專利名稱：一種鍍膜的方法及其設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種自動(dòng)化工業(yè)生產(chǎn)流程及其設(shè)備，具體是一種用于鍍膜的方法和實(shí) 現(xiàn)這種方法的設(shè)備。
背景技術(shù)：
現(xiàn)在的鍍膜生產(chǎn)線均為單面鍍膜，即在基片的一面鍍上各種功能薄膜?，F(xiàn)有生產(chǎn) 線為一條流水線，在真空鍍膜流水線段上，有兩條平行往返的安裝在真空環(huán)境中的鍍膜導(dǎo) 軌，基片從導(dǎo)軌的一端進(jìn)去，從導(dǎo)軌的另一端折返出來(lái)。鍍膜模塊對(duì)應(yīng)的設(shè)在導(dǎo)軌的兩側(cè)。按照現(xiàn)有生產(chǎn)線，鍍膜產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝流程是先將基片進(jìn)行清洗并進(jìn)行清洗質(zhì) 量檢驗(yàn)；再將清洗合格的基片裝片，置入真空環(huán)境中進(jìn)行加熱、鍍膜再冷卻；最后是出片、 卸片，進(jìn)行表面質(zhì)量檢驗(yàn)、性能測(cè)試后將合格的鍍膜產(chǎn)品包裝入庫(kù)。而最新的產(chǎn)品，比如電容觸摸屏、雙面0LED、雙面裝飾及高透過(guò)率等一些鍍膜產(chǎn) 品，需要在基片的兩側(cè)表面都鍍有功能薄膜。以國(guó)內(nèi)外現(xiàn)有的設(shè)備，需要進(jìn)行二次鍍膜，就 是說(shuō)，把基片正反面的鍍膜過(guò)程分開，相當(dāng)于把已經(jīng)鍍膜好的成品(單面鍍膜產(chǎn)品)，重新 清洗、檢驗(yàn)、在基片沒(méi)有鍍膜的那一面再進(jìn)行一次鍍膜。二次鍍膜的過(guò)程中，產(chǎn)品的合格率 將大幅度降低，生產(chǎn)工時(shí)的浪費(fèi)很嚴(yán)重。生產(chǎn)成本非常高。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述問(wèn)題，本發(fā)明旨在提供一種可以在一次鍍膜的過(guò)程中，使基片的兩面都 鍍上所需功能的相關(guān)薄膜的方法以及實(shí)現(xiàn)這種方法的設(shè)備。為實(shí)現(xiàn)該技術(shù)目的，本發(fā)明的一種鍍膜的方法，包括清洗及清洗質(zhì)量檢測(cè)步驟；真 空環(huán)境中的加熱、鍍膜及冷卻步驟；出片、卸片及質(zhì)檢性能測(cè)試步驟，在清洗及清洗質(zhì)量檢 測(cè)步驟和真空環(huán)境中的加熱、鍍膜及冷卻步驟之間，還包括有單雙面鍍膜模式選擇步驟。所述單雙面鍍膜模式選擇步驟中的模式包括有，單面鍍單層膜模式、單面鍍多層 膜模式和雙面鍍膜模式。本發(fā)明的一種可實(shí)現(xiàn)單雙面鍍膜模式選擇的鍍膜設(shè)備，包括清洗及檢測(cè)流水線 段，加熱、鍍膜及冷卻流水線段，出片、卸片及質(zhì)檢性能測(cè)試流水線段；所述加熱、鍍膜及冷 卻流水線段為兩段，分別安裝在兩條真空室內(nèi)，兩真空室內(nèi)均設(shè)有供承載基片的基片架小 車滑行的導(dǎo)軌，導(dǎo)軌之間互相平行，采用過(guò)渡機(jī)構(gòu)連接；所述過(guò)渡機(jī)構(gòu)包括固定安裝在旋轉(zhuǎn) 軸上的底板和基片架軌道，所述旋轉(zhuǎn)軸由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，所述底板上固定安裝有承載 基片架軌道的平移導(dǎo)軌，所述平移導(dǎo)軌與基片架軌道相互垂直設(shè)置，所述基片架軌道通過(guò) 絲桿裝置可在平移導(dǎo)軌上前后移動(dòng)。作為進(jìn)一步改進(jìn)，所述平移導(dǎo)軌為兩條，分別設(shè)置在底板的兩端。作為進(jìn)一步改進(jìn)，所述絲桿裝置由兩組絲桿和絲桿驅(qū)動(dòng)電機(jī)組成，分別設(shè)置在底 板的兩端。本發(fā)明的方法提供了既可以生產(chǎn)單面薄膜產(chǎn)品，同時(shí)又可以生產(chǎn)雙面薄膜產(chǎn)品的生產(chǎn)流程。本發(fā)明的設(shè)備使用的過(guò)渡機(jī)構(gòu)，使承載基片的基片架小車平移過(guò)去，而不發(fā)生回 轉(zhuǎn)，從而生產(chǎn)出基片兩面都具有薄膜的產(chǎn)品；同時(shí)，該機(jī)構(gòu)兼具旋轉(zhuǎn)功能，同樣可以生產(chǎn)單 面鍍膜產(chǎn)品。只要在PLC設(shè)置成不同的模式，便可以方便的切換，從而完成不同功能產(chǎn)品的 生產(chǎn)任務(wù)。因?yàn)榭梢栽谝淮五兡さ倪^(guò)程中，使基片的兩面都鍍上所需功能的相關(guān)薄膜，比現(xiàn) 有方式節(jié)省一半的生產(chǎn)時(shí)間，節(jié)約生產(chǎn)線的運(yùn)行成本，并且大大提高的產(chǎn)品的良率，使產(chǎn)品 的成本至少降低30%。


