專(zhuān)利名稱(chēng)：：磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，特別是涉及對(duì)玻璃圓板的主表面進(jìn)行研磨的方法。
背景技術(shù)：
：近年來(lái)對(duì)于硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器等信息處理設(shè)備中所搭載的磁盤(pán)的高記錄密度化的需要不斷增加，在這樣的情況下，開(kāi)始廣泛使用玻璃基板來(lái)代替以往的鋁基板。磁盤(pán)用玻璃基板例如通過(guò)在圓形玻璃板的中央開(kāi)圓孔，并依次進(jìn)行倒角、主表面拋光、端面鏡面研磨，研磨圓形玻璃板的主表面來(lái)制造。為了提高磁盤(pán)的記錄容量，需要擴(kuò)大記錄面積，希望磁盤(pán)用玻璃基板的主表面的平坦部分進(jìn)一步向外周側(cè)擴(kuò)展。圖l是模式化表示研磨主表面后的磁盤(pán)用玻璃基板的端面附近的剖視圖，圖中的a為倒角面(倒角而得的面)，b為外周端面，c為主表面外周部，d為倒角面a和主表面外周部c的邊界，從主表面外周部c至倒角面a連續(xù)地產(chǎn)生塌邊(端面塌垂)，使記錄面積減少。此外，圖l中以虛線表示的直線為用于確定塌邊的大小的基準(zhǔn)線g。該基準(zhǔn)線g定義為與主表面外周部c中自邊界d向主表面中心2.5ram5mm的部分f重合或最近似該部分f的直線。主表面外周部c中自邊界d向主表面中心0.25mm5mm的部分為塌邊測(cè)定區(qū)域e。并且，塌邊的大小為塌邊測(cè)定區(qū)域e中的主表面外周部c的自基準(zhǔn)線g的最大高度和最小高度的差。如上所述，為了提高記錄容量，必須減少塌邊，目前為止除了改善研磨裝置之外，還進(jìn)行研磨液的改善。例如，已知包含水、二氧化硅粉末等磨粒、由聚氧乙烯-聚氧丙烯烷基醚或聚氧乙烯-聚氧丙烯共聚物形成的表面活性劑、無(wú)機(jī)酸或有機(jī)酸的研磨液(參照專(zhuān)利文獻(xiàn)l)，包含水、二氧化硅粉末、酸、由磺酸或其鹽形成的表面活性劑的pH為04的研磨液(參照專(zhuān)利文獻(xiàn)2)等。專(zhuān)利文獻(xiàn)l:日本專(zhuān)利特開(kāi)2002-167575號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2:日本專(zhuān)利特開(kāi)2007-63372號(hào)公報(bào)發(fā)明的揭示如果使用酸性的研磨液，則玻璃表面軟化，可通過(guò)磨粒進(jìn)行高效地研磨，研磨速率提高。此外，還具有缺陷少的優(yōu)點(diǎn)。但是，專(zhuān)利文獻(xiàn)l中記載的研磨液中所添加的表面活性劑在酸性區(qū)域使二氧化硅的分散性降低，引起凝集。另一方面，專(zhuān)利文獻(xiàn)2中記載的研磨液由于使用含芳香環(huán)的表面活性劑，因此雖然具有使塌邊減少的效果，但研磨速率低，生產(chǎn)效率方面不佳。于是，本發(fā)明的目的在于，制造磁盤(pán)用玻璃基板時(shí)，圓形玻璃板的主表面的研磨工序中，在不降低研磨速率的情況下，減少塌邊。為了解決上述的課題，本發(fā)明提供包括使用酸性的研磨液對(duì)圓形玻璃板的主表面進(jìn)行研磨的工序的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，所述研磨液包含主鏈上結(jié)合有選自羧基、羧基的鹽、磺酸基和磺酸基的鹽的至少l種的水溶性聚合物以及膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅；包括使用酸性的研磨液對(duì)圓形玻璃板的主表面進(jìn)行研磨的工序的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，所述研磨液中，相對(duì)于100質(zhì)量份膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅，包含0.020.l質(zhì)量份具有磺酸基的表面活性劑。