專利名稱：鍍膜設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種真空鍍膜設備，尤其涉及一種加熱穩(wěn)定的鍍膜設備。
技術背景隨著光學產品的發(fā)展，光學元件的應用范圍越來越廣。相應地，業(yè)界采用各種方法來制 造光學元件以適應市場對不同規(guī)格光學元件的需求(請參閱"Fabrication of Diffractive Optical Lens for Beam splitting Using LIGA Process" ， Mechatronics and Automation, Proceedings of the 2006 IEEE International Conference on, 卯.1242-1247， 2006.06)。通常來說，制造出的光學元件需經(jīng)過后續(xù)處理以獲得適于應用 的良好性能。鍍膜工序為后續(xù)處理中的重要步驟之一。鍍膜是指以物理或化學方法在光學元件表面鍍 上單層或多層薄膜，利用入射、反射及透射光線在薄膜界面產生的干涉作用實現(xiàn)聚焦、準直 、濾光、反射及折射等效果。現(xiàn)在普遍采用真空濺射鍍膜的方式在工件上產生薄膜，濺射鍍膜過程中，惰性氣體(通 常為氬氣)在高壓下輝光放電，產生氬離子，氬離子轟擊靶材表面，使靶材表面的原子獲得 能量并逸出表面，沉積在工件上形成薄膜。在濺射鍍膜中，有時采用紅外線燈管等紅外線加熱方式對工件進行加熱，使得工件的溫 度發(fā)生變化從而使靶材原子容易沉積在表面。但是，由于氬離子、靶材原子等帶電粒子會落 在紅外線燈管上，對紅外線燈管造成干擾，使得加熱不穩(wěn)定。發(fā)明內容有鑒于此，有必要提供一種加熱穩(wěn)定的鍍膜設備。一種用于對工件進行鍍膜的鍍膜設備，，其包括具有開口的第一腔體、設置在所述開口 處的擋板和紅外線加熱單元，所述紅外線加熱單元設置在所述第一腔體中，所述紅外線加熱 單元發(fā)出紅外線對所述工件加熱，所述擋板將所述紅外線加熱單元密封在所述第一腔體中， 所述紅外線通過所述擋板后對所述工件進行加熱。進一步地，，第一腔體的內壁上設置有反射單元。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明實施例的鍍膜設備的紅外線通過擋板后對工件進行加熱，從而 使得紅外線加熱單元不會受到其他物質的干擾，進而使得加熱穩(wěn)定。3另外，反射單元反射入射至第一腔體上的紅外線，紅外線被反射后穿過擋板，使得較多 的紅外線通過擋板對工件進行加熱，從而使得加熱效率較高。


圖l是本發(fā)明實施例提供的鍍膜設備的示意圖。
具體實施例方式
下面將結合附圖對本發(fā)明作進一步詳細說明。
如圖12所示，其為本發(fā)明實施例提供的一種鍍膜設備IO。該鍍膜設備10包括腔體11、紅 外線加熱單元12、供氣單元13、真空單元14、陰極15和陽極16。
腔體l 1由金屬制成，其包括接地的第一腔體l 1 l和接地的第二腔體l 12。 紅外線加熱單元12設置在第一腔體111內并與第一腔體l 11電絕緣，其可以為紅外線加熱 燈管、紅外線加熱板等。在本實施例中，第一腔體lll為具有開口的拱形，其內壁設置有反 射單元122、開口處設置有一擋板121。反射單元122可以為通過濺鍍方法設置在第一腔體 lll內的薄膜，薄膜的材料主要為氧化鈦和氧化硅。擋板121的材料為鋁酸鹽玻璃或者類金剛 石碳(Diamond Like-Carbon, DLC)。其中，鋁酸鹽玻璃具有良好的熱學、光學性質，紅外 線的透過率較好，其包括鈣鋁酸鹽玻璃、鍶鋁酸鹽玻璃、鋇鋁酸鹽玻璃、鎂鋁酸鹽玻璃或鈹 鋁酸鹽玻璃。
第二腔體112的一端具有開口，第一腔體111的開口與第二腔體112的開口相對形成腔體 11。第二腔體112的開口端設置有旋轉單元124和陽極16 (—般接地)，陽極16用來固定被鍍 膜的工件20，旋轉單元124可以帶動陽極16旋轉以使工件20旋轉。
