專利名稱：一種氯化銅噴淋蝕刻凹印版輥的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種氯化銅噴淋蝕刻凹印版輥的方法，適用于激光刻膜CT版印 刷版輥制作的生產(chǎn)技術(shù)。
眾狡不
目前，激光刻胰EJ印版輥蝕刻制作時，采用三氯化鐵進(jìn)行蝕刻，是通過三
氯化鐵與銅的氧化-還原反應(yīng)實(shí)現(xiàn)的。但是它存在缺陷沉淀物多，廢液處理困 難，對環(huán)境污染嚴(yán)重；容易出現(xiàn)腐蝕不勻的現(xiàn)象；蝕刻液再生難度大。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決激光刻膜凹印版輥三氯化鐵蝕刻存在的對環(huán)境污染嚴(yán)重，蝕刻效 果不佳，難于再生的問題，本發(fā)明提供了一種氯化銅噴淋蝕刻凹印版輥的方法, 該方法不僅蝕刻效果好，蝕刻液再生方便，而且對環(huán)境的污染也較小。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所釆用的技術(shù)方案是氯化銅蝕刻液的主要物質(zhì)是 氯化銅、鹽酸、雙氧水、水，在特制的蝕刻機(jī)中，蝕刻液中含氯化銅二水合物
為150-200克/升，含鹽酸為25-50毫升/升。在一定溫度和壓力下，通過循環(huán) 系統(tǒng)用多個噴嘴均勻噴淋氯化銅蝕刻液到激光刻膜后版輥上，發(fā)生蝕刻反應(yīng)， 一價(jià)銅又與氯離子發(fā)生絡(luò)合反應(yīng)，這樣就可實(shí)現(xiàn)了凹印版輥圖案部分的蝕刻， 而非圖案部分被抗蝕性專用黑膠保護(hù)著。到一定的程度自動添加雙氧水和鹽酸，
比例為1: 2-1: 3，一價(jià)銅與鹽酸、雙氧水會發(fā)生再生反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)氯化銅的再生。
經(jīng)過一定的蝕刻時間，最后得到激光刻膜凹印版輥。
本發(fā)明的有益效果是，為制作激光刻膜凹印版輥提供了更加好的方法，進(jìn)
一步提升了激光刻膜M印版輥的質(zhì)量，更好地服務(wù)于高端印刷企業(yè)，同時又減 少了對環(huán)境的污染。
附反應(yīng)分子式說明
該圖是一種氯化銅噴淋蝕刻凹印版輥的方法化學(xué)反應(yīng)分子式。
(1) 式是氯化銅蝕刻反應(yīng)分子式，氯化銅中的CuJ具有氧化性，發(fā)生蝕刻 反應(yīng)，能將激光刻膜后的凹印版輥上的銅氧化成(^1+ 。
(2) 式是氯化亞銅絡(luò)合反應(yīng)分子式，蝕刻反應(yīng)形成的Cll2Cl2不易溶于水，
在有過量Cl-存在下，發(fā)生絡(luò)合反應(yīng)，能形成可溶性的絡(luò)離子。
(3) 式是氯化銅再生反應(yīng)分子式，蝕刻到一定的程度時，溶液中的Cul+
3越來越多，蝕刻能力很快就會下降，以至最后失去效能。為了保持蝕刻能力，
可以通過添加鹽酸和雙氧水對蝕刻液進(jìn)行再生，使CulL軍新轉(zhuǎn)變成Cu2+，繼續(xù) 進(jìn)行正常蝕刻。
具體實(shí)施例方式
將激光刻膜后的版輥裝入氯化銅蝕刻機(jī)頂尖上，蝕刻液中含氯化銅二水合 物為150-200克/升，含鹽酸為25-50毫升/升，溫度控制25-35X:，蝕刻液在 適中的液壓下，首先通過循環(huán)系統(tǒng)對版輥均勻沖水清洗，徹底清洗干凈后，開 始蝕刻版輥，讓版輥勻速轉(zhuǎn)動，然后多個噴嘴均勻噴淋氯化銅蝕刻液到版面上， 氯化銅與銅發(fā)生蝕刻反應(yīng)(1),形成氯化亞銅，它不溶水，氯化亞銅又與蝕刻 液中的過量鹽酸發(fā)生絡(luò)合反應(yīng)(2),形成町溶性的絡(luò)離子。通過重復(fù)不斷的化 學(xué)反應(yīng)，使激光刻膜版輥在燒蝕黑膠圖案的地方蝕刻下去，形成凹印圖文，沒 有圖文的地方有專用黑膠保護(hù)著，在此蝕刻的過程中，通過設(shè)備自動添加雙氧 水和鹽酸，比例為l: 2-3U 3,實(shí)現(xiàn)了氯化銅的再生反應(yīng)(3)，最后停止噴淋蝕 刻，蝕刻液循環(huán)回到蝕刻槽，沖水清洗版面，根據(jù)蝕刻時間得到要求深度的激 光刻膜凹印版輥。
(1) Cu+CuCl2 歸12
(2) 歸U+4CL- — 2[CuCl3]2-
(3) Cu2Cl2+2HCl+H202 4 2CuCl2+2H20
權(quán)利要求
1、一種氯化銅噴淋蝕刻凹印版輥的方法，其特征是氯化銅蝕刻液的主要物質(zhì)是氯化銅、鹽酸、雙氧水、水，在特制的蝕刻機(jī)中，蝕刻液中含氯化銅二水合物為150-200克/升，含鹽酸為25-50毫升/升。在一定溫度和壓力下，通過循環(huán)系統(tǒng)用多個噴嘴均勻噴淋氯化銅蝕刻液到激光刻膜后版輥上，發(fā)生蝕刻反應(yīng)，一價(jià)銅又與氯離子發(fā)生絡(luò)合反應(yīng)，這樣就可以實(shí)現(xiàn)凹印版輥圖案部分的蝕刻，而非圖案部分被抗蝕性專用黑膠保護(hù)著，到一定的程度自動添加雙氧水和鹽酸，比例為1∶2-1∶3，一價(jià)銅與鹽酸、雙氧水會發(fā)生再生反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)氯化銅的再生，經(jīng)過一定的蝕刻時間，最后得到激光刻膜凹印版輥。
全文摘要
一種氯化銅噴淋蝕刻凹印版輥的方法。在特制的蝕刻機(jī)中，氯化銅蝕刻液中含氯化銅二水合物為150-200克/升，含鹽酸為25-50毫升/升。在一定溫度和壓力下，通過循環(huán)系統(tǒng)用多個噴嘴均勻噴淋氯化銅蝕刻液到激光刻膜后版輥上，發(fā)生蝕刻反應(yīng)，一價(jià)銅又與氯離子發(fā)生絡(luò)合反應(yīng)，這樣就可實(shí)現(xiàn)了凹印版輥圖案部分的蝕刻，而非圖案部分被抗蝕性專用黑膠保護(hù)著。到一定的程度自動添加雙氧水和鹽酸，比例為1∶2-1∶3，一價(jià)銅與鹽酸、雙氧水會發(fā)生再生反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)氯化銅的再生，經(jīng)過一定的蝕刻時間，最后得到激光刻膜凹印版輥。Cu+CuCl₂→Cu₂Cl₂
文檔編號C23F1/02GK101476125SQ200810143570
公開日2009年7月8日 申請日期2008年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月12日
發(fā)明者王曉斌, 諶倫祥, 東 黃 申請人:長沙精達(dá)印刷制版有限公司