專利名稱：旋轉(zhuǎn)承盤座的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種旋轉(zhuǎn)承盤座。
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體、生物科技及光電等產(chǎn)業(yè)快速的崛起與發(fā)展，產(chǎn)品的制造形態(tài)逐漸朝 向微細(xì)化與精密化，在精密制造過程中，對(duì)于產(chǎn)品幾何精度與表面質(zhì)量的要求也越來越高， 而為使工件表面得到良好的平面精度與表面粗糙度，制造業(yè)者經(jīng)常利用研磨加工作為工件 表面最后修整的工作，同時(shí)，為使可確保工件的平坦度及平行度，業(yè)界從事者就在磁盤上增 加一旋轉(zhuǎn)自由度，以提高其加工質(zhì)量，且旋轉(zhuǎn)加工時(shí)，工件的受熱及其熱變形較為平均，同 時(shí)更能提升加工成品的質(zhì)量、節(jié)省加工的時(shí)間以及增加加工的效率等。請(qǐng)參閱圖1及圖2所示，分別為公知旋轉(zhuǎn)磁盤座的立體圖及構(gòu)造示意圖，公知旋轉(zhuǎn) 磁盤座包含有一基座1、一承盤2、一磁盤3、一馬達(dá)4及一皮帶傳動(dòng)組5，該基座1上設(shè)有該 承盤2，該承盤2上再設(shè)有該磁盤3，而該磁盤3具有一定的磁吸力，同時(shí)，該馬達(dá)4則設(shè)于 該基座1 一側(cè)，并由該皮帶傳動(dòng)組5與該承盤2連結(jié)，而可間接帶動(dòng)該磁盤3旋轉(zhuǎn)，并利用 該磁盤3來吸附工件(圖未示)。雖公知旋轉(zhuǎn)磁盤座可達(dá)到旋轉(zhuǎn)的效用，但該馬達(dá)4是外露于工作平臺(tái)旁，既無法 直接傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)磁盤又容易遭受切削液或異物的入侵，同時(shí)，因該皮帶傳動(dòng)組5是由皮帶帶 動(dòng)該磁盤3轉(zhuǎn)動(dòng)，而皮帶于傳動(dòng)時(shí)會(huì)有滑差、皮帶輪對(duì)心不準(zhǔn)及傳動(dòng)功率的損失等問題，且 于使用一段時(shí)間后，亦會(huì)發(fā)生皮帶松滑致使精密傳動(dòng)效益降低及并發(fā)振動(dòng)等問題，故實(shí)有 待加以改善的空間。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種旋轉(zhuǎn)承盤座，以克服公知技術(shù)中存在的缺陷。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供的旋轉(zhuǎn)承盤座，其包含有一基座、一定子、一轉(zhuǎn)子、一 承盤及一限固單元，該基座凹設(shè)有一容槽，并同時(shí)于其環(huán)周界定出一周壁，該定子設(shè)于該容 槽內(nèi)，并與該基座相連結(jié)固定，而該轉(zhuǎn)子設(shè)于該容槽內(nèi)，且與該定子相耦合，又，該承盤與該 轉(zhuǎn)子相連結(jié)，并可受該轉(zhuǎn)子帶動(dòng)，同時(shí)，該承盤設(shè)于該容槽上方，且兩者之間并界定出一間 隙，而該限固單元?jiǎng)t設(shè)于該承盤上，并可被該承盤帶動(dòng)。由此，可由該定子耦合該轉(zhuǎn)子并直接帶動(dòng)該承盤，以減低傳動(dòng)過程中所造成的驅(qū) 動(dòng)扭矩?fù)p失，同時(shí)，更提升加工時(shí)的精度。


圖1是公知旋轉(zhuǎn)承盤座的組合立體圖。圖2是公知旋轉(zhuǎn)承盤座的構(gòu)造示意圖。圖3是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)承盤座的組合立體圖。圖4是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)承盤座的組合剖視圖。
圖5是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)承盤座的使用示意圖。圖6是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)承盤座另一實(shí)施例的組合剖視圖。
