專利名稱：磁瓦下凸模的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種磁瓦下凸模，屬于磁瓦成型模具的技術(shù)領(lǐng)域。 技術(shù)背景目前，磁瓦模具由上模(吸水板)、凹模、下凸模以及相應(yīng)配件組成，下凸 模工作面為弧面夾角內(nèi)，在強(qiáng)導(dǎo)磁基體上鑲嵌等厚的弱導(dǎo)磁材料，在該夾角外為對稱軸中心成90。鑲嵌弱導(dǎo)磁材料。永磁鐵氧體異方濕壓磁瓦成型模具下凸 模，包括下凸?；w，在下凸?；w工作面部位鑲嵌有下凸模弱導(dǎo)磁體，下凸 模弱導(dǎo)磁體工作面為弧面，所述下凸模弱導(dǎo)磁體的工作面厚度范圍為2-6毫米。 上述技術(shù)方案中下凸模弱導(dǎo)磁體(相當(dāng)于本實(shí)用新型的耐磨不導(dǎo)磁層)與下凸 ?；w之間采用氬弧焊連接，由于氬弧焊的溫度較高，從而導(dǎo)致了焊接時(shí)下凸 模弱導(dǎo)磁體各處的溫差較大，某些部位甚至出現(xiàn)了熔融，致使下凸模弱導(dǎo)磁體 各處厚度不均勻，從而影響了磁場的分布，導(dǎo)致磁瓦產(chǎn)品成品率較低。發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型目的在于提供一種耐磨不導(dǎo)磁層各處厚度均勻，磁場分布均勻， 大大提高了磁瓦產(chǎn)品的成品率的磁瓦下凸模，解決了現(xiàn)有技術(shù)存在的下凸模弱 導(dǎo)磁體各處厚度不均勻，從而影響了磁場的分布，導(dǎo)致磁瓦產(chǎn)品成品率較低等 問題。本實(shí)用新型的上述技術(shù)目的主要是通過以下技術(shù)方案解決的包括下凸模 基體及下凸?；w上端的耐磨不導(dǎo)磁層，所述下凸?；w與耐磨不導(dǎo)磁層之間 采用氣焊連接固定，兩者的連接面光滑。本實(shí)用新型的下凸?；w與耐磨不導(dǎo) 磁層之間采用氣焊，由于氣焊的溫度要遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于氬弧焊的溫度，不會(huì)使耐磨不3導(dǎo)磁層及下凸模基體出現(xiàn)局部的熔融狀態(tài)，能保證耐磨不導(dǎo)磁層各處的厚度均 勻，從而使磁場分布均勻，大大提高了磁瓦產(chǎn)品的成品率。作為優(yōu)選，所述耐磨不導(dǎo)磁層的厚度為2.5-3.5mm。因此，本實(shí)用新型具有耐磨不導(dǎo)磁層各處厚度均勻，磁場分布均勻，大大 提高了磁瓦產(chǎn)品的成品率等特點(diǎn)。


圖1是本實(shí)用新型的一種剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面通過實(shí)施例，并結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步具體的 說明。實(shí)施例1:如圖1所示，它包括下凸?；w1及下凸?；w1上端的耐磨 不導(dǎo)磁層2，下凸?；w1與耐磨不導(dǎo)磁層2之間采用氣焊連接固定，兩者的 連接面光滑，耐磨不導(dǎo)磁層2的厚度L為3mm。
權(quán)利要求1、一種磁瓦下凸模，包括下凸?；w及下凸?；w上端的耐磨不導(dǎo)磁層，其特征在于所述下凸?；w與耐磨不導(dǎo)磁層之間采用氣焊連接固定，兩者的連接面光滑。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的磁瓦下凸模，其特征在于所述耐磨不導(dǎo)磁層的厚 度為2.5-3.5mm。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種磁瓦下凸模，屬于磁瓦成型模具的技術(shù)領(lǐng)域。它包括下凸?；w及下凸?；w上端的耐磨不導(dǎo)磁層，所述下凸模基體與耐磨不導(dǎo)磁層之間采用氣焊連接固定，兩者的連接面光滑。它耐磨不導(dǎo)磁層各處厚度均勻，磁場分布均勻，大大提高了磁瓦產(chǎn)品的成品率，解決了現(xiàn)有技術(shù)存在的下凸模弱導(dǎo)磁體各處厚度不均勻，從而影響了磁場的分布，導(dǎo)致磁瓦產(chǎn)品成品率較低等問題。
文檔編號B22F3/03GK201136056SQ20072031208
公開日2008年10月22日 申請日期2007年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月27日
發(fā)明者張宏偉, 張漢華, 陳輝明 申請人:橫店集團(tuán)東磁股份有限公司