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真空鍍膜領(lǐng)域中使用的加熱蒸發(fā)舟的制作方法

文檔序號:3247685閱讀:1234來源:國知局
專利名稱:真空鍍膜領(lǐng)域中使用的加熱蒸發(fā)舟的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型是真空鍍膜領(lǐng)域中使用的加熱器具,具體涉及真空鍍 膜使用的加熱蒸發(fā)舟。
背景技術(shù)
已有的加熱蒸發(fā)舟,無論是什么材料制成的大體都和圖1的形狀 相似,在電極的中間有一個凹坑,就在這個凹坑中加上所要蒸發(fā)的材 料,將其夾放在真空室的熱蒸發(fā)電極上,真空室的真空度已達(dá)到所要 蒸發(fā)的程度時,將電極加上低電壓大電流的電源,使其發(fā)熱最終達(dá)到 舟里的材料能蒸發(fā)的溫度,已達(dá)到蒸發(fā)的目的。這種帶有凹坑的耐高 溫材料就是常說的舟。
一般用鎢、鉬、鉭、石墨、鉑等材料制作,而 用這種方法制作的舟,無論是凹坑部分,還是電極部分,都是用一種 材料做成的。這種舟的缺點(diǎn)是因蒸發(fā)材料要放在舟的凹坑部分里, 所以,此舟對蒸發(fā)材料的加熱,是靠近底部的地方先加熱先被蒸發(fā), 它的過程是被蒸發(fā)的化合物材料的蒸汽,要穿過舟內(nèi)其它沒有變成蒸 汽的部分,產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),這樣一來舟底部的溫度就過高,對于原化 合物在蒸發(fā)后的配比就會有影響,達(dá)不到預(yù)期的效果。 發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的問題是提供一種在蒸發(fā)過程中使化合物原 配比不發(fā)生變化的一種新的加熱蒸發(fā)舟。具體技術(shù)方案本實(shí)用新型加熱蒸發(fā)舟包括加熱片、通氣孔、掛 盒和掛槽。第一部分是加熱烘烤部分,即帶有通氣孔的加熱片,如圖 2所示,在圖中可以看出,加熱片的中間部分均勻的分布小孔,小孔
的大小一般為①0.5 ①1.0mm左右,當(dāng)加熱烘烤片通電加熱時,由于 此片的中間部分有小孔分布,所以它這段的電阻值要高于其它地方。 這樣是有利于蒸發(fā)化合物材料的蒸發(fā)。而小孔是為下一部分所要談到 的蒸發(fā)化合物材料的蒸汽通過提供通道的。第二部分是帶有掛槽的掛 盒,如圖3所示,這部分主要是用來盛裝要蒸發(fā)的化合物材料。在掛 盒內(nèi)部配備有耐高溫導(dǎo)熱差的氧化鋁陶瓷內(nèi)襯"甘堝",而掛盒本身 是用耐高溫金屬(如鎢、鉬、鉭、鉑等)制備而成的。
在使用本實(shí)用新型加熱蒸發(fā)舟時,首先要用氧化鋁陶瓷內(nèi)襯加 工一個掛盒內(nèi)"甘堝",而甘鍋大小要能適中的放入掛盒內(nèi),然后把 第一部分如圖2所示的加熱片,沿掛盒如圖3所示的掛槽插入,組成 如圖4的結(jié)構(gòu)。這樣,新型的蒸發(fā)舟就制作完畢了,把此舟放到熱蒸 發(fā)電極上,就可以抽真空使用了。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡單、使用方便。能夠較好地解決化合物蒸 發(fā)材料其化學(xué)配比在蒸發(fā)后和蒸發(fā)前存在差別大的問題,使原化合物 蒸發(fā)材料在蒸發(fā)成膜后達(dá)到預(yù)期的效果。同時也適用其他組合物。


圖1是已有技術(shù)示意圖,
圖2是帶有通氣孔的加熱片示意圖,圖4是本發(fā)明真空鍍膜使用的加熱蒸發(fā)舟示意圖,也為摘要附圖。 其中加熱片l、通氣孔2、掛盒3、掛槽具體實(shí)施方式
在研制化合物半導(dǎo)體的TFT器件過程中,化合物半導(dǎo)體CdSe在 成膜時Cd和Se的配比,在蒸發(fā)前粉末到蒸發(fā)后成膜,保持一致性 是非常重要的。為了減少蒸發(fā)過程的配比變化,使用該帶有通氣孔的 加熱蒸發(fā)舟是十分必要。
