專利名稱：炭漿法提金設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種炭衆(zhòng)法提金設(shè)備。
背景技術(shù)：
目前炭漿法提金法是利用活性炭可以從溶液中吸附貴金屬的特性，其中提升
器高度距槽底1.6米左右，提出炭粒含金品位低， 一些吸附充分的高品位炭粒因
自身比重大，均下沉槽體下部。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型目的在于提供一種炭漿法提金設(shè)備，可大大提高含金品位。 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案炭漿法提金設(shè)備，包括
炭漿槽，炭漿槽內(nèi)設(shè)有進(jìn)漿管、葉輪和提升器，提升器下端距槽底距離為0.5
0.8米。
所述的炭漿槽內(nèi)的葉輪至少設(shè)置兩層。
采用了這種結(jié)構(gòu)后，設(shè)置的提升器的下端距槽底距離為0.5 0.8米，對一些 吸附充分的因自身比重大而下沉槽體下部的高品位炭粒進(jìn)行底層提炭，可大大 提高含金品味。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

實(shí)施例如圖1所示的炭漿法提金設(shè)備，包括炭漿槽1，炭漿槽1內(nèi)設(shè)有進(jìn)漿管2、葉輪3和提升器4，提升器4下端距槽底距離為0.5 0.8米。炭漿槽1 內(nèi)的葉輪3至少設(shè)置兩層。
礦漿由進(jìn)漿管2進(jìn)入炭漿槽1，經(jīng)過葉輪3充分?jǐn)嚢?，利用活性炭可以?溶液中吸附貴金屬的特性， 一些吸附充分的高品位炭粒因自身比重大而下沉槽 體下部，將提升器4下端距槽底距離為0.6米進(jìn)行底層提炭。
權(quán)利要求1、炭漿法提金設(shè)備，其特征在于包括炭漿槽，炭漿槽內(nèi)設(shè)有進(jìn)漿管、葉輪和提升器，提升器下端距槽底距離為0.5～0.8米。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的炭漿法提金設(shè)備，其特征在于所述的炭漿槽內(nèi) 的葉輪至少設(shè)置兩層。
專利摘要炭漿法提金設(shè)備，其特征在于包括炭漿槽，炭漿槽內(nèi)設(shè)有進(jìn)漿管、葉輪和提升器，提升器下端距槽底距離為0.5～0.8米；所述的炭漿槽內(nèi)的葉輪至少設(shè)置兩層。采用了這種結(jié)構(gòu)后，對一些吸附充分的因自身比重大而下沉槽體下部的高品位炭粒進(jìn)行底層提炭，可大大提高含金品味。
文檔編號C22B3/24GK201141038SQ20072009294
公開日2008年10月29日 申請日期2007年11月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月27日
發(fā)明者劉曉棟, 崔發(fā)智, 稽文亮, 許萬群, 郭永強(qiáng) 申請人:靈寶市金源礦業(yè)有限責(zé)任公司