專利名稱：蒸鍍源、蒸鍍裝置、有機(jī)薄膜的成膜方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及有機(jī)薄膜的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及制造品質(zhì)佳的有機(jī)薄 膜的技術(shù)。
背景技術(shù)：
有機(jī)EL元件是近年來最受注目的顯示元件之一，具有高亮度且 響應(yīng)速度快的優(yōu)異特性。有機(jī)EL元件是在玻璃基板上配置以紅、綠、 藍(lán)三色的不同顏色來發(fā)色的發(fā)光區(qū)域。發(fā)光區(qū)域是陽極電極膜、空穴 注入層、空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層、電子注入層以及陰極電 極膜以此順序?qū)盈B，利用添加在發(fā)光層中的發(fā)色劑，以紅、綠、或藍(lán) 進(jìn)行發(fā)色。
空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層等一般由有機(jī)材料構(gòu)成，在這 種有機(jī)材料的膜的成膜中，廣泛地使用蒸鍍裝置。
圖5的符號203是現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍裝置，在真空槽211的內(nèi)部配 置有蒸鍍?nèi)萜?12。蒸鍍?nèi)萜?12具有容器本體221，該容器本體221 的上部^皮形成有一個(gè)乃至多個(gè)放出口 224的蓋部222堵塞。
在蒸鍍?nèi)萜?12的內(nèi)部配置有粉體的有機(jī)蒸鍍材料200。
在蒸鍍?nèi)萜?12的側(cè)面和底面配置有加熱器223,通過真空排氣 系215對真空槽211內(nèi)進(jìn)行真空排氣，如果加熱器223發(fā)熱，則蒸鍍 容器212升溫，蒸鍍?nèi)萜?12內(nèi)的有機(jī)蒸鍍材料200被加熱。
如果有機(jī)蒸鍍材料200纟皮加熱至蒸發(fā)溫度以上的溫度，則在蒸鍍 容器212內(nèi)充滿著有機(jī)材料蒸氣，從^:出口 224^:出至真空槽211內(nèi)。
在放出口 224的上方配置有基板搬送裝置214,如果使基板205 保持在保持具210上并使基板搬送裝置214工作，則基板205通過》文
4出口 224的正上方位置，/Ai丈出口 224放出的有機(jī)材料蒸氣到達(dá)基板 205表面，形成空穴注入層或空穴輸送層等的有機(jī)薄膜。
如果一邊使有機(jī)材料蒸氣放出， 一邊使基板205逐片地通iti文出 口 224之上，那么，能夠在多片基板205上逐次形成有機(jī)薄膜。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2003-96557號7>凈艮

發(fā)明內(nèi)容
但是，為了如上述般對多片基板205進(jìn)行成膜，必須在蒸鍍?nèi)萜?212內(nèi)配置大量的有機(jī)蒸鍍材料200。在實(shí)際的生產(chǎn)現(xiàn)場， 一邊將蒸 鍍材^F加熱至350。C 450。C， 一邊連續(xù)120小時(shí)以上進(jìn)行成膜處理， 因而蒸鍍?nèi)萜?12內(nèi)的有機(jī)蒸鍍材料200長時(shí)間暴露于高溫，與蒸鍍 容器中的水分反應(yīng)而變質(zhì)，或因加熱而進(jìn)行分解，與加熱初期的狀態(tài) 相比，有機(jī)蒸鍍材料200劣化。
