射真空室進入第三濺射真空室，并啟動該室的鍍膜程序，磁控濺射鍍氮化鋁 介質(zhì)材料薄膜作為太陽能選擇性吸收涂層的減反層,太陽能選擇性吸收涂層磁 控濺射制備完畢。
本發(fā)明的鍍膜方法，當所述工件車由外部進入真空室、或從一個真空室進 入另一真空室時，通過所述傳送軌道的第一旋轉(zhuǎn)道岔7，使設(shè)置在真空室內(nèi)的 環(huán)形軌道與延伸至真空室外部的外接軌道之間形成連續(xù)的導(dǎo)軌，所述工件車沿 改變軌跡后的軌道進入真空室。
當所述工件車進入真空室后，通過所述傳動軌道的第一旋轉(zhuǎn)道岔7，使設(shè) 置在真空室內(nèi)的環(huán)形軌道形成一連續(xù)的導(dǎo)軌。
當所述工件車在一個真空室內(nèi)完成作業(yè)后，通過所述傳動軌道的第二旋轉(zhuǎn) 道岔8，使設(shè)置在該真空室內(nèi)的環(huán)形軌道與延伸至真空室外部的外接軌道之間 形成連續(xù)的導(dǎo)軌，所述工件車沿改變軌跡后的軌道離開該真空室。
下面結(jié)合附圖進一步具體說明本發(fā)明的工藝過程。
請參見圖1,為對所述鍍膜裝置的軌道進行準確的控制，使所述工件車6 能夠順暢地在軌道上運動，在外部傳送軌道3的弧形段軌道32上設(shè)有電感接近 開關(guān)35，該電感接近開關(guān)35位于弧形段軌道32靠近所述活動軌道4的一側(cè)。 在所述各旋轉(zhuǎn)道岔7、 8的兩側(cè)環(huán)形軌道1上設(shè)有電感接近開關(guān)36、 37。當首架 工件車6停止在設(shè)置在外部傳送軌道3的弧線段軌道32的電感接近開關(guān)35處 時，真空室I (預(yù)真空室)的真空室外鎖2開啟。設(shè)置在該真空室I左側(cè)、連 接外接軌道11和弧形段軌道32的平移式活動軌道4復(fù)位，與真空室I左側(cè)的 弧形段軌道32和外接軌道11連接到位。旋轉(zhuǎn)道岔7旋轉(zhuǎn)至第一工作位置，所 述環(huán)形軌道1與外接軌道11之間形成連續(xù)的導(dǎo)軌，即圖2A所示位置，允許工 件車6進入環(huán)形軌道1。真空室I的第一驅(qū)動機構(gòu)15、第三驅(qū)動機構(gòu)34同時運 動，將工件車6送入真空室I，當工件車6全部進入真空室I內(nèi)的環(huán)形軌道1 后，所述工件車6的首尾兩端分別停在設(shè)置于真空室I左側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7的兩側(cè)環(huán)形軌道1上的電感接近開關(guān)36、 37處(旋轉(zhuǎn)道岔7上面沒有工件車)。此 時，第一驅(qū)動機構(gòu)15、第三驅(qū)動機構(gòu)34同時停止運動，旋轉(zhuǎn)道岔7旋轉(zhuǎn)至第二 工作位置，即圖2B所示位置，所述環(huán)形軌道1形成一連續(xù)的導(dǎo)軌，使所述工件 車6可以順利地在所述環(huán)形軌道1上做圓周運動。上述平移式活動軌道4進行 平移運動與設(shè)置在該真空室I左側(cè)的外接軌道11和弧形段軌道32分離，真空 室I的左側(cè)真空室外鎖2關(guān)閉。對真空室I進行抽真空，使其達到2X10一2pa 以上的真空度。在第一驅(qū)動機構(gòu)15的驅(qū)動下，工件車6沿真空室I內(nèi)的環(huán)形軌 道1進行旋轉(zhuǎn)運動，所述工件車6的首尾兩端分別停在設(shè)置于真空室I右側(cè)的 旋轉(zhuǎn)道岔7的兩側(cè)環(huán)形軌道1上的電感接近開關(guān)36、 37處(此時旋轉(zhuǎn)道岔8上 沒有工件車)。打開設(shè)置在真空室I和真空室II之間的真空室內(nèi)鎖20，設(shè)置在 兩真空室之間的真空通道內(nèi)、并連接兩真空室的環(huán)形軌道的外接軌道12、 11的 升降式活動軌道5上升，將真空室I與真空室II之間的外接軌道相連接，所述 真空室I右側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔8和真空室II左側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7同時旋轉(zhuǎn)至第一工作 位置，所述環(huán)形軌道l與外接軌道ll之間形成連續(xù)的導(dǎo)軌。真空室I和真空室 II中的第一驅(qū)動機構(gòu)15同時運轉(zhuǎn)，使工件車6由真空室I進入真空室II 。
