專利名稱：具有分散氣體的分散板的鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種,裝置，特別是涉及一種具有分散氣體的分散板的 裝置。
背景技術(shù)：
如圖1戶標(biāo)，現(xiàn)有的真空鵬設(shè)備1，是供至少一待電鍍物品100置入，該鍍 膜設(shè)備1具有一界定出~ 室10的中空狀殼體11、一設(shè)置于該鵬室10內(nèi)的電 極鵬12、多數(shù)相間隔體于該電極te 12上的電極板13 (圖中只顯示其一)、一 gi^^室10且位于該殼體11的頂面的輸氣管14、 一設(shè)置于該 室10中且 具有二圓形排氣孔151的排氣板15、 H^l該鍍膜室10且位于該殼體11的底面的 泵16，及多數(shù)分別設(shè)置于該殼體11兩側(cè)及上下方的加^#(圖未示)，該待電鍍物品 100是設(shè)置位于二電極板13間，而繊氣管14用以將鵬氣^I^至該鍍膜室10 中，并利用戶;M卩別牛對該,室10力口溫至適于M盼，，以使位于電極板13 間的^Jt氣體解離并附著至該待電鍍物品100上，而該泵16則是將該鵬室10內(nèi) 的BM離過后的itn經(jīng)該排氣板15的所述排氣孔151，而抽出該,室10之外， 維持該,室10中所設(shè)定的真空度，以對該待電鍍物品100進(jìn)行真空鍍膜作業(yè)。
然而，現(xiàn)有的鵬設(shè)備l，借由該泵16抽取位于該鵬室10中的鵬氣體， 以保^^鵬室10中的真空度，因鵬氣彬頁通過該排氣板15的^fn孔151，才 會被該泵16抽出該鵬室10外，導(dǎo)致鵬氣體于該鵬室10中產(chǎn)生如圖1中假想 線所示的二勢流200，使得該鵬室10中的^^氣體，沿戶腐勢流200朝戶;f^排氣 孔151的方向流動，艦該鵬室10中的^M氣體分布不均的現(xiàn)象，使得鵬氣體 不易流入該待電鍍物品100鄰近該電極板座12,且遠(yuǎn)離戶;f^排氣孔151的部分區(qū)域， it^^^氣體的，不均，進(jìn)而使得該待電鍍物品100的,效果不一，M該待 電鍍物品IOO鵬良率不膽品質(zhì)不易控管的情況發(fā)生，甚至必須對已 完成的 產(chǎn)品做出如裁剪、修整...等二 効卩工的辦，如此勢必影響到整體的作業(yè)效率及產(chǎn) 能。
如i^ 述，在^ffi現(xiàn)有的皿設(shè)備1進(jìn)t ^作業(yè)時(shí)，由于該泵16抽取位于該 ^ 10中的^^氣體時(shí)所產(chǎn)生的戶，勢流200， it^,室10中的鍍膜氣體分
布不均，因此導(dǎo)致鵬良軒佳、整體鵬效率低落的缺點(diǎn)，如何提高纖良率、 改 體,效率，亟待業(yè)界對此iffi駐一步的研發(fā)改良。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的，在于皿一種可以讓鍍膜氣體的分布更為均勻，使,效 果更為一致的具有分散氣體的分散板的鍍膜裝置。
為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型具有分散氣體的分散板的^M裝置，包括一具有 "^i室的中空狀殼體、 一具有多數(shù)間隔設(shè)置于該 室中的電極板的電極單元、
—用以將^M氣Wii^該殼體的鵬室中的輸氣管、一具有一與該鵬室相魏 的泵的抽氣單元，以及"^i^，電極板的底面且具有多數(shù)相間隔的分流孔的分散 板，m分流孔涵蓋該電極板的底面的大部分面積。
本實(shí)用新型的功效在于借由該鄰^M電極板的底面的分散板，配合涵M^M
電極板的底面的大部分面積的戶;M分流孔，使抽氣單元的泵 取該,室中的鍍
膜氣體時(shí)所形成的勢流較為和緩，1MI氣體可均勻分布于該鵬室中，以提高鍍 膜良率、改#^#^效率。


圖l是一剖面圖，說明現(xiàn)有，設(shè)備。
圖2是一立體圖，說明本實(shí)用新型具有分散氣體的分t^的lt^裝置的較佳實(shí) 施例。
圖3是一部份立體圖，說明該較佳實(shí)施例的分散板與排氣板的態(tài)樣。 圖4是一剖面圖，說明該較佳實(shí)施例T^時(shí)的情形。
具體實(shí)M式
下面 ^佳實(shí)施例及附圖對本實(shí)用新型具有分散氣體的分,的 裝置進(jìn) 行詳細(xì)說明。