并且，如果在加熱有機(jī)蒸鍍材料200時(shí)發(fā)生突沸，則》丈出由有機(jī) 蒸鍍材料200的溶融物構(gòu)成的液滴。由于突沸是在放出口 224的正下 方產(chǎn)生，因而如果該液滴的一部分通過放出口 224，到達(dá)基板205， 則液滴混入所形成的薄膜，存在著膜質(zhì)變差的問題。
為了解決上述問題，本發(fā)明為蒸鍍源，其具有蒸發(fā)室，其在內(nèi) 部使蒸鍍材料的蒸氣蒸發(fā)；蒸鍍?nèi)萜?，其具有放出上述蒸鍍材料的?氣的放出口；孑L，其連接上述蒸鍍?nèi)萜鞯膬?nèi)部空間和上述蒸發(fā)室的內(nèi) 部空間；供給裝置，其連接至上述蒸發(fā)室，向上述蒸發(fā)室的內(nèi)部供給 蒸鍍材料；以及加熱裝置，其加熱被供給至上述蒸發(fā)室的上述蒸鍍材 料，并使其蒸發(fā)。
本發(fā)明為蒸鍍源，其構(gòu)成為，在上述蒸發(fā)室設(shè)有透過激光的窗部， 上述加熱裝置通過上述窗部，向上述蒸發(fā)室內(nèi)部照射上述激光。
本發(fā)明為蒸鍍源，上述供給裝置具有供給室，其配置有上述蒸 鍍材料；導(dǎo)管，其一端連接至上述供給室，另一端連接至上述蒸發(fā)室； 旋轉(zhuǎn)軸，其插入并貫通于上述導(dǎo)管；以及旋轉(zhuǎn)裝置，其以中心軸線為中心而使上述旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，其中，在上述旋轉(zhuǎn)軸的側(cè)面形成有螺旋狀 的溝。
本發(fā)明為蒸鍍源，其具有加熱上述蒸鍍?nèi)萜鞯募訜嵫b置。
本發(fā)明為蒸鍍裝置，其具有真空槽和蒸鍍源，上述蒸鍍源具有 蒸發(fā)室，其在內(nèi)部使蒸鍍材料的蒸氣蒸發(fā)；蒸鍍?nèi)萜?，其具有放出?述蒸鍍材料的蒸氣的放出口；孔，其連接上述蒸鍍?nèi)萜鞯膬?nèi)部空間和 上述蒸發(fā)室的內(nèi)部空間；供給裝置，其連接至上述蒸發(fā)室，向上述蒸 發(fā)室的內(nèi)部供給蒸鍍材料；以及加熱裝置，其加熱被供給至上述蒸發(fā) 室的上述蒸鍍材料，并使其蒸發(fā)，其中，在上述蒸鍍?nèi)萜髟O(shè)有將內(nèi)部 空間連接至上述真空槽的內(nèi)部空間的放出口 。
本發(fā)明為蒸鍍裝置，在上述真空槽內(nèi)配置有搬送機(jī)構(gòu)，該搬送機(jī) 構(gòu)保持成膜對象物，并使其通過與上述蒸鍍?nèi)萜鞯纳鲜?^丈出口面對的 位置。
本發(fā)明為有機(jī)薄膜的成膜方法，其在真空槽內(nèi)部使有機(jī)材料的蒸 氣放出，在配置于上述真空槽內(nèi)部的基板表面上成膜有機(jī)材料的薄 膜，其中，在具有蒸鍍?nèi)萜骱驼舭l(fā)室以及連接上述蒸鍍?nèi)萜鞯膬?nèi)部空 間和上述蒸發(fā)室的內(nèi)部空間的孔的蒸鍍源的上述蒸發(fā)室內(nèi)部使有機(jī) 材料的蒸氣產(chǎn)生，使上述蒸氣從設(shè)在上述蒸鍍?nèi)萜鞯姆懦隹诜懦鲋辽?述真空槽內(nèi)部。
本發(fā)明為有機(jī)薄膜的成膜方法，向被供給至上述蒸發(fā)室內(nèi)部的上 述有機(jī)材料照射激光，使上述蒸氣產(chǎn)生。