工件車6全部進入真空室II后，在真空室II左側(cè)的電感接近開關(guān)36、 37 處停止(真空室II左側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7上面沒有工件車)此時，真空室I、 II的 第一驅(qū)動機構(gòu)15同時停止運動。所述真空室二I右側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔8和真空室II 左側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7同時旋轉(zhuǎn)復(fù)位至第二工作位置，即所述環(huán)形軌道1形成一連
續(xù)的導(dǎo)軌。設(shè)置在所述真空室I、 n之間的所述升降式活動軌道5下降到原始
位置讓出真空室內(nèi)鎖20的旋轉(zhuǎn)的位置。兩真空室I、 II之間的真空室內(nèi)鎖20 關(guān)閉。工件車6在第一驅(qū)動機構(gòu)15的驅(qū)動下在真空室II內(nèi)的環(huán)形軌道1上做 旋轉(zhuǎn)運動，此時真空室II左、右兩側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7、 8均被鎖定，不得動作。 打開質(zhì)量流量計充入氬氣至4X10—1 Pa，開始直流靶濺射鍍膜至要求后，關(guān)閉 靶電源、關(guān)閉質(zhì)量流量計、關(guān)截止閥，真空室II的真空度恢復(fù)到2X10—2Pa以上。 將工件車6停在真空室II右側(cè)的電感接近開關(guān)36、 37處，第一驅(qū)動機構(gòu)15停止運轉(zhuǎn)。打開設(shè)置在兩真空室n、 in之間的真空室內(nèi)鎖20，升降式活動軌道 5上升連接真空室n (第一濺射真空室)、真空室ni (第二濺射真空室)環(huán)形軌 道的外接軌道。真空室n右側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔8、真空室ni左側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7同時 旋轉(zhuǎn)至第一工作位置，使所述環(huán)形軌道i與外接軌道ii之間形成連續(xù)的導(dǎo)軌。 真空室ii、真空室in的第一驅(qū)動機構(gòu)15同時旋轉(zhuǎn)，驅(qū)動工件車6由濺射i室 進入濺射2室。當工件車6全部進入第二濺射真空室(真空室in)內(nèi)，在真空
室III左側(cè)的電感接近開關(guān)36、 37處停止(真空室III左側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7上面
沒有工件車)，此時，真空室n、真空室ni的第一驅(qū)動機構(gòu)i5同時停止運動。 所述真空室n右側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔s和真空室in左側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7同時旋轉(zhuǎn)復(fù)位 至第二工作位置，即所述環(huán)形軌道i形成一連續(xù)的導(dǎo)軌。設(shè)置在所述真空室n、
III之間的所述升降式活動軌道5下降到原始位置讓出真空室內(nèi)鎖20的旋轉(zhuǎn)的 位置。兩真空室n、 ni之間的真空室內(nèi)鎖20關(guān)閉。抽真空至2X10—2pa以上， 啟動真空室III的第一驅(qū)動機構(gòu)15，工件車6在真空室III內(nèi)的環(huán)形軌道1上
旋轉(zhuǎn)運動。此時真空室n工左、右兩側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7、 8均被鎖定，不得動作。