通過(guò)本發(fā)明中使用的研磨液，可以高效地制造塌邊少、即記錄面積大而可實(shí)現(xiàn)高記錄容量的磁盤(pán)用玻璃基板。附圖的簡(jiǎn)單說(shuō)明圖l是表示主表面研磨后的圓形玻璃基板的外周部附近的模式圖。符號(hào)的說(shuō)明a:倒角面，b:外周端面，c:主表面外周部，d:倒角面a和主表面外周部c的邊界，e:塌邊測(cè)定區(qū)域，g:用于確定塌邊的大小的基準(zhǔn)線。實(shí)施發(fā)明的最佳方式以下，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法中，圓形玻璃板在主表面的研磨之前通過(guò)公知的工序進(jìn)行處理。例如，從通過(guò)浮法成形而得的硅酸鹽玻璃切出圓形玻璃板，在其中央開(kāi)圓孔，依次進(jìn)行倒角、主表面拋光、端面鏡面研磨。此外，可以將主表面拋光工序分為粗拋光工序和精拋光工序，在它們之間設(shè)置形狀加工工序(圓形玻璃板中央的開(kāi)孔、倒角、端面研磨)。在主表面拋光工序后可以設(shè)置化學(xué)強(qiáng)化工序。還有，在制造中央不具有圓孔的玻璃基板時(shí)，當(dāng)然不需要圓形玻璃板中央的開(kāi)孔。接著，進(jìn)行主表面的研磨。本發(fā)明中，作為研磨液，使用包含主鏈上結(jié)合有選自羧基、羧基的鹽、磺酸基和磺酸基的鹽的至少l種的水溶性聚合物以及膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅的酸性的第一研磨液，或者相對(duì)于ioo質(zhì)量份膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅包含O.020.l質(zhì)量份具有磺酸基的表面活性劑的酸性的第二研磨液。(第一研磨液)主鏈上結(jié)合有選自羧基、羧基的鹽、磺酸基和磺酸基的鹽的至少l種的水溶性聚合物是指包含至少l種作為單體成分(單體)的具有羧基或磺酸基的單體的聚合單元的均聚物或共聚物。主鏈上結(jié)合有羧基的鹽或磺酸基的鹽的水溶性聚合物是指通過(guò)主鏈上結(jié)合有羧基或磺酸基的水溶性聚合物用堿中和而得，羧基的質(zhì)子(H+)或磺酸基的質(zhì)子(H+)被其它正離子(抗衡離子)取代了的聚合物。作為形成羧基的鹽或磺酸基的鹽的抗衡離子，可以例舉Na離子、K離子等堿金屬離子和銨離子、烷基銨離子等。此外，羧基或磺酸基或者它們的鹽可以結(jié)合于主鏈的末端。作為具有羧基的單體，可以例舉例如丙烯酸、馬來(lái)酸、衣康酸、甲基丙烯酸等。作為具有磺酸基的單體，可以例舉例如2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、異戊二烯磺酸、甲基丙烯?；撬帷⒁蚁┗撬?、苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸等。此外，磺酸基可以介以碳鏈等基團(tuán)A結(jié)合在主鏈上(參照下述"磺酸類(lèi)聚合物"的(6))。水溶性聚合物可以是還包含基于其它單體的聚合單元的共聚物。作為其它單體，可以例舉例如丙烯酸酯、馬來(lái)酸酯、衣康酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺、丙烯腈、苯乙烯、乙炔、丁二烯、異丁烯、丙烯、乙烯醇、氯乙烯、乙烯、烯丙醇、乙酸乙烯酯等。作為水溶性聚合物，可以優(yōu)選例示由如下所示的基于單體的聚合單元形成的羧酸類(lèi)聚合物和磺酸類(lèi)聚合物。羧酸類(lèi)聚合物-<formula>formulaseeoriginaldocumentpage6</formula>水溶性聚合物較好是主鏈為直鏈狀。直鏈狀的聚合物包圍膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅并吸附于它們的表面，具有防止凝集的效果，且以擴(kuò)散于作為被研磨體的玻璃表面的狀態(tài)存在而保護(hù)玻璃表面，發(fā)揮凸起部分被選擇性地研磨的功能，也期待發(fā)揮類(lèi)似潤(rùn)滑劑的作用而降低研磨墊和玻璃、托架的摩擦阻抗的效果。