本發(fā)明如上述般構(gòu)成，蒸發(fā)材料不在設(shè)有放出口的蒸鍍?nèi)萜鲀?nèi)蒸 發(fā)，而是在鄰接于該蒸鍍?nèi)萜鞯恼舭l(fā)室內(nèi)部蒸發(fā)。所以，在使蒸鍍材 料蒸發(fā)時(shí)，即使發(fā)生突沸，液滴也不到達(dá)基板，在基板表面成長的薄 膜的膜質(zhì)不劣化。在蒸發(fā)室和蒸鍍?nèi)萜饔蓪?dǎo)管等細(xì)長的空間連接的情 況下，蒸發(fā)室和蒸鍍?nèi)萜髦g的距離變長，因而液滴更難以漏出。
照射激光并使蒸鍍材料蒸發(fā)的方法，與電阻加熱等的其它加熱方 法相比，不易發(fā)生蒸鍍材料的化學(xué)變性。所以，使用激光的蒸鍍法尤其適用于使像有機(jī)EL材料(電荷移動(dòng)
材料、發(fā)光材料、電子移動(dòng)材料等)那樣容易因加熱而發(fā)生化學(xué)變性的
材料蒸發(fā)，能夠制造有機(jī)EL材料的變性少且發(fā)光量高的有機(jī)EL裝置。 由于激光也能夠使聚合物無化學(xué)變性地蒸發(fā)，因而能夠用蒸鍍法
來成膜以往用噴墨法、網(wǎng)版印刷法、旋轉(zhuǎn)涂布法來成膜的聚合物薄膜。 如果將蒸鍍材料的供給裝置連接至蒸發(fā)室，并將規(guī)定片數(shù)的成膜
所必需的量供給至必需的度，那么，即使在對多個(gè)基板進(jìn)行連續(xù)成膜
的情況下，大量的蒸鍍材料也不會被長時(shí)間加熱，因而蒸鍍材料不變性。
由于蒸鍍材料不會長時(shí)間暴露于高溫，因而蒸鍍材料不分解或變 質(zhì)。能夠形成蒸鍍材料和化學(xué)組成不變的薄膜。能夠制造發(fā)光量高的 有機(jī)EL裝置。


圖l是用于說明本發(fā)明的第一例的蒸鍍裝置的立體圖。 圖2是用于說明該蒸鍍裝置的內(nèi)部的模式剖面圖。 圖3是用于說明本發(fā)明的笫二例的蒸鍍裝置的才莫式剖面圖。 圖4是用于說明本發(fā)明的第三例的蒸鍍裝置的模式剖面圖。 圖5是現(xiàn)有技術(shù)的蒸鍍裝置。
符號說明
1、 50、 70:蒸鍍裝置
2:加熱裝置(激光照射裝置)
6:成膜對象物(基板)
11:真空槽
15:蒸發(fā)室
21:蒸鍍?nèi)萜?br> 25:隔開部件
730:供給裝置
具體實(shí)施例方式
圖l的立體圖、圖2的概略剖面圖的符號l是本發(fā)明的實(shí)施例， 表示第一例的蒸鍍裝置。
該蒸鍍裝置1具有真空槽11及蒸鍍源3(在圖1中省略了真空槽
11)。
在真空槽11上連接有真空排氣系9，如果使真空排氣系9工作， 則對真空槽11的內(nèi)部進(jìn)行真空排氣。
蒸鍍源3具有蒸鍍?nèi)萜?1 、蒸發(fā)室15及供給裝置30。蒸鍍?nèi)萜?21配置在真空槽11內(nèi)部。在蒸鍍?nèi)萜?1上排列設(shè)置有多個(gè)放出口 24，如后所述，其構(gòu)成為，如果從供給裝置30供給的蒸鍍材料16在 蒸發(fā)室15內(nèi)蒸發(fā)，則該蒸氣被導(dǎo)入蒸鍍?nèi)萜?1內(nèi)部，蒸鍍材料的蒸 氣從各放出口 24放出至真空槽11的內(nèi)部。
在真空槽11的內(nèi)部配置有基板搬送機(jī)構(gòu)14。在基板搬送機(jī)構(gòu)14 上安裝有保持具10。如果使成膜對象物的基板保持在保持具10上， 并使其在真空槽ll內(nèi)移動(dòng)，則基板構(gòu)成為沿與放出口 24的排列設(shè)置 方向正交的方向通過與;^文出口 24面對的位置。