具體操作如下,在加熱片1上加工通氣孔2,再用耐高溫金屬(如 鎢、鉬、鉭、鉑等)制備帶有掛槽4的掛盒3,然后用氧化鋁陶瓷內(nèi) 襯加工一個掛盒內(nèi)"甘堝",而甘鍋大小要能適中的放入掛盒內(nèi),再 將加熱片1沿掛盒3上的掛槽4插入,組成如圖4所示的化合物加熱 蒸發(fā)舟。
首先將蒸發(fā)材料CdSe粉料添加到掛盒內(nèi)的氧化鋁陶瓷甘鍋(圖 3)里壓實(shí),然后將其插掛到加熱烘烤片(圖2),調(diào)整掛盒使其在正 確的位置如圖4。由兩個蒸發(fā)電極的夾片將片狀加熱烘烤的兩端夾牢。 一切妥當(dāng)之后,封閉真空室抽真空。當(dāng)真空室的真空度達(dá)到所要求的 真空度時,就可以給加熱蒸發(fā)舟加熱。由于料盒掛在加熱片上,所以 當(dāng)加熱片很熱時傳導(dǎo)熱就會使料盒和加熱片有一定的溫度差,又因坩 堝是很差的導(dǎo)熱體,這樣一來坩堝內(nèi)的蒸發(fā)材料就因加熱片的烘烤作 用,表面和坩堝底部就形成很大的溫度差。就是利用這一溫度差當(dāng)加 熱片的烘烤溫度能使材料蒸發(fā)時,和加熱片很近的表面部分材料就會 被先蒸發(fā)出來,材料蒸汽可以通過加熱片上的小孔到真空室的襯底上,在氧化鋁陶瓷的隔熱作用下,蒸發(fā)材料是由上而下一層層的被蒸 發(fā)到襯底表面上,而不是像通常所用的熱蒸發(fā)舟把底部的化合物材料 先蒸發(fā)出來,先蒸發(fā)出來的化合物材料由舟底部穿過沒有蒸發(fā)的化合 物到襯底表面這一過程,就形成了化合物材料中較低溫度能被蒸發(fā)出 的元素先蒸發(fā)到襯底上,而蒸發(fā)材料較高的元素后到襯底表面上的失 配狀態(tài)。本發(fā)明克服了上述缺點(diǎn),改變了失配狀態(tài),達(dá)到了預(yù)期效果。
權(quán)利要求1、一種真空鍍膜領(lǐng)域中使用的加熱蒸發(fā)舟,包括加熱片和掛盒,其特征在于加熱片(1)的中間部位加工有通氣孔(2),掛盒(3)兩側(cè)帶有掛槽(4),其連接方式是將加熱片(1)沿掛盒(3)上的掛槽(4)插入即可。
2、 按照權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜領(lǐng)域中應(yīng)使用的加熱蒸 發(fā)舟,其特征在于掛盒(3)是用耐高溫金屬,如鎢、鉬、鉭、鉑制 成。
3、 按照權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜領(lǐng)域中應(yīng)使用的加熱蒸 發(fā)舟,其特征在于加熱片(1)的中間部位均勻的分布通氣孔(2), 通氣孔(2)的大小為O0.5 ①1.0mm左右。
專利摘要本實(shí)用新型真空鍍膜領(lǐng)域中使用的加熱蒸發(fā)舟,屬于真空鍍膜領(lǐng)域中應(yīng)用的加熱器具。它是針對克服化合物蒸發(fā)材料在蒸發(fā)前、后的化學(xué)元素配比發(fā)生變化而改制的。該加熱蒸發(fā)舟是由薄的耐高溫金屬片制成的、帶有通氣孔的加熱片,加熱片的中間部分均勻分布小孔,第二部分是帶有掛槽的掛盒,在掛盒內(nèi)部配備有耐高溫導(dǎo)熱差的氧化鋁陶瓷內(nèi)襯“坩堝”,用掛槽將掛盒掛在加熱片上即可。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)就是結(jié)構(gòu)簡單、使用方便。能夠較好地解決化合物蒸發(fā)材料其化學(xué)配比在蒸發(fā)后和蒸發(fā)前存在差別大的問題,使原化合物蒸發(fā)材料在蒸發(fā)成膜后達(dá)到預(yù)期的效果。
文檔編號C23C14/24GK201132847SQ20072009431
公開日2008年10月15日 申請日期2007年9月7日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月7日
發(fā)明者李志明, 繆國慶 申請人:中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
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