另外，還可以期待滲透到研磨時(shí)所使用的研磨墊(通常為聚氨酯墊)中而發(fā)揮類(lèi)似增塑劑的效果，也可以進(jìn)行研磨液的粘度調(diào)整和觸變性賦予，無(wú)論是哪種效果，都對(duì)塌邊的減少非常有利。除此之外，可以期待抑制損傷產(chǎn)生、提高清洗性能而減少表面附著物(污垢)的效果。與之相對(duì)，主鏈為交聯(lián)狀的聚合物容易在酸性環(huán)境中變得不溶而析出，形成塊狀，這些效果少。從研磨速率的角度來(lái)看，水溶性聚合物更好是在直鏈狀的主鏈中不含苯環(huán)("磺酸類(lèi)聚合物"的(3)、.(4))、萘環(huán)("磺酸類(lèi)聚合物"的(5))、葡萄糖和纖維素等位阻大的結(jié)構(gòu)。此外，分子量越大，基于直鏈狀聚合物的上述效果越顯著的顯現(xiàn)，因此以重均分子量計(jì)較好是在5300以上，更好是在6000以上。還有，對(duì)于重均分子量的上限沒(méi)有限制，但考慮到制造方面，較好是IOOOOOO。水溶性聚合物在研磨液中的含量相對(duì)于100質(zhì)量份膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅較好是O.00110質(zhì)量份，更好是O.015重量份。膠態(tài)二氧化硅可以通過(guò)如下的方法獲得以硅酸鈉等硅酸堿金屬鹽為原料，使其在水溶液中進(jìn)行縮合反應(yīng)而使粒子生長(zhǎng)的水玻璃法；或者，以四乙氧基硅烷等垸氧基硅烷為原料，在含醇等水溶性有機(jī)溶劑的水中使其進(jìn)行縮合反應(yīng)而生長(zhǎng)的的垸氧基硅垸法。氣相二氧化硅可以通過(guò)如下的氣相法獲得以四氯化硅等揮發(fā)性硅化合物為原料，在氫氧燃燒器制造的100(TC以上的高溫下使其水解而生長(zhǎng)。除此之外，還可以使用對(duì)這些二氧化硅用官能團(tuán)進(jìn)行表面修飾或表面改性而得的二氧化硅、用表面活性劑或其它粒子復(fù)合粒子化而得的二氧化硅等。其中，從降低基板表面的表面粗糙度和劃傷的角度來(lái)看，較好是膠態(tài)二氧化硅。這些二氧化硅可以單獨(dú)使用或2種以上混合使用。這些二氧化硅、典型的膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅的一次粒子的平均粒徑較好是l100nm。從減少劃傷和降低基板表面的表面粗糙度(中心線平均粗糙度Ra)的角度來(lái)看，該平均粒徑更好是l80nm，進(jìn)一步更好是360nm，特別好是540nm。此外，研磨液中的膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅的含量典型的為540質(zhì)研磨液通過(guò)添加酸而調(diào)整至酸性。對(duì)于酸度沒(méi)有特別限定，但如果酸度過(guò)高，則聚氨酯墊容易劣化，而如果酸度低，則玻璃表面不易軟化，研磨速率低，因此較好是pH16，更好是pH14。作為使用的酸，可以使用硝酸、鹽酸、硫酸等無(wú)機(jī)酸或有機(jī)酸。還有，研磨液中可以根據(jù)需要添加其它成分。作為其它成分，從清洗性能的角度來(lái)看，較好是在水中不帶電(非離子類(lèi))或帶負(fù)電(陰離子類(lèi))的成分，可以適量添加例如下述成分用于防止干燥的陰離子類(lèi)聚合物或多元醇類(lèi)(乙二醇、甘油、山梨糖醇、甘露糖醇、雙甘油等)、有機(jī)酸(葡糖酸、檸檬酸、蘋(píng)果酸、琥珀酸、酒石酸、乙酸等)，用于被覆保護(hù)玻璃表面而進(jìn)行選擇性研磨的糖類(lèi)(海藻糖、FINETOSE、出芽短梗霉多糖等)或纖維素類(lèi)聚合物(羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、羧甲基纖維素等)、含苯基或萘基的聚合物(聚苯乙烯磺酸、苯酚磺酸甲醛縮合物、萘磺酸甲醛縮合物等)，使研磨液的表面張力下降的陰離子型表面活性劑(垸基磺酸、烷基苯磺酸、烷基萘磺酸、烷基二苯基醚二磺酸、芳基苯酚磺酸甲醛縮合物、二丁基萘磺酸等)等。(第二研磨液)作為具有磺酸基的表面活性劑，可以例示如下所示的表面活性劑。還有，式中的R為碳數(shù)1214的垸基。具有磺酸基的表面活性劑的含量相對(duì)于100質(zhì)量份膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅為0.020.l質(zhì)量份，較好是0.030.l質(zhì)量份。