基板的寬度比配置有放出口 24的區(qū)域的長度短，從放出口 24放 出至真空槽11的內(nèi)部的蒸鍍材料蒸氣均勻地到達(dá)基板表面，形成蒸 鍍材料的薄膜。也可以在基板和放出口 24之間配置掩4莫(mask)，僅在 基板表面的規(guī)定區(qū)域形成薄膜。
接著，詳細(xì)地說明蒸鍍源3 。
供給裝置30具有供給室31、導(dǎo)管(pipe)32及旋轉(zhuǎn)軸35。供給室 31配置在蒸發(fā)室15的上方。
導(dǎo)管32氣密地插入并貫通于蒸發(fā)室15的頂部，其下端在蒸發(fā)室 15的內(nèi)部露出，上端連接至供給室31的內(nèi)部。
供給室31的直徑大于導(dǎo)管32，在供給室31的底面露出有導(dǎo)管32的上端開口。
旋轉(zhuǎn)軸35以上端比供給室31和導(dǎo)管32的連接部分更突出至上 方的方式插入至導(dǎo)管32。
在旋轉(zhuǎn)軸35的側(cè)面中的比導(dǎo)管32的下端高的部分，至少到比供 給室31和導(dǎo)管32的連接部分更上方的位置為止形成有螺旋狀的溝， 如果在供給室31的底面上積存有蒸鍍材料16,則蒸鍍材料接觸于溝。
該蒸鍍裝置1所使用的蒸鍍材料16為粉體。旋轉(zhuǎn)軸35的溝和溝 之間的凸部與導(dǎo)管32的內(nèi)壁面4妄觸，或者凸部和內(nèi)壁面之間的間隙 為蒸鍍材料16的粒子徑以下，在旋轉(zhuǎn)軸35靜止的狀態(tài)下，蒸鍍材料 16不落下。
在真空槽11的外部配置有旋轉(zhuǎn)裝置37。旋轉(zhuǎn)軸35構(gòu)成為，與旋 轉(zhuǎn)裝置37連接，如果使旋轉(zhuǎn)裝置37的動(dòng)力傳達(dá)至旋轉(zhuǎn)軸35,則旋轉(zhuǎn) 軸35既不上升也不下降， 一邊維持插入并貫通于導(dǎo)管32內(nèi)的狀態(tài)， 一邊以中心軸線C為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
這時(shí)的旋轉(zhuǎn)方向是假定將旋轉(zhuǎn)軸35檸入固體時(shí)，旋轉(zhuǎn)軸35移動(dòng) 至上方的方向，周圍的蒸鍍材料16被施加在旋轉(zhuǎn)軸35上的力的反作 用推入至下方。
溝的下端連接至蒸發(fā)室15的內(nèi)部空間，如果蒸鍍材料16祐L推入 至下方，則落下至蒸發(fā)室15內(nèi)部。
預(yù)先已知使旋轉(zhuǎn)軸35旋轉(zhuǎn)1次時(shí)所落下的蒸鍍材料16的量(例如 1次旋轉(zhuǎn)，0.01g)，通過以對應(yīng)于必需量的旋轉(zhuǎn)數(shù)使旋轉(zhuǎn)軸35旋轉(zhuǎn)， 能夠?qū)⒈匦枇康恼翦儾牧?6供給至蒸發(fā)室15。
在蒸發(fā)室15上設(shè)有透明的窗部19。在此，蒸發(fā)室15位于真空槽 11內(nèi)部，在真空槽11的側(cè)壁的與窗部19面對的位置也設(shè)有窗部4。
在真空槽11的外部配置有作為加熱裝置的激光照射裝置2。激光 照射裝置2所照射的激光通過窗部4、 19,入射至蒸發(fā)室15內(nèi)部的蒸 鍍材料16,在蒸發(fā)室15內(nèi)部產(chǎn)生蒸鍍材料16的蒸氣。
蒸發(fā)室15和蒸鍍?nèi)萜?1由隔開部件25隔開內(nèi)部空間，通過設(shè)在隔開部件25上的小孔(孔)38來連接蒸發(fā)室15和蒸鍍?nèi)萜?1的內(nèi) 部，在蒸發(fā)室15所產(chǎn)生的蒸氣通過小孔38而移動(dòng)至蒸鍍?nèi)萜?1，通 iti丈出口 24而放出至真空槽11的內(nèi)部。
