專利名稱：一種舊有機(jī)光導(dǎo)鼓表面聚合物薄膜的去除方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于一種鋁型材表面材料的脫膜處理方法，具體涉及一種舊有機(jī)光導(dǎo)鼓表面聚合物薄膜的去除方法。
背景技術(shù)：
激光打印機(jī)用硒鼓的核心部分是有機(jī)光導(dǎo)鼓，有機(jī)光導(dǎo)鼓在使用了幾個(gè)周期后由于機(jī)械磨損和光電疲勞等原因?qū)⒉荒鼙皇褂枚鴪?bào)廢。直接丟棄報(bào)廢的有機(jī)光導(dǎo)鼓會造成資源浪費(fèi)和環(huán)境污染，因此需要去掉舊有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基表面聚合物薄膜使鼓基再生。目前國內(nèi)外尚無成熟、有效的脫膜再生技術(shù)。天津復(fù)印技術(shù)研究所曾經(jīng)針對復(fù)印機(jī)的有機(jī)光導(dǎo)鼓進(jìn)行過研究，但它是利用胺類堿性溶
液在9crc高溫下進(jìn)行脫膜。此種脫膜方法因在堿性高溫條件下進(jìn)行，胺類堿性溶液會跟有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基鋁發(fā)生反應(yīng)而腐蝕鼓基，影響了有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基的再次利用。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種去除有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基表面聚合物薄膜的有效方法。
主要技術(shù)方案包括脫膜劑的配制、舊有機(jī)光導(dǎo)鼓在脫膜劑中浸泡、超聲波常溫粗洗后氮?dú)鈹嚢杵?、超聲波常溫精洗后氮?dú)鈹嚢杵春驼婵崭稍镂宀健?br>
其中脫膜劑(N-甲基吡咯烷酮和烷基酮的混合液)是根據(jù)有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基涂層材料的成分配制出的。目前使用的有機(jī)光導(dǎo)鼓大致分為三層載流子阻擋層、載流子產(chǎn)生層、載流子傳輸層。載流子阻擋層的主要材料一般為聚酰胺；載流子產(chǎn)生層的主要材料一般為偶氮、酞菁、方酸、茈類化合物；載流子傳輸層一般為胺類、腙類、聚碳酸酯類材料，另外有的有機(jī)光導(dǎo)鼓在外表面涂了一層保護(hù)層， 一般為聚氨酯和聚碳酸酯等耐磨材料。本發(fā)明所配制的脫膜劑中，
N-甲基吡咯烷酮是一種高極性、溶解能力強(qiáng)的溶劑，對于載流子阻擋層聚酰胺、保護(hù)層聚氨酯、聚碳酸酯、胺類傳輸材料具有較強(qiáng)的溶解清洗能力；垸基酮(丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、環(huán)乙酮中的一種或幾種)對于偶氮等載流子產(chǎn)生材料具有良好的溶解性，N-甲基吡咯烷酮和烷基酮的混合液能夠降低有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基表面聚合物薄膜的附著力，經(jīng)過一定時(shí)間浸泡后能夠完全溶解脫除有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基表面聚合物薄膜。
本發(fā)明的具體步驟如下
1、 根據(jù)有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基表面聚合物薄膜材料的成分，按照預(yù)定組分配制脫膜劑1一99重量份N-甲基吡咯烷酮和1一99重量份垸基酮的混合液，二者混溶后，能夠有效的發(fā)揮脫膜的協(xié)調(diào)作用，并且毒性小、對于鼓基鋁無任何腐蝕作用；
2、 將有機(jī)光導(dǎo)鼓放在脫膜劑中浸泡，浸泡時(shí)啟動(dòng)攪拌裝置，使脫膜劑處于循環(huán)流動(dòng)狀態(tài)，加速聚合物薄膜的剝離溶解，同時(shí)將浸泡槽封閉，減少脫膜劑的揮發(fā)；
3、 浸泡半小時(shí)后將有機(jī)光導(dǎo)鼓放在純水中超聲粗洗，超聲槽的頻率為40KHz，主要是清洗鋁基表面殘留的脫膜劑溶液，粗洗完成后采用13m3/min進(jìn)氣量的氮?dú)鈹嚢杵?，主要是漂洗鋁基表面殘余的少量聚合物和脫膜劑組分，并且減少鋁基暴露氧氣中產(chǎn)生的氧化；