具體實(shí)施例方式首先，請(qǐng)參閱圖3至圖4所示，是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)承盤座的組合立體圖及組合剖視圖， 其包含有一基座10，其中間凹設(shè)一容槽11，且同時(shí)于其環(huán)周界定出一周壁12，而該容槽11 具有一開口端111及一封閉端112，該周壁12于該開口端111 一側(cè)的端緣上凹設(shè)一嵌合槽 13，該嵌合槽13旁側(cè)分別形成一卡接環(huán)14，同時(shí)，該基座10于該封閉端112 —側(cè)還分別設(shè) 有與該容槽11相連通的一軸孔15及一進(jìn)氣孔16，而該軸孔15設(shè)于該基座10中間，該進(jìn)氣 孔16則設(shè)于該軸孔15旁側(cè)，又，該基座10底部設(shè)有一框架17，該框架17具有一開口的容 置空間171，而該容置空間171含蓋該軸孔15及該進(jìn)氣孔16。一加速度規(guī)20，設(shè)于該基座10的周壁12上，且鄰近該開口端111 一側(cè)。一定子30，設(shè)于該基座10的容槽11內(nèi)，并環(huán)設(shè)于該軸孔15周側(cè)，且同時(shí)與該基 座10底部相螺接固定，同時(shí)，該定子30還連接一電線31，該電線31是由該進(jìn)氣孔16穿設(shè) 通過該框架17的容置空間171而出，并可由其使該定子30產(chǎn)生磁極，又，該定子30于開放 端111 一側(cè)且鄰近該周壁12凹設(shè)形成有一內(nèi)環(huán)槽32，而該內(nèi)環(huán)槽32上還螺固有一內(nèi)蓋板 33。一轉(zhuǎn)子40，設(shè)于該基座10的容槽11內(nèi)，且位于該定子30及該基座10的周壁12 間，而該轉(zhuǎn)子40可與該定子30相耦合，并于其間具有一適當(dāng)間距，且該轉(zhuǎn)子40對(duì)應(yīng)該內(nèi)環(huán) 槽32的位置亦凹設(shè)形成有一外環(huán)槽41，而同時(shí)于該內(nèi)環(huán)槽32及該外環(huán)槽41內(nèi)組設(shè)有一軸 承42，該外環(huán)槽41上更進(jìn)一步螺固有一外蓋板43，使可由該內(nèi)蓋板33及該外蓋板43將該 軸承42限位于該內(nèi)、外環(huán)槽32、41內(nèi)。一承盤50，與該轉(zhuǎn)子40相連結(jié)固定，并可受該轉(zhuǎn)子40帶動(dòng)，同時(shí)，該承盤50設(shè)于 該容槽11上方，且兩者之間并界定出一間隙51，而該承盤50于鄰近該基座10的周壁12外 周側(cè)軸向向下延伸形成一肩部52，且該承盤50于該些卡接環(huán)14的位置分別對(duì)應(yīng)凹設(shè)有一 接合槽53，又，該些接合槽53間形成一對(duì)應(yīng)該嵌合槽13位置的限位凸環(huán)54，且該些接合槽 53及該限位凸環(huán)54分別與該些卡接環(huán)14及該嵌合槽13相互交叉設(shè)置，并維持一適當(dāng)間 隙，而使其可提供防塵的效用，另，該承盤50中間軸向向該容槽11組接一芯軸55，該芯軸 55同時(shí)與一旋轉(zhuǎn)接頭56相樞接，并穿設(shè)于該軸孔15內(nèi)。一限固單元60，為一磁盤61，且其設(shè)于該承盤50上并相互固接，而該磁盤61連接 一電線62，該電線62同時(shí)穿設(shè)通過該承盤50及該芯軸55，并連接該旋轉(zhuǎn)接頭56，而可由其 使該磁盤61具有預(yù)定的磁吸力。請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D5所示，是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)承盤座的使用示意圖，當(dāng)使用該磁盤座時(shí)，將一 欲研磨的工件100先置放于該磁盤61上，并由該磁盤61所產(chǎn)生的磁吸力吸附固定，同時(shí)， 利用一砂輪200來配合研磨，而在研磨的同時(shí)，該定子30與該轉(zhuǎn)子40相耦合，并使該轉(zhuǎn)子 40可直接帶動(dòng)該承盤50，使該承盤50可進(jìn)一步帶動(dòng)該磁盤61旋轉(zhuǎn)，且研磨時(shí)，可由該承盤 50的肩部52來阻擋切削液及塵屑進(jìn)入至該容槽11內(nèi)，另，由該進(jìn)氣孔16灌注氣體至該容 槽11內(nèi)，使該氣體可由該承盤50及基座10間之間隙51排出，而達(dá)到雙重阻擋切削液及塵屑進(jìn)入該容槽11的效用，又，該加速度規(guī)20可監(jiān)測(cè)該磁盤61于轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)所 造成的晃動(dòng)，并以 一燈號(hào)(圖未示)顯示且提醒使用者檢查本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)承盤座。 請(qǐng)同時(shí)參閱圖6所示，是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)承盤座另一實(shí)施例的組合剖視圖，本圖其主 要描述的特征點(diǎn)在于，該定子30設(shè)于該基座10的周壁12內(nèi)側(cè)，而該轉(zhuǎn)子40則與該承盤50 的芯軸55相連結(jié)，并共同穿設(shè)于該定子30間，而可使該轉(zhuǎn)子40及該定子30相耦合，同時(shí)， 該承盤50上還設(shè)有該限固單元60，而該限固單元60于此實(shí)施例中為一夾具63，該夾具63 上夾設(shè)固定有該工件100，又，該限固單元60亦可為吸盤(圖未示)或可固定限位該工件 100于該承盤50上的類似組件。