在此，蒸發(fā)室15和蒸鍍?nèi)萜?1的一面相互相向配置，在蒸發(fā)室 15和蒸鍍?nèi)萜?1之間設(shè)有導(dǎo)管26，通過導(dǎo)管26來連接蒸發(fā)室15和 蒸鍍?nèi)萜?1的內(nèi)部空間。
所以，隔開部件25由蒸發(fā)室15和蒸鍍?nèi)萜?1的相互面對的壁 面與導(dǎo)管26的壁面構(gòu)成，小孔38由導(dǎo)管26的內(nèi)部空間中的大小最 小的部分構(gòu)成。在此，導(dǎo)管26的內(nèi)徑均勻(例如內(nèi)徑lmm的不銹鋼管)， 導(dǎo)管26內(nèi)部的任意一部分成為小孔38。
在隔開部件25中，至少在小孔的周圍(導(dǎo)管26)設(shè)有加熱裝置28。 在此，加熱裝置28也安裝在蒸發(fā)室15和蒸鍍?nèi)萜?1上，如果向該 加熱裝置28通電，將蒸發(fā)室15、蒸鍍?nèi)萜?1及導(dǎo)管26加熱至蒸氣 不析出的溫度，那么，蒸氣不析出地從蒸發(fā)室15通過小孔38而向蒸 鍍?nèi)萜?1移動(dòng)。
另外，隔開部件25及小孔38并無特別的限定，如圖3所示的第 二例的蒸鍍裝置50那樣，也可以使用一塊壁51來隔開蒸鍍?nèi)萜?1 和蒸發(fā)室15，以該壁51作為隔開部件，以形成在該壁51上的貫通孔 55作為小孔。
接著，使用本發(fā)明的蒸鍍裝置1來說明成膜有機(jī)薄膜的工序。 在此，真空排氣系9分別連接至真空槽11、蒸發(fā)室15、蒸鍍?nèi)?器21及供給室31，分別對真空槽ll、蒸發(fā)室15、蒸鍍?nèi)萜?1及供 給室31進(jìn)行真空排氣，在形成規(guī)定壓力的真空氣氛之后，就這樣繼 續(xù)真空槽11的真空排氣，停止蒸發(fā)室15、蒸鍍?nèi)萜?1及供給室31 的真空排氣。
在供給室31內(nèi)，作為蒸鍍材料16，預(yù)先收容有例如有機(jī)EL元 件用的有機(jī)材料(電荷移動(dòng)材料、電荷產(chǎn)生材料、發(fā)光材料等)。
預(yù)先已知一片基板的成膜所必需的蒸鍍材料16的量，繼續(xù)真空
10槽11的真空排氣，將一片以上的基板的成膜所必需的量的蒸鍍材料
16從供給裝置30供給至蒸發(fā)室15, —邊用加熱裝置將蒸發(fā)室15、導(dǎo) 管26及蒸鍍?nèi)萜?1保溫在蒸鍍材料16的蒸氣不析出的溫度(例如 150。C 450。C)， 一邊將激光照射于蒸鍍材料16,使其蒸發(fā)。
蒸發(fā)室15的內(nèi)部空間小于蒸鍍?nèi)萜?1的內(nèi)部空間。如果蒸鍍材 料16蒸發(fā)，則在蒸發(fā)室15內(nèi)部充滿著蒸鍍材料16的蒸氣，蒸發(fā)室 15的壓力高于蒸鍍?nèi)萜?1的壓力，通過壓力差使蒸氣移動(dòng)至蒸鍍?nèi)?器21。
由于繼續(xù)真空槽11的真空排氣，并形成規(guī)定壓力的真空氣氛(例 如l(T Torr)，因而蒸氣從蒸鍍?nèi)萜?1被引出至真空槽11。所以，蒸 鍍?nèi)萜?1的內(nèi)部的壓力通常低于蒸發(fā)室15。
如上所述，蒸發(fā)室15的內(nèi)部空間和蒸鍍?nèi)萜?1的內(nèi)部空間由比 隔開部件25小的小孔38連接，因而蒸發(fā)室15和蒸鍍?nèi)萜?1的壓力 差變得更大。