含量不足0.02質(zhì)量份時(shí)，減少塌邊和維持研磨速率的效果不足；如果超過(guò)O.l質(zhì)量份，則研磨速率大幅下降。膠態(tài)二氧化硅和氣相二氧化硅、其它成分以及研磨液的酸度或它們的優(yōu)選形態(tài)、典型形態(tài)與第一研磨液相同。主表面的研磨方法與以往同樣地實(shí)施即可，例如用2塊研磨墊夾住圓形玻璃板，將上述的研磨液供給至研磨墊和圓形玻璃板的界面的同時(shí)使研磨墊旋轉(zhuǎn)來(lái)進(jìn)行研磨。作為研磨墊，典型的是由如下的發(fā)泡聚氨酯樹(shù)脂形成的研磨墊肖氏D硬度為4575、壓縮率為O.110%且密度為0.51.5g/cn^的發(fā)泡聚氨酯樹(shù)脂，肖氏A硬度為3099、壓縮率為0.510%且密度為0.20.9g/cm3的發(fā)泡聚氨酯樹(shù)脂，或者肖氏A硬度為565、壓縮率為O.160X且密度為0.050.4g/cm3的發(fā)泡聚氨酯樹(shù)脂。還有，研磨墊的肖氏A硬度較好是在20以上。不足20時(shí)，研磨速度可能會(huì)下降。還有，肖氏D硬度和肖氏A硬度分別通過(guò)JISK7215所規(guī)定的測(cè)定塑料的硬度計(jì)A硬度和D硬度的方法來(lái)測(cè)定。此外，壓縮率(單位％)如下進(jìn)行測(cè)定。艮P，對(duì)于從研磨墊切出的適當(dāng)大小的測(cè)定試樣，使用肖氏厚度測(cè)定器求得從無(wú)負(fù)荷狀態(tài)加壓30秒至10kPa應(yīng)力的負(fù)荷時(shí)的材料厚度t。，再求得從厚度為t。的狀態(tài)立即加壓5分鐘至110kPa應(yīng)力的負(fù)荷時(shí)的材料厚度t，根據(jù)t。和L的值算出(t。-t,)X100/t。，將該值作為壓縮率。研磨壓力較好是在4kPa以上。不足4kPa時(shí)，研磨時(shí)的玻璃基板的穩(wěn)定性下降而容易晃動(dòng)，因而主表面的起伏可能會(huì)增大。主表面的研磨量較好是O.31.5um，通過(guò)研磨液的供給量和研磨時(shí)間、研磨液中的二氧化硅濃度、研磨壓力、轉(zhuǎn)速等進(jìn)行調(diào)整。還有，上述的主表面研磨前，可以預(yù)先對(duì)主表面進(jìn)行研磨。該預(yù)備的主表面研磨例如可以用研磨墊夾住圓形玻璃板，供給氧化鈰磨粒漿料的同時(shí)使研磨墊旋轉(zhuǎn)來(lái)進(jìn)行。接著，上述主表面研磨后，清洗、干燥，從而得到磁盤(pán)用玻璃基板。清洗和干燥通過(guò)公知的方法進(jìn)行，例如依次進(jìn)行在酸性洗劑溶液中的浸漬、在堿性洗劑溶液中的浸漬、采用玻璃刮(^》夕]Jy(注冊(cè)商標(biāo)))和堿性洗劑的洗滌清洗、在堿性洗劑溶液中的浸漬、采用玻璃刮和堿性洗劑的洗滌清洗、浸漬于堿性洗劑溶液中的狀態(tài)下的超聲波清洗、純水浸漬狀態(tài)下的超聲波清洗、純水浸漬狀態(tài)下的超聲波清洗后，通過(guò)旋干或異丙醇蒸氣干燥等方法進(jìn)行干燥。實(shí)施例以下，例舉實(shí)施例和比較例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步進(jìn)行說(shuō)明，但本發(fā)明不由此而受到任何限定?！丛囼?yàn)1:關(guān)于第一研磨液〉(受試體的制作)將通過(guò)浮法成形而得的硅酸鹽玻璃板加工成可獲得外徑65rom、內(nèi)徑20mm、板厚0.635mm的玻璃基板的面包圈狀圓形玻璃板(在中央具有圓孔的圓形玻璃板)。還有，內(nèi)周面和外周面的磨削加工使用金剛石砂輪進(jìn)行，玻璃板的上下面的拋光使用氧化鋁磨粒進(jìn)行。接著，對(duì)內(nèi)外周的端面以倒角寬度O.15mm、倒角角度45°的條件進(jìn)行倒角加工。內(nèi)外周加工后，使用氧化鈰漿料作為研磨材料，使用刷作為研磨工具，通過(guò)刷研磨進(jìn)行端面的鏡面加工。加工量以半徑方向的除去量計(jì)為30um。然后，使用氧化鈰漿料(氧化鈰平均粒徑約l.l"m)作為研磨材料，使用聚氨酯墊作為研磨工具，通過(guò)兩面研磨裝置進(jìn)行上下主表面的研磨加工。