打幵質(zhì)量流量計充入氮氣至4X10—'pa。開孿生靶濺射鍍膜至要求后，關(guān)閉靶電 源，關(guān)閉質(zhì)量流量計截止閥，關(guān)閉質(zhì)量流量計。真空室III (濺射2室)的真空 度恢復(fù)到2X l(T2Pa以上。將工件車6停在真空室III右側(cè)的電感接近開關(guān)36、 37處(真空室III右側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔8上沒有工件車)，第一驅(qū)動機構(gòu)15停止運 轉(zhuǎn)。對真空室IV (末端真空室)抽真空，使該室的真空度達到2X10—2Pa以上， 打開真空室III和真空室IV之間的真空室內(nèi)鎖20。設(shè)置在兩真空室III、 IV 之間的升降式活動軌道5上升，連接真空室III (第二濺射真空室)與真空室 IV (末端真空室)環(huán)形軌道的外接軌道。所述真空室III右側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔8、真 空室IV左側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7同時旋轉(zhuǎn)至第一工作位置，使所述環(huán)形軌道1與外接 軌道11之間形成連續(xù)的導(dǎo)軌。真空室III、 IV的第一驅(qū)動機構(gòu)15同時旋轉(zhuǎn)， 驅(qū)動工件車6由真空室III (第二濺射真空室)進入真空室IV (末端真空室)。 工件車6全部進入真空室IV內(nèi)，在真空室IV左側(cè)的電感接近開關(guān)36、 37處停止(真空室IV左側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7上面沒有工件車)。此時，真空室III、真空室 IV的第一驅(qū)動機構(gòu)15同時停止運動。所述真空室III右側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔8和真空 室IV左側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔7同時旋轉(zhuǎn)復(fù)位至第二工作位置，即所述環(huán)形軌道1形成 一連續(xù)的導(dǎo)軌。設(shè)置在所述真空室III、 IV之間的所述升降式活動軌道5下降 到原始位置讓出真空室內(nèi)鎖20的旋轉(zhuǎn)的位置。兩真空室ni、 IV之間的真空室 內(nèi)鎖20關(guān)閉。啟動真空室IV的第一驅(qū)動機構(gòu)15，工件車6在真空室IV的右側(cè) 電感接近開關(guān)36、 37處停止運動(此時真空室IV右側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔8上面沒有 工件車)，該真空室IV的第一驅(qū)動機構(gòu)15停止驅(qū)動。所述真空室IV右側(cè)的旋 轉(zhuǎn)道岔8旋轉(zhuǎn)至第一工作位置，所述環(huán)形軌道1與外接軌道11之間形成連續(xù)的 導(dǎo)軌，關(guān)閉真空室IV的高閥，開充氣閥向真空室IV充氣，該真空室IV內(nèi)達到 常壓狀態(tài)后，打開真空室IV的真空室外鎖2。設(shè)置在外部傳送軌道3和真空室 IV右側(cè)的外接軌道12之間的平移式活動軌道4移動，將所述真空室IV右側(cè)的外 接軌道12與外部傳送軌道3的弧形段軌道32相連接。所述真空室IV的第一驅(qū) 動機構(gòu)15、設(shè)置在外部傳送軌道3右側(cè)弧形段軌道32的第三驅(qū)動機構(gòu)34同時 啟動，工件車6走出真空室IV進入弧形段軌道32后，第一驅(qū)動機構(gòu)15和第三 驅(qū)動機構(gòu)34停止。當直線段軌道31上沒有工件車時，直線段軌道31上的第二 驅(qū)動機構(gòu)33與第三驅(qū)動機構(gòu)34同時啟動將工件車6移至直線段軌道31上，各 驅(qū)動機構(gòu)停止運動。所述真空室IV右側(cè)的平移式活動軌道4復(fù)位，讓出真空室 外鎖2的旋轉(zhuǎn)的位置，真空室外鎖2關(guān)閉，同時真空室IV右側(cè)的旋轉(zhuǎn)道岔8旋 轉(zhuǎn)至第二工作位置，并對真空室IV (末端真空室)抽真空至2X10—2Pa以上。所 述工件車6在外部傳送軌道3的直線段軌道31處卸管、上管后，移動到首架工 件車的位置， 一個工藝循環(huán)程序完成。