在蒸鍍?nèi)萜?1內(nèi)配置有真空計(jì)5。真空計(jì)5和激光照射裝置2分 別連接至控制裝置7。在控制裝置7預(yù)先設(shè)定有目標(biāo)壓力，基于從真 空計(jì)5傳送的信號來求出蒸鍍?nèi)萜?1內(nèi)的壓力，改變激光照射裝置2 的照射時(shí)間、脈沖數(shù)等，使蒸鍍材料16的蒸發(fā)量增減，從而使該壓 力成為目標(biāo)壓力。
小孔38的大小設(shè)定成，當(dāng)蒸鍍?nèi)萜?1的內(nèi)部壓力成為目標(biāo)壓力 時(shí)，蒸發(fā)室15的內(nèi)部壓力成為^L定范圍。例如當(dāng)目標(biāo)壓力為10^Torr 時(shí)，蒸發(fā)室15的內(nèi)部壓力為lCT3Torr l(r2Torr。
預(yù)先在將成膜面朝向下側(cè)的狀態(tài)下使基板6保持在保持具10上， 蒸鍍?nèi)萜?1的內(nèi)部壓力在目標(biāo)壓力穩(wěn)定，來自放出口 24的蒸氣放出 量穩(wěn)定，然后，如果以通過與放出口 24面對的位置(成膜位置)的方式 使基板6移動(dòng)，則在基板6的表面上形成有機(jī)薄膜。
在規(guī)定片數(shù)的基板6完成通過成膜位置之后，在其次的基板6到 達(dá)成膜位置之前，使旋轉(zhuǎn)軸35旋轉(zhuǎn)已決定的轉(zhuǎn)數(shù)，從而從供給裝置30供給規(guī)定片數(shù)的成膜所必需的量的蒸鍍材料16。此時(shí)的供給量可 為一片基板的量，或多片的量。
在完成供給已決定的供給量的蒸鍍材料16之后，使新的基板6 向成膜位置移動(dòng)，形成有機(jī)薄膜。如果如此地重復(fù)蒸鍍材料16的供 給和規(guī)定片數(shù)的成膜，那么能夠連續(xù)地處理多片基板6。另外，關(guān)于 蒸鍍材料16的供給，可以每次供給相同的量，也可以改變供給量。
在蒸發(fā)室15中，由于根據(jù)必需而供給必需的量的蒸鍍材料16， 因而不像以往那樣大量的蒸鍍材料16被長時(shí)間加熱，蒸鍍材料16不 劣化。
以上，說明了在蒸鍍材料16的加熱中使用激光照射裝置2的情 況，但本發(fā)明并不限于此，加熱裝置可以使用通過通電來發(fā)熱的電阻 發(fā)熱體、通過電磁感應(yīng)來加熱蒸鍍?nèi)萜?1的裝置、通過紅外線》文射 來加熱蒸鍍?nèi)萜?1的裝置、通過升溫的熱i某體的熱傳導(dǎo)來加熱蒸鍍 容器21的裝置以及通過珀耳帖(Peltier)效應(yīng)來加熱的裝置等的加熱蒸 鍍?nèi)萜?1的裝置等。
激光不僅能夠蒸發(fā)無機(jī)材料，還能夠蒸發(fā)單體、低聚物、聚合物 等的有機(jī)材料，而且蒸發(fā)時(shí)，蒸鍍材料的化學(xué)組成的變化少，因而優(yōu) 選。
另外，由于蒸鍍材料16的變性物或雜質(zhì)的吸收波長與變性前的 目的化合物不同，因而如果選擇容易被目的化合物吸收的波長的激 光，那么，即使蒸鍍材料16的一部分變性，或雜質(zhì)混入，也能夠選 擇性地僅使目的化合物蒸發(fā)，形成變性物或雜質(zhì)的混入量少的薄膜。
如果使用激光的波長可變的可變型的激光照射裝置，以作為激光 照射裝置2，那么，能夠根據(jù)蒸鍍材料16的吸收波長來選擇所放出的 激光的波長，因而能夠?qū)⒈景l(fā)明的蒸鍍裝置1用于多種蒸鍍材料16 的成膜。