4、 粗洗后將有機(jī)光導(dǎo)鼓放入純水中超聲精洗，超聲槽的頻率為40KHz，精洗后采用13m3/min進(jìn)氣量的氮?dú)鈹嚢杵矗?br>
5、 最后將有機(jī)光導(dǎo)鼓放入45。C環(huán)境中真空干燥，并且干燥時(shí)鋁基采用立式置于托盤支架上，達(dá)到干燥均勻無水印殘留效果。
本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)是所配制的脫膜劑根據(jù)有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基表面聚合物薄膜成分設(shè)計(jì)，脫膜效果理想；脫膜劑中所用組分毒性較低，環(huán)境污染小，對人體安全性高；脫膜方法操作簡單，脫喊效果理想，對有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基鋁沒有任何腐蝕作用。
具體實(shí)施例方式
用下面的實(shí)施例詳細(xì)說明本發(fā)明。實(shí)施例1
將60重量份N-甲基吡咯烷酮和40重量份甲乙酮混合均勻配成脫膜劑，把舊的有機(jī)光導(dǎo)鼓放入密閉脫膜劑中浸泡0.5小時(shí)，脫膜劑在攪拌裝置中處于循環(huán)狀態(tài)；常溫純水中40KHz超聲波粗洗10分鐘；13m3/min進(jìn)氣量的氮?dú)鈹嚢杓兯?分鐘；然后將有機(jī)光導(dǎo)鼓放入純水中40KHz超聲波精洗10分鐘；13m3/min進(jìn)氣量的氮?dú)鈹嚢杓兯?0分鐘；最后將鼓基立于托盤支架上45"C環(huán)境中真空干燥6小時(shí)。
干燥后，使用體視顯微鏡觀察鋁基表面，無殘留薄膜，無損傷；使用表面粗糙度儀測試表面粗糙度，其粗糙度大小跟全新的鋁基無明顯差異，表明脫膜時(shí)損傷較小，達(dá)到了安全脫膜使鼓基再次使用的要求。
實(shí)施例2
將70重量份N-甲基吡咯烷酮和30重量份環(huán)己酮混合均勻配成脫膜劑，把舊的有機(jī)光導(dǎo)鼓放入密閉脫膜劑中浸泡0.5小時(shí)，脫膜劑在攪拌裝置中處于循環(huán)狀態(tài)；常溫純水中40KHz超聲波粗洗10分鐘；13m3/min進(jìn)氣量的氮?dú)鈹嚢杓兯?分鐘；然后將有機(jī)光導(dǎo)鼓放入純水中40KHz超聲波精洗10分鐘；13m3/min進(jìn)氣量的氮?dú)鈹嚢杓兯?0分鐘；最后將鼓基立于托盤支架上45'C環(huán)境中真空干燥6小時(shí)。
干燥后，使用體視顯微鏡觀察鋁基表面，無殘留薄膜，無損傷；使用表面粗糙度儀測試表面粗糙度，其粗糙度大小跟全新的鋁基無明顯差異，表明脫膜時(shí)損傷較小，達(dá)到了安全脫膜使鼓基再次使用的要求。
權(quán)利要求
1、一種去除舊有機(jī)光導(dǎo)鼓表面聚合物薄膜的方法，其特征在于實(shí)施步驟如下脫膜劑的配制→舊有機(jī)光導(dǎo)鼓在脫膜劑中浸泡→超聲波常溫粗洗→氮?dú)鈹嚢杵础暡ǔ鼐础獨(dú)鈹嚢杵础婵崭稍铩?br>
2、 如權(quán)利要求1所述的脫膜劑，其特征在于脫膜劑中含有l(wèi)一99重量份N-甲基 吡咯烷酮和1一99重量份烷基酮。
3、 如權(quán)利要求2所述的脫膜劑，其特征在于烷基酮是選自丙酮、甲乙酮、環(huán)己 酮、環(huán)乙酮中的一種或幾種。
4、 如權(quán)利要求l所述的舊有機(jī)光導(dǎo)鼓脫膜劑中浸泡措施，其特征在于浸泡時(shí)有 機(jī)光導(dǎo)鼓齒輪端在脫膜劑液面上方，浸泡槽全封閉并配有攪拌裝置。
5、 如權(quán)利要求1所述的包括粗洗和精洗的漂洗措施，其特征在于采用進(jìn)氣量為 13m3/min的氮?dú)鈹嚢杓兯?-10分鐘。
全文摘要
本發(fā)明配制出一種全新的脫膜劑，采用該脫模劑和本發(fā)明所述的清洗方法能夠在短時(shí)間內(nèi)有效的去除附著在有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基表面的聚合物薄膜，并可以避免腐蝕有機(jī)光導(dǎo)鼓鼓基鋁，另外，該脫膜方法操作簡單、耗時(shí)小、脫膜效果理想，脫膜后的鋁基可以用在有機(jī)光導(dǎo)鼓的再制造中。
文檔編號C23G5/036GK101649463SQ20091001723
公開日2010年2月17日 申請日期2009年7月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月17日
發(fā)明者何美玲 申請人:山東富美科技有限公司