參閱圖2、 3及圖4所示，本實(shí)用新型具有分散氣體的分散板25的OT裝置2 的較佳實(shí)施例，包括一具有"^E室211的中空狀殼體21 、 一用以加熱該 室211 的加熱單元(圖未示)、一設(shè)置于該殼體21中的電極單元22、一用以將,氣,i^S該殼體21的,室211中的輸氣管23、 一用以將，氣##出該殼體21的鍍 膜室211的抽氣單元24，以及~^頓述電極板222的底面且具有多數(shù)相間隔的分 流孔251的分臓25。
該電極單元22具有一可于該 室211中滑動的電極座221，及多數(shù)間隔設(shè)置 于該電極座221上的電極板222，該抽氣單元24具有""iiil該鍍膜室211的泵241 ， 一位于該電鵬221的底面與該殼體21間的婦汽板242,該排氣板242具有二相間 隔的圓形祠汽孔243，而該分艦25則是位于該掃愾板242與該電豐鵬221之間， 且該分散板25上的戶;M分流孔25I概呈矩形，且戶M分流孔251涵蓋該電極板222 的底面的大部分面積。
于賴佳實(shí)施例中，^f^分流孔251是概呈矩形，但是也可以是其它形狀，依 舊可以]^S同的功效，不應(yīng)以本實(shí)施例為限。
當(dāng)進(jìn)1f^作業(yè)時(shí)，將多數(shù)的#^物20 (圖4只顯示一個(gè)#^物20)置入該殼 體21的,室211內(nèi)，且4^一待鍍物20是插設(shè)于相鄰的兩電極板222之間，而 ^M氣體則自該,管23流進(jìn)該M室211中，并啟動該加熱單元以加熱該,室 211魏TltJi的驗(yàn)，以使位于每兩相鄰電極板222間的鵬氣體解離，并附著 至分別插設(shè)于相鄰的兩電極板222之間的戶腐待鍍物20上，以進(jìn)行對所述待鍍物 20進(jìn)fi^作業(yè)。
同時(shí)，啟動娜氣單元24的泵241，將已解離過后的Jtntt出該鵬室211， 以維持該鵬室211中的真頓，此時(shí)，充填于該^M^211中的鵬氣體因棘 241的吸力，而會自該，室211中朝該分散板25的方向流動，當(dāng),氣^^荒經(jīng)該 分繊25上的fM分流孔251 ，與該抽氣單元24的排氣板242上的排氣孔243時(shí)， 由于該分,25上的m分流孔251涵蓋該電極板222的底面的大部分面積，使鍍 膜氣體倉胸勻分布并、m^于該^NS物20的周緣,由于^^氣體能均勻分布于所述待 鍍物20的表面，使得lg^氣體會胸勻解離地附著至所述待鍍物20上，如此可以有
效提高鵬良率、改# 1^鵬效率。
歸納上述，本實(shí)用新型的具有分散氣體的分散板25的,裝置2，利用該分散 板25上涵蓋該電極板222的底面的大部分面積的戶腐分流孔251 ，使 氣體能均 勻分布并流經(jīng)于戶/^#^物20的周緣，由TIIM氣體育胸勻分布于所述待鍍物20 的表面，使得^M氣體能,離后能均勻附著，述，物20上，如此可以有效提 高鍍膜良率、改,體,效率。所以確實(shí)能達(dá)到本實(shí)用新型的目的。
權(quán)利要求1.一種具有分散氣體的分散板的鍍膜裝置，該鍍膜裝置包括一個(gè)具有一鍍膜室的中空狀殼體，一設(shè)置于該鍍膜室中的電極單元，一條用以將鍍膜氣體輸送進(jìn)該殼體的鍍膜室中的輸氣管，一個(gè)具有一與該鍍膜室相連通的泵的抽氣單元，該電極單元具有多數(shù)片間隔設(shè)置于該鍍膜室中的電極板，其特征在于該鍍膜裝置還包括一片鄰近所述電極板的底面的分散板，該分散板上形成多數(shù)相間隔的分流孔，所述分流孔涵蓋大部分所述電極板的底面的面積。
2. 如權(quán)利要求1所述具有分散氣體的分散板的 奪置，其特征在于該抽氣單元更具有一設(shè)置于該 室內(nèi)，且位于該分散板下方的掃愾板，該排 氣板上形成有多數(shù)排氣孔。
3. 如權(quán)利要求1臓具有分散氣體的分散板的娜裝置，其特征在于 該分散板的戶腿分流孔概魏形。
專利摘要本實(shí)用新型是一種具有分散氣體的分散板的鍍膜裝置，該鍍膜裝置包括一具有一鍍膜室的中空狀殼體、一具有多數(shù)間隔設(shè)置于該鍍膜室中的電極板的電極單元、一用以將鍍膜氣體輸送進(jìn)該殼體的鍍膜室中的輸氣管、一具有一與該鍍膜室相連通的泵的抽氣單元，以及一鄰近所述電極板的底面且具有多數(shù)相間隔的分流孔的分散板，所述分流孔涵蓋該電極板的底面的大部分面積，借由所述分流孔，讓鍍膜氣體可均勻分布于該鍍膜室中，以提高鍍膜良率、改善整體鍍膜效率。
文檔編號C23C16/44GK201148466SQ20072031021
公開日2008年11月12日 申請日期2007年12月4日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月4日
發(fā)明者郭銘書 申請人:郭銘書;曾盛烘