激光的波長并無特別的限定，但在蒸鍍材料16為聚合物的情況 下，例如為680nm 10.6pm。就激光照射裝置2的一例而言，為口徑
1210|im 20|Lim的。02激光器。
上述實(shí)施例中，通過本發(fā)明的蒸鍍裝置來形成有機(jī)薄膜，但本發(fā) 明的蒸鍍裝置適用于使因長時(shí)間的加熱而劣化的蒸鍍材料在真空氛 圍內(nèi)蒸發(fā)，在多個(gè)成膜對象物上逐次形成薄膜的制造方法，在蒸發(fā)室 15內(nèi)使蒸氣產(chǎn)生的蒸鍍材料并不限于有機(jī)化合物?？傊?，本發(fā)明的蒸 鍍裝置除了形成有機(jī)化合物的薄膜的情況以外，也能夠用于形成無機(jī) 薄膜或復(fù)合材料的薄膜。
也能夠?qū)⒄舭l(fā)室15和供給裝置30配置在真空槽11的外部。此 情況下，不必在真空槽11設(shè)置窗部4。
另外，連接至一個(gè)蒸鍍?nèi)萜?1的蒸發(fā)室15的數(shù)量并無特別的限 定，也可以經(jīng)由小孔38將多個(gè)蒸發(fā)室15連接至一個(gè)蒸鍍?nèi)萜?1，從 多個(gè)蒸發(fā)室15向蒸鍍?nèi)萜?1供給蒸氣。此情況下，可以從各蒸發(fā)室 15供給相同的蒸鍍材料16的蒸氣，也可以供給不同的蒸鍍材料16的 蒸氣。如果同時(shí)供給不同的蒸鍍材料16的蒸氣，那么，形成由2種 以上的蒸鍍材料16構(gòu)成的薄膜。
以上說明了在蒸發(fā)室15和蒸鍍?nèi)萜?1也連接至真空排氣系9的 情況，但本發(fā)明并不限于此?？梢詫⒄婵张艢庀?僅連接至真空槽11， 通過對真空槽內(nèi)部進(jìn)行真空排氣，能夠經(jīng)由放出口 24對蒸鍍?nèi)萜?1 的內(nèi)部進(jìn)行真空排氣，再經(jīng)由小孔38對蒸發(fā)室15的內(nèi)部進(jìn)行真空排 氣。而且，能夠?qū)⒄舭l(fā)室15和蒸鍍?nèi)萜?1的任一方連接至真空排氣 系。
以上說明了使放出口 24朝向豎直上方，使成膜面朝向下側(cè)，并 搬送基板的裝置，但本發(fā)明并不限于此。
例如，如圖4的符號70所示的第三例的蒸鍍裝置那樣，可以使 長度方向朝向豎直下方而配置細(xì)長的蒸鍍?nèi)萜?1。在該蒸鍍裝置70 中，對于與圖1、 2的蒸鍍裝置1相同的部件賦予同樣的符號，并省 略說明。
基板搬送機(jī)構(gòu)74能夠在使保持于保持具77的基板6朝向豎直的狀態(tài)下進(jìn)行搬送，基板6通過與放出口 24面對的位置，由乂^^丈出口 24放出的蒸氣在基板6表面上形成薄膜。
權(quán)利要求
1.一種蒸鍍源，具有蒸發(fā)室，其在內(nèi)部使蒸鍍材料的蒸氣蒸發(fā)；蒸鍍?nèi)萜鳎渚哂蟹懦鏊稣翦儾牧系恼魵獾姆懦隹?；孔，其連接所述蒸鍍?nèi)萜鞯膬?nèi)部空間和所述蒸發(fā)室的內(nèi)部空間；供給裝置，其連接至所述蒸發(fā)室，向所述蒸發(fā)室的內(nèi)部供給蒸鍍材料；以及加熱裝置，其加熱被供給至所述蒸發(fā)室的所述蒸鍍材料，并使其蒸發(fā)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于， 在所述蒸發(fā)室設(shè)有透過激光的窗部，所述加熱裝置構(gòu)成為通過所述窗部，向所述蒸發(fā)室內(nèi)部照射所述 激光。