圖l中所示結(jié)構(gòu)，在驅(qū)動機構(gòu)的驅(qū)動下，所述工件車6逆時針方向進入真
空室I (預(yù)真空室)，再以順時針的方向?qū)⒐ぜ?移至真空室n (第一濺射真
空室)，所述工件車由第一濺射真空室(真空室II)以順時針方向離開第一濺射
室并進入第二濺射真空室(真空室in)。工件車6可以根據(jù)需要任意設(shè)定在第一濺射真空室內(nèi)的工作時間，并在該真空室內(nèi)的環(huán)形軌道1上圍繞濺射靶做旋 轉(zhuǎn)運動，增加有效濺射時間。
在驅(qū)動機構(gòu)的驅(qū)動下所述工件車6以順時針方向進入第二濺射真空室(真 空室III),并以順時針方向?qū)⒐ぜ噷?dǎo)出該第二濺射真空室。工件車可以在任意 設(shè)定時間內(nèi)在該第二濺射室的環(huán)形軌道1上圍繞濺射靶做旋轉(zhuǎn)運動，增加有效 濺射時間。
所述工作車6在驅(qū)動機構(gòu)的驅(qū)動下順時針方向由第二濺射真空室進入末端 真空室(真空室W)，并以逆時針方向?qū)⒐ぜ噷?dǎo)出真空室IV，進入外部傳送軌 道3。
以上工件車6的運動方式僅為本發(fā)明的一個具體實施例，在本實施例中， 所述并不限于此，工件車6的運動方式根據(jù)所述各真空室之間的連接軌道的設(shè) 置位置、方向而確定。
本發(fā)明通過工件車6在環(huán)形軌道1上圍繞濺射靶旋轉(zhuǎn)的鍍膜方式，相對于 立式雙端鍍膜方式，可以在不增加靶位、不增加真空室長度的情況下，自由設(shè)定 鍍膜工藝參數(shù)，雖然沒有壓差室，但各真空室均有真空鎖可以保證濺射氣體不會 互相干擾。
本發(fā)明的鍍膜裝置構(gòu)成一個自動化連續(xù)生產(chǎn)線，它的工件車(承載玻璃管 的載體)是循環(huán)使用的。所以在真空室出來的工件車被取下鍍件后，還要重新 插上玻璃管再進入真空室，周而復(fù)始。傳動方式均為柔性膠帶摩擦傳動，在傳 動軌道上設(shè)有傳感器參與自動控制。上述太陽能集熱管并不限于玻璃管，可以 是需要進行濺射鍍膜的其他材質(zhì)的管件，或者是非管件結(jié)構(gòu)也適于采用本發(fā)明 的方法和裝置進行濺射鍍膜，所不同的是，僅需根據(jù)被濺射物的結(jié)構(gòu)改變工件 車的定位套65的結(jié)構(gòu)，以定位被濺射物。
以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施例，但不能以此限定本發(fā)明實施的范圍， 即大凡依本發(fā)明申請專利范圍及說明書內(nèi)容所作的等同變化與修飾，皆應(yīng)仍屬 本發(fā)明專利涵蓋的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法，包括設(shè)置預(yù)真空室和末端真空室，并在所述預(yù)真空室和末端真空室之間設(shè)置可以相對封閉不接觸大氣的濺射真空室，通過可變軌跡的傳送軌道將各真空室相連接；當裝載有太陽能集熱管的工件車進入預(yù)真空室后，對預(yù)真空室進行抽真空，使該預(yù)真空室的真空度達到與濺射真空室的真空度相同；在相同的真空度下，所述工件車由預(yù)真空室進入濺射真空室，工件車沿設(shè)置在濺射真空室內(nèi)的環(huán)形軌道進行旋轉(zhuǎn)運動，同時裝載在所述工件車上的太陽能集熱管相對于工件車進行自轉(zhuǎn)運動，通過設(shè)置在濺射真空室內(nèi)的濺射靶對所述太陽能集熱管的表面進行太陽能選擇性吸收涂層的濺射沉積；完成全部濺射作業(yè)后，所述工件車進入與濺射室具有相近真空度的末端真空室；關(guān)閉所述濺射真空室后，使所述末端真空室達到常壓狀態(tài)，所述工件車移至末端真空室外部。
2、 如權(quán)利要求1所述的太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法，進一步包括， 在所述預(yù)真空室和末端真空室之間設(shè)置多個濺射真空室，在各濺射真空室內(nèi)對 所述太陽能集熱管進行分層濺射沉積。