加工量在上下主表面的厚度方向總計(jì)為35um。然后，使用平均粒徑比上述的氧化鈰小的氧化鈰(平均粒徑約0.2um)作為研磨劑，使用聚氨酯墊作為研磨工具，通過(guò)兩面研磨裝置進(jìn)行上下主表面的研磨加工。加工量在上下主表面的厚度方向總計(jì)為1.6ura。此外，使用維易科精密儀器有限公司(Veeco社)帝ijAFM對(duì)這樣制成的圓形玻璃板的主表面進(jìn)行了測(cè)定，表面粗糙度Ra為0.48nm。(研磨液的調(diào)制)研磨液組成示于表l，作為實(shí)施例用，調(diào)制由膠態(tài)二氧化硅漿料(一次粒子的平均粒徑2030nm，二氧化硅粒子濃度48質(zhì)量％)、表中記載的添加劑(磺酸類(lèi)聚合物或羧酸類(lèi)聚合物)、硝酸、純水形成的研磨液。膠態(tài)二氧化硅濃度設(shè)為15質(zhì)量％，磺酸類(lèi)聚合物或羧酸類(lèi)聚合物的添加量以相對(duì)于膠態(tài)二氧化硅添加量的量記載。此外，研磨液的pH設(shè)為2。還有，表中的磺酸類(lèi)共聚物"A-6021"為東亞合成株式會(huì)社(東亜合成社)制，重均分子量100000;磺酸類(lèi)共聚物"A-6020"為東亞合成株式會(huì)社制，重均分子量10000。此外，羧酸類(lèi)共聚物銨鹽"P0IZ2100"為花王株式會(huì)社(花王社)制，重均分子量35000;羧酸類(lèi)共聚物銨鹽"A-30L"為東亞合成株式會(huì)社制，重均分子量6000;羧酸類(lèi)共聚物"A-10SL"為東亞合成株式會(huì)社制，重均分子量6000。此外，作為比較例用，調(diào)制由膠態(tài)二氧化硅漿料(一次粒子的平均粒徑2030nm，二氧化硅粒子濃度48質(zhì)量％)、表中記載的添加劑、硝酸、純水形成的研磨液。膠態(tài)二氧化硅濃度、添加劑量的定義、pH與實(shí)施例用研磨液相同。此外，對(duì)于比較例1和比較例2，設(shè)為未添加添加劑的研磨液，即由膠態(tài)二氧化硅漿料、硝酸、純水形成的研磨液。表中的磺酸類(lèi)共聚物"A-6016A"為東亞合成株式會(huì)社制，重均分子量2000。此外，萘磺酸甲醛縮合物為縮合度23的合成品。對(duì)于各研磨液，使用東機(jī)產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社(束機(jī)産業(yè)社)制TOKIRESOL在25'C測(cè)定了漿料粘度。此外，使用協(xié)和界面科學(xué)株式會(huì)社(協(xié)和界面科學(xué)社)制(CBVP-Z)在室溫下測(cè)定了表面張力。(主表面的研磨)使用上述的研磨液和作為研磨工具的由發(fā)泡聚氨酯樹(shù)脂形成的精加工用研磨墊對(duì)上述的受試體的主表面進(jìn)行研磨。研磨機(jī)使用(7t:。一K77厶社)制9B型兩面研磨機(jī)，以研磨壓力8kPa、托架圓周速度40m/分鐘、研磨液供給速度40ml/分鐘的條件研磨25分鐘(實(shí)施例18，比較例l，比較例314)，或者以研磨壓力12kPa、托架圓周速度40m/分鐘、研磨液供給速度60ra1/分鐘的條件研磨15分鐘(實(shí)施例9，比較例2)。接著，對(duì)研磨后的受試體依次進(jìn)行在酸性洗劑溶液中的浸漬、在堿性洗劑溶液中的浸漬、采用玻璃刮和堿性洗劑的洗滌清洗、在堿性洗劑溶液中的浸漬、采用玻璃刮和堿性洗劑的洗滌清洗、浸漬于堿性洗劑溶液中的狀態(tài)下的超聲波清洗、純水浸漬狀態(tài)下的超聲波清洗、純水浸漬狀態(tài)下的超聲波清洗后，旋干。還有，每次更換研磨液時(shí)，將研磨液在供給純水的同時(shí)進(jìn)行刷清洗3分鐘。并且，進(jìn)行如下所示的特性評(píng)價(jià)。測(cè)定結(jié)果一并記載于表1，對(duì)于實(shí)施例18和比較例314以相對(duì)于比較例1的相對(duì)值表示，對(duì)于實(shí)施例9以相對(duì)于比較例2的相對(duì)值表示。