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述供給裝置 具有供給室，其配置有所述蒸鍍材料；導(dǎo)管，其一端連接至所述供給室，另一端連接至所述蒸發(fā)室； 旋轉(zhuǎn)軸，其插入并貫通于所述導(dǎo)管；以及 旋轉(zhuǎn)裝置，其以中心軸線為中心而使所述旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)， 其中，在所述旋轉(zhuǎn)軸的側(cè)面形成有螺旋狀的溝。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，具有加熱所述 蒸鍍?nèi)萜鞯募訜嵫b置。
5. —種蒸鍍裝置，具有真空槽和蒸鍍源， 所述蒸鍍源，具有蒸發(fā)室，其在內(nèi)部使蒸鍍材料的蒸氣蒸發(fā)； 蒸鍍?nèi)萜鳎渚哂蟹懦鏊稣翦儾牧系恼魵獾姆懦隹冢绘軱，其連接所述蒸鍍?nèi)萜鞯膬?nèi)部空間和所述蒸發(fā)室的內(nèi)部空間；供給裝置，其連接至所述蒸發(fā)室，向所述蒸發(fā)室的內(nèi)部供給蒸鍍材料；以及加熱裝置，其加熱被供給至所述蒸發(fā)室的所述蒸鍍材料，并使其 蒸發(fā)，其中，在所述蒸鍍?nèi)萜髟O(shè)有將內(nèi)部空間連接至所述真空槽的內(nèi)部 空間的》丈出口。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍裝置，其特征在于，在所述真空 槽內(nèi)配置有搬送機(jī)構(gòu)，該搬送機(jī)構(gòu)保持成膜對象物，并使其通過與所 述蒸鍍?nèi)萜鞯乃鵬ii文出口面對的位置。
7. —種有機(jī)薄膜的成膜方法，其在真空槽內(nèi)部使有機(jī)材料的蒸 氣放出，在配置于所述真空槽內(nèi)部的基板表面上成膜有機(jī)材料的薄 膜，其中，在具有蒸鍍?nèi)萜骱驼舭l(fā)室以及連接所述蒸鍍?nèi)萜鞯膬?nèi)部空間和 所述蒸發(fā)室的內(nèi)部空間的孔的蒸鍍源的所述蒸發(fā)室內(nèi)部，使有機(jī)材料 的蒸氣產(chǎn)生，使所述蒸氣從設(shè)在所述蒸鍍?nèi)萜鞯姆懦隹诜懦鲋了稣婵詹蹆?nèi)部。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的有機(jī)薄膜的成膜方法，其特征在于， 向被供給至所述蒸發(fā)室內(nèi)部的所述有機(jī)材料照射激光，使所述蒸氣產(chǎn) 生。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠成膜膜質(zhì)佳的有機(jī)薄膜的蒸鍍裝置。本發(fā)明的蒸鍍裝置(1)具有蒸發(fā)室(15)和蒸鍍?nèi)萜?21)，蒸鍍?nèi)萜?21)和蒸發(fā)室(15)由小孔(38)連接。由于每次向蒸發(fā)室(15)供給必需的量的蒸鍍材料(16)，因而大量的蒸鍍材料(16)不會被長時(shí)間加熱。蒸鍍材料(16)在蒸發(fā)室(15)蒸發(fā)，因而即使發(fā)生突沸，液滴也不會到達(dá)基板(6)。如果在激光的照射下使蒸鍍材料(16)蒸發(fā)，那么，蒸鍍材料(16)的化學(xué)變性少。
文檔編號C23C14/24GK101622372SQ20088000623
公開日2010年1月6日 申請日期2008年2月20日 優(yōu)先權(quán)日2007年2月28日
發(fā)明者根岸敏夫 申請人:株式會社愛發(fā)科