3、 如權(quán)利要求2所述的太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法，其中，在第一濺射真空室內(nèi)對所述太陽能集熱管的表面濺射沉積底層和吸收層，在第二濺 射真空室內(nèi)對所述太陽能集熱管的表面濺射沉積減反層。
4、 如權(quán)利要求2所述的太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法，其中，在第一濺射真空室內(nèi)對所述太陽能集熱管的表面濺射沉積底層，在第二濺射真空室 內(nèi)對所述太陽能集熱管的表面濺射沉積吸收層，在第三濺射真空室內(nèi)對所述太 陽能集熱管的表面濺射沉積減反層。
5、 如權(quán)利要求2所述的太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法，其中，所述各濺射真空室內(nèi)設(shè)有1-4個濺射靶。
6、 如權(quán)利要求1至5任一項所述的太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法， 其中，當所述工件車由外部進入真空室、或從一個真空室進入另一真空室時，通過所述傳送軌道的第一旋轉(zhuǎn)道岔，使設(shè)置在真空室內(nèi)的環(huán)形軌道與延伸至真 空室外部的外接軌道之間形成連續(xù)的導(dǎo)軌，所述工件車沿改變軌跡后的軌道進 入真空室；且所述傳送軌道設(shè)置在連接各真空室的真空通道內(nèi)。
7、 如權(quán)利要求1至5任一項所述的太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法， 其中，當所述工件車進入真空室后，通過所述傳動軌道的第一旋轉(zhuǎn)道岔，使設(shè) 置在真空室內(nèi)的環(huán)形軌道形成一連續(xù)的導(dǎo)軌。
8、 如權(quán)利要求1至5任一項所述的太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法， 其中，當所述工件車在一個真空室內(nèi)完成作業(yè)后，通過所述傳動軌道的第二旋 轉(zhuǎn)道岔，使設(shè)置在該真空室內(nèi)的環(huán)形軌道與延伸至真空室外部的外接軌道之間 形成連續(xù)的導(dǎo)軌，所述工件車沿改變軌跡后的軌道離開該真空室。
9、 一種多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱形鍍膜裝置，其特征在于所 述鍍膜裝置具有多個圓柱形真空室串聯(lián)設(shè)置，每兩個真空室之間用真空通道連接，每個真 空通道內(nèi)均設(shè)置真空鎖，用以真空室與真空室之間的隔離，設(shè)置在兩端部的真真空室還具有與外部隔離的真空鎖；每一個真空室內(nèi)均設(shè)有一組環(huán)形軌道，每一組環(huán)形軌道均具有兩個外接軌道， 一旋轉(zhuǎn)道岔可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在所述環(huán)形軌道和外接軌道的交界處；設(shè)置在所 述真空室外部的外部傳送軌道的兩端分別與所述外接軌道相連接；對應(yīng)于所述真空鎖的位置，在所述外部傳送軌道與外接軌道之間、以及各 組環(huán)形軌道的外接軌道之間均設(shè)有活動軌道；所述軌道上設(shè)有多個連續(xù)運動的工件車。
10、 如權(quán)利要求9所述的多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱形鍍膜裝置， 其特征在于所述外接軌道對接于所述環(huán)形軌道的外環(huán)邊，且該外接軌道的第一邊與所述環(huán)形軌道的外環(huán)邊光滑過渡連接，該外接軌道的第二邊與所述環(huán)形 軌道的外環(huán)邊相抵接。