還有，實(shí)施例18、比較例314中，測(cè)定前預(yù)先用比較例l的研磨液測(cè)定而求出基準(zhǔn)值，對(duì)于實(shí)施例9，測(cè)定前預(yù)先用比較例2的研磨液測(cè)定特性值而求出基準(zhǔn)值，將各自的測(cè)定值與預(yù)先求得的基準(zhǔn)值進(jìn)行比較。(特性評(píng)價(jià))(1)研磨速率研磨速率通過(guò)研磨前后的重量變化和研磨面積30.02[cm2]、研磨基板比重2.77[g/cm3]求得。比較例l的研磨速率為O.0200.030[um/分鐘]，比較例2的研磨速率為0.0350.045[um/分鐘]。結(jié)果示于表l，如果數(shù)值比l大，則表示研磨速率比比較例1或比較例2高；如果比1小，則表示研磨速率比比較例1或比較例2低。該相對(duì)研磨速率在實(shí)際使用方面以0.7以上為合格。(2)塌邊使用翟柯公司(Zygo社)制NV5000測(cè)定塌邊值。測(cè)定如下進(jìn)行研磨前后，在同一位置進(jìn)行基板端面測(cè)定(塌邊測(cè)定)，測(cè)定研磨前后的塌邊變化量(端面的塌垂情況)。結(jié)果示于表l，數(shù)值越小，則端面塌垂越小，就越好。該相對(duì)塌邊值以不足O.9為合格。(3)表面粗糙度使用維易科精密儀器有限公司制AFM測(cè)定了表面粗糙度Ra。結(jié)果示于表1，如果數(shù)值超過(guò)l，則表示表面粗糙度比比較例1或比較例2差；如果小于l，則表示表面粗糙度比比較例1或比較例2好。數(shù)值越小，則表面粗糙度越小，就越好。(4)分散性回收研磨前的研磨液和研磨后的研磨液，使用日機(jī)裝株式會(huì)社(日揮裝社)制粒度分布測(cè)定機(jī)(MICROTRAC)測(cè)定了D50值和分布寬度sd值。比比較例l或比較例2的D50值和分布寬度sd值的測(cè)定值低的情況記作"◎"，同等的情況記作"〇"，比它們高的情況記作"X"。如果研磨后回收漿料的D50值和分布寬度sd值越低，則研磨中越不會(huì)發(fā)生漿料的凝集，添加劑的漿料凝集抑制效果(漿料的穩(wěn)定化效果)越高。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>表1(續(xù))<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>如表1所示，通過(guò)使用按照本發(fā)明添加有羧酸類(lèi)聚合物或磺酸類(lèi)聚合物的酸性的研磨液，不僅抑制了研磨速率的下降，而且可以減少塌邊。此外，表面性狀良好，膠態(tài)二氧化硅的分散性良好。〈試驗(yàn)2:關(guān)于第二研磨液〉(研磨液的調(diào)制)如表2所示，調(diào)制由膠態(tài)二氧化硅漿料(一次粒子的平均粒徑2030nra，二氧化硅粒子濃度48質(zhì)量％)、表中記載的添加劑(磺酸類(lèi)表面活性劑)、硝酸、純水形成的研磨液。膠態(tài)二氧化硅濃度設(shè)為15質(zhì)量％，磺酸類(lèi)表面活性劑的添加量以相對(duì)于膠態(tài)二氧化硅添加量的量記載。此外，研磨液的pH設(shè)為2。還有，表中的垸基磺酸"LATEMULPS"為花王株式會(huì)社制，烷基苯磺酸"LH200"為獅王株式會(huì)社(，,才V社)制，烷基苯磺酸"LS250"為獅王株式會(huì)社制，烷基苯磺酸"LH900"為獅王株式會(huì)社制。(主表面的研磨和特性評(píng)價(jià))與試驗(yàn)l同樣地對(duì)主表面進(jìn)行研磨，進(jìn)行同樣的特性評(píng)價(jià)。結(jié)果一并示于表2，以相對(duì)于比較例l的相對(duì)值表示。<table>tableseeoriginaldocumentpage17</column></row><table>如表2所示，通過(guò)使用含有特定量的具有磺酸基的表面活性劑的研磨液，不僅抑制了研磨速率的下降，而且可以減少塌邊。此外，表面性狀良好，膠態(tài)二氧化硅的分散性良好。產(chǎn)業(yè)上利用的可能性如果采用本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，則可以高效地制造記錄面積大而可實(shí)現(xiàn)高記錄容量的磁盤(pán)用玻璃基板，所以是有用的。