紅外線加熱單元12發(fā)出的紅外線部分直接穿過擋板121照射至工件20上，工件20吸收紅 外線從而使得溫度升高；其它部分的紅外線被反射單元122反射后穿過擋板121。
陰極15位于第二腔體112的與工件20相對的一端，鍍膜材料的靶30設置在陰極15上。
供氣單元13和真空單元14均位于第二腔體112上，供氣單元13用來向第二腔體112內輸送 惰性氣體，例如氬氣(Ar)，真空單元14的功能是用來實現(xiàn)第二腔體112內的真空環(huán)境。
工件20需要被鍍膜時，將工件20固定在陽極16上，真空單元14對第二腔體112抽取真空 以達到鍍膜所需的真空度，通過供氣單元13輸入氬氣，在陰極15和陽極16之間加幾千伏電壓 ，兩極間即產生氬氣輝光放電。氬氣放電產生的氬離子在電場作用下飛向陰極15，與靶30表 面原子碰撞，耙原子受碰撞從耙30的表面在工件20表面沉積成膜。
本實施例的鍍膜設備10具有多個優(yōu)點，首先，由于擋板121的存在，耙原子和氬離子不 會落入第一腔體lll內，從而使得紅外線加熱單元12不會受到靶原子和氬離子干擾，使得加熱穩(wěn)定。其次，由于第一腔體111內設置有反射單元122，其可以將紅外線反射再次穿過擋板 121，從而使得加熱效率較高。再則，工件20可以在旋轉單元124的帶動下旋轉，使得工件 20各處的溫度均勻。
另外，本領域技術人員還可以在本發(fā)明精神內做其它變化，當然，這些依據(jù)本發(fā)明精神 所做的變化，都應包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內。
權利要求
1.一種鍍膜設備，用于對工件進行鍍膜，所述鍍膜設備包括具有開口的第一腔體和紅外線加熱單元，所述紅外線加熱單元設置在所述第一腔體中，所述紅外線加熱單元發(fā)出紅外線對所述工件加熱，其特征在于進一步包括一個設置在所述開口處的擋板，所述擋板將所述紅外線加熱單元密封在所述第一腔體中，所述紅外線通過所述擋板后對所述工件進行加熱。
2.如權利要求l所述的鍍膜設備，其特征在于所述擋板的材料為 鋁酸鹽玻璃。
3.如權利要求2所述的鍍膜設備，其特征在于所述鋁酸鹽玻璃包 括鈣鋁酸鹽玻璃、鍶鋁酸鹽玻璃、鋇鋁酸鹽玻璃、鎂鋁酸鹽玻璃或鈹鋁酸鹽玻璃。
4.如權利要求l所述的鍍膜設備，其特征在于所述擋板的材料為 類金剛石碳。
5.如權利要求2至4任一項所述的鍍膜設備，其特征在于所述第一 腔體的內壁上設置有反射單元，所述紅外線加熱單元發(fā)出的紅外線被所述反射單元反射后通 過所述擋板。
6.如權利要求5所述的鍍膜設備，其特征在于進一步包括一個第 二腔體，所述紅外線通過所述擋板入射至所述第二腔體。
7.如權利要求6所述的鍍膜設備，其特征在于所述第二腔體設置 有抽真空單元和供氣單元。
8.如權利要求6所述的鍍膜設備，其特征在于所述第二腔體靠近 所述第一腔體開口的一端設置有旋轉單元，所述旋轉單元用來旋轉所述工件。
9.如權利要求5所述的鍍膜設備，其特征在于所述第一腔體內設 置有反射鏡片組。
全文摘要
本發(fā)明涉及真空濺射鍍膜設備，一種用于對工件進行鍍膜的鍍膜設備，其包括具有開口的第一腔體、設置在所述開口處的擋板和紅外線加熱單元，所述紅外線加熱單元設置在所述第一腔體中，所述紅外線加熱單元發(fā)出紅外線對所述工件加熱，所述擋板將所述紅外線加熱單元密封在所述第一腔體中，所述紅外線通過所述擋板后對所述工件進行加熱。紅外線通過紅外線穿透視窗后對工件進行加熱，使得紅外線加熱單元不會受到其他物質的干擾、加熱穩(wěn)定。
文檔編號C23C14/22GK101672934SQ20081030447
公開日2010年3月17日 申請日期2008年9月11日 優(yōu)先權日2008年9月11日
發(fā)明者洪新欽 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司