11、 如權(quán)利要求10所述的多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱形鍍膜裝置，其特征在于所述旋轉(zhuǎn)道岔具有第一工作位置和第二工作位置，其中在第一工 作位置，所述旋轉(zhuǎn)道岔的第一工作邊的一端與所述外接軌道相對接、另一端與 環(huán)形軌道的內(nèi)環(huán)邊相貼合，且所述旋轉(zhuǎn)道岔的第二工作邊與所述環(huán)形軌道的外 接軌道的第一邊脫開，所述環(huán)形軌道與外接軌道之間形成連續(xù)的導(dǎo)軌；在第二 工作位置，所述旋轉(zhuǎn)道岔的第二工作邊的一端與環(huán)形軌道的外環(huán)邊相對接，該 第二工作邊的另一端與所述環(huán)形軌道的外接軌道的第一邊相貼合，此時，所述 旋轉(zhuǎn)道岔的第一工作邊與所述環(huán)形軌道的內(nèi)環(huán)邊脫開，所述環(huán)形軌道形成一連 續(xù)的導(dǎo)軌。
12、 如權(quán)利要求9所述的多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱形鍍膜裝置， 其特征在于所述工件車由多個車體構(gòu)成，每一車體包括一車體支架，所述車 體支架的下部設(shè)有與所述軌道相配合的支承輪， 一自轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動地支承在所述 車體支架上，該自轉(zhuǎn)軸貫穿所述車體支架，其上部延伸至所述車體支架的外部， 在所述自轉(zhuǎn)軸的上部設(shè)有用于定位太陽能集熱管的定位套。
13、 如權(quán)利要求12所述的多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱形鍍膜裝置，其特征在于所述一支承輪上設(shè)有第一傘齒輪，所述自轉(zhuǎn)軸的下端設(shè)有與所述 第一傘齒輪相嚙合的第二傘齒輪， 一驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述支承輪轉(zhuǎn)動帶動工件車 沿軌道移動，通過第一傘齒輪和第二傘齒輪的嚙合，使所述自轉(zhuǎn)軸帶動太陽能 集熱管自轉(zhuǎn)。
14、 如權(quán)利要求12所述的多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱形鍍膜裝置， 其特征在于所述各車體支架之間通過連接耳和銷軸連接，所述工件車能夠隨著軌道改變方向。
15、 如權(quán)利要求9至14任一項所述的多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱 形鍍膜裝置，其特征在于所述外部傳送軌道與外接軌道之間設(shè)置平移式活動軌道。
16、如權(quán)利要求9至14任一項所述的多室太陽能集熱管連續(xù)自動濺射圓柱 形鍍膜裝置，其特征在于所述真空通道內(nèi)設(shè)有升降式活動軌道，該升降式活 動軌道的兩端連接各組環(huán)形軌道的外接軌道。
全文摘要
一種太陽能集熱管連續(xù)自動濺射鍍膜方法及裝置，包括設(shè)置預(yù)真空室和末端真空室，在預(yù)真空室和末端真空室之間設(shè)置可以相對封閉不接觸大氣的濺射真空室，通過可變軌跡的傳送軌道將各真空室相連接；當工件車進入預(yù)真空室后，對預(yù)真空室抽真空，使其真空度達到與濺射真空室的真空度相同；在相同的真空度下，工件車由預(yù)真空室進入濺射真空室，并對太陽能集熱管的表面進行太陽能選擇性吸收涂層的濺射沉積；完成全部濺射作業(yè)后，工件車進入與濺射室具有相近真空度的末端真空室；關(guān)閉濺射真空室后，使所述末端真空室達到常壓狀態(tài)，工件車移至末端真空室外部。本發(fā)明大大減少了因濺射室暴露大氣污染濺射環(huán)境，提高了生產(chǎn)效率，提高了作業(yè)效率及鍍膜質(zhì)量。
文檔編號C23C14/56GK101343726SQ20071011852
公開日2009年1月14日 申請日期2007年7月9日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月9日
發(fā)明者呂振華, 李云松, 李云程, 殷志強, 秦克強 申請人:殷志強;李云程;呂振華;李云松