另外，在這里引用2007年8月23日提出申請(qǐng)的日本專(zhuān)利申請(qǐng)2007-216839號(hào)的說(shuō)明書(shū)、權(quán)利要求書(shū)、附圖和摘要的所有內(nèi)容作為本發(fā)明說(shuō)明書(shū)的揭示。權(quán)利要求1.磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括使用酸性的研磨液對(duì)圓形玻璃板的主表面進(jìn)行研磨的工序，所述研磨液包含主鏈上結(jié)合有選自羧基、羧基的鹽、磺酸基和磺酸基的鹽的至少1種的水溶性聚合物以及膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅。2.如權(quán)利要求l所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述水溶性聚合物中，主鏈為直鏈狀。3.如權(quán)利要求1或2所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述水溶性聚合物的重均分子量在5300以上。4.如權(quán)利要求13中的任一項(xiàng)所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述水溶性聚合物的重均分子量在6000以上。5.如權(quán)利要求14中的任一項(xiàng)所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述水溶性聚合物在研磨液中的含量相對(duì)于100質(zhì)量份膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅為O.00110質(zhì)量份。6.磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括使用酸性的研磨液對(duì)圓形玻璃板的主表面進(jìn)行研磨的工序，所述研磨液中，相對(duì)于100質(zhì)量份膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅，包含0.020.l質(zhì)量份具有磺酸基的表面活性劑。7.如權(quán)利要求6所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述具有磺酸基的表面活性劑為垸基磺酸、垸基苯磺酸或垸基萘磺酸。8.如權(quán)利要求17中的任一項(xiàng)所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述研磨液中的膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅的含量為540質(zhì)量%。9.如權(quán)利要求18中的任一項(xiàng)所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅的一次粒子的平均粒徑為1100nm。10.如權(quán)利要求19中的任一項(xiàng)所述的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述酸性的研磨液的pH為17。全文摘要在制造磁盤(pán)用玻璃基板時(shí)，圓形玻璃板的主表面的研磨工序中，在不降低研磨速率的情況下，減少塌邊。包括使用酸性的研磨液對(duì)圓形玻璃板的主表面進(jìn)行研磨的工序，所述研磨液包含主鏈上結(jié)合有選自羧基、羧基的鹽、磺酸基和磺酸基的鹽的至少1種的水溶性聚合物以及膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅，或者所述研磨液中，相對(duì)于100質(zhì)量份膠態(tài)二氧化硅或氣相二氧化硅，包含0.02～0.1質(zhì)量份具有磺酸基的表面活性劑。文檔編號(hào)B24B37/00GK101588895SQ20088000153公開(kāi)日2009年11月25日申請(qǐng)日期2008年8月18日優(yōu)先權(quán)日2007年8月23日發(fā)明者吉田香良,石田瑞穗,臼井寬申請(qǐng)人:旭硝子株式會(huì)社