權(quán)利要求
一種旋轉(zhuǎn)承盤座，其主要包含有一基座，凹設(shè)有一容槽，并同時(shí)于其環(huán)周界定出一周壁；一定子，設(shè)于該基座的容槽內(nèi)，并與該基座相連結(jié)固定；一轉(zhuǎn)子，設(shè)于該基座的容槽內(nèi)，且與該定子相耦合；一承盤，與該轉(zhuǎn)子相連結(jié)，并可受該轉(zhuǎn)子帶動(dòng)，同時(shí)，該承盤設(shè)于該容槽上方，且兩者之間并界定出一間隙；以及一限固單元，設(shè)于該承盤上，并可被該承盤帶動(dòng)。
2.依據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)承盤座，其中，該限固單元為一磁盤。
3.依據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)承盤座，其中，該限固單元為一夾具。
4.依據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)承盤座，其中，該限固單元為一吸盤。
5.依據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)承盤座，其中，該轉(zhuǎn)子設(shè)于該定子的中間。
6.依據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)承盤座，其中，該轉(zhuǎn)子設(shè)于該定子與該基座的周壁間。
7.依據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)承盤座，其中，該基座于預(yù)定位置設(shè)有一進(jìn)氣孔，該進(jìn)氣 孔與該容槽相連通，同時(shí)，并可由該進(jìn)氣孔充填氣體入該容槽內(nèi)，并由該容槽及該承盤間的 間隙排出。
8.依據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)承盤座，其中，該承盤于鄰近該基座的周壁外周側(cè)軸向 向下延伸形成一肩部。
9.依據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)承盤座，其中，該基座于鄰近該承盤的一側(cè)設(shè)有一加速 度規(guī)。
10.依據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)承盤座，其中，該定子與該轉(zhuǎn)子間設(shè)有一軸承。
11.依據(jù)權(quán)利要求10所述的旋轉(zhuǎn)承盤座，其中，該定子于鄰近該周壁一側(cè)凹設(shè)形成有 一內(nèi)環(huán)槽，該內(nèi)環(huán)槽上固設(shè)有一內(nèi)蓋板，而該轉(zhuǎn)子則對(duì)應(yīng)該內(nèi)環(huán)槽的位置亦凹設(shè)形成有一 外環(huán)槽，而同時(shí)于該內(nèi)環(huán)槽及該外環(huán)槽內(nèi)組設(shè)有該軸承，該外環(huán)槽上螺固有一外蓋板，可由 該內(nèi)蓋板及該外蓋板將該軸承限位于該內(nèi)、外環(huán)槽內(nèi)。
12.依據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)承盤座，其中，該周壁于該承盤一側(cè)的端緣上凹設(shè)一嵌 合槽，且該嵌合槽旁側(cè)分別形成一卡接環(huán)，而該承盤于該些卡接環(huán)的位置分別對(duì)應(yīng)凹設(shè)有 一接合槽，且該些接合槽間形成一對(duì)應(yīng)該嵌合槽位置的限位凸環(huán)。
全文摘要
一種旋轉(zhuǎn)承盤座，其包含有一基座、一定子、一轉(zhuǎn)子、一承盤及一限固單元，該基座凹設(shè)有一容槽，并同時(shí)于其環(huán)周界定出一周壁，該定子設(shè)于該容槽內(nèi)，并與該基座相連結(jié)固定，而該轉(zhuǎn)子設(shè)于該容槽內(nèi)，且與該定子相耦合，又，該承盤與該轉(zhuǎn)子相連結(jié)，并可受該轉(zhuǎn)子帶動(dòng)，同時(shí)，該承盤設(shè)于該容槽上方，且兩者之間并界定出一間隙，而該限固單元?jiǎng)t設(shè)于該承盤上，并可被該承盤帶動(dòng)，由此，可由該定子耦合該轉(zhuǎn)子并直接帶動(dòng)該承盤，以減低傳動(dòng)過程中所造成的驅(qū)動(dòng)扭矩?fù)p失，同時(shí)，更提升加工時(shí)的精度。
文檔編號(hào)B24B29/00GK101811283SQ200910004458
公開日2010年8月25日 申請(qǐng)日期2009年2月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月25日
發(fā)明者黃俊維 申請(qǐng)人:銅翌機(jī)械有限公司