圖1為本發(fā)明的過(guò)渡機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，1為底板；2、9為平移導(dǎo)軌；3、8為絲桿；4、7為絲桿驅(qū)動(dòng)電機(jī)；5為旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng) 電機(jī)；6為主旋轉(zhuǎn)軸；10為小車移動(dòng)電機(jī)；11為基片架軌道；12為基片架小車。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明的一種鍍膜的方法，包括以下步驟清洗及清洗質(zhì)量檢測(cè)步驟；單雙面鍍 膜模式選擇步驟；真空環(huán)境中的加熱、鍍膜及冷卻步驟；出片、卸片及質(zhì)檢性能測(cè)試步驟。 在單雙面鍍膜模式選擇步驟中，包括有單面鍍單層膜模式、單面鍍多層膜模式和雙面鍍膜 模式。只要在PLC設(shè)置成不同的模式，便可以方便的切換，從而完成不同功能產(chǎn)品的生產(chǎn)任 務(wù)。本發(fā)明的一種可實(shí)現(xiàn)單雙面鍍膜模式選擇的鍍膜設(shè)備，包括現(xiàn)有設(shè)備中的清洗及 檢測(cè)流水線段，加熱、鍍膜及冷卻流水線段，出片、卸片及質(zhì)檢性能測(cè)試流水線段；所述加 熱、鍍膜及冷卻流水線段為兩段，分別安裝在兩條真空室內(nèi)，兩真空室內(nèi)均設(shè)有供承載基片 的基片架小車滑行的導(dǎo)軌，導(dǎo)軌之間互相平行，軌道之間采用過(guò)渡機(jī)構(gòu)連接。如圖1所示，過(guò)渡機(jī)構(gòu)包括固定安裝在旋轉(zhuǎn)軸6上的底板1和基片架軌道11，所 述旋轉(zhuǎn)軸由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)5驅(qū)動(dòng)，底板1上固定安裝有承載基片架軌道11的平移導(dǎo)軌2和 9，所述平移導(dǎo)軌與基片架軌道相互垂直設(shè)置，基片架軌道通過(guò)絲桿裝置可在平移導(dǎo)軌上前 后移動(dòng)。在具體實(shí)施方式
中，平移導(dǎo)軌為兩條，分別設(shè)置在底板的兩端。絲桿裝置由兩組絲 桿3和8以及絲桿驅(qū)動(dòng)電機(jī)4和7組成，分別設(shè)置在底板的兩端。具體運(yùn)行時(shí)當(dāng)生產(chǎn)雙面鍍膜產(chǎn)品時(shí)承載基片的基片架小車12從真空室出來(lái)后，在小車移動(dòng) 電機(jī)10的帶動(dòng)下，沿著從圖示中B側(cè)到A側(cè)的方向移動(dòng)到基片架軌道11上，到位后，絲桿驅(qū) 動(dòng)電機(jī)4和7同時(shí)旋轉(zhuǎn)，使基片架軌道11平移至規(guī)定位置，然后由軌道下方的小車移動(dòng)電 機(jī)10反轉(zhuǎn)，帶動(dòng)基片小車沿著B’側(cè)到A’側(cè)的方向移進(jìn)到新的真空室，至此動(dòng)作完成(相 當(dāng)于基片小車是退出去，然后原來(lái)的尾部變頭部，進(jìn)入其它的真空室)。當(dāng)生產(chǎn)單面鍍膜產(chǎn)品時(shí)，執(zhí)行PLC設(shè)定的另一套程序。承載基片的基片架小車12 從真空室出來(lái)后，在小車移動(dòng)電機(jī)10的帶動(dòng)下，沿著從B側(cè)到A側(cè)的方向移動(dòng)到基片架軌 道11上，到位后，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)5帶動(dòng)主旋轉(zhuǎn)軸6，使包括底板在內(nèi)的基片架及軌道系統(tǒng)整 體旋轉(zhuǎn)180°，然后由軌道下的小車移動(dòng)電機(jī)10帶動(dòng)小車沿著從A’側(cè)到B’側(cè)的方向移進(jìn)新的真空室(由于旋轉(zhuǎn)180°，圖中的A側(cè)變?yōu)锳’側(cè)，B側(cè)變?yōu)锽’側(cè)，基片小車始終向前運(yùn) 動(dòng))° 以上所述，僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡是依據(jù)本發(fā)明的技 術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何細(xì)微修改、等同替換和改進(jìn)，均應(yīng)包含在本發(fā)明技術(shù)方案 的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜的方法，包括清洗及清洗質(zhì)量檢測(cè)步驟；真空環(huán)境中的加熱、鍍膜及冷卻 步驟；出片、卸片及質(zhì)檢性能測(cè)試步驟，其特征在于在清洗及清洗質(zhì)量檢測(cè)步驟和真空環(huán) 境中的加熱、鍍膜及冷卻步驟之間，還包括有單雙面鍍膜模式選擇步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于所述單雙面鍍膜模式選擇步驟中的模式 包括有，單面鍍單層膜模式、單面鍍多層膜模式和雙面鍍膜模式。
3.一種實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1所述方法的鍍膜設(shè)備，包括清洗及檢測(cè)流水線段，加熱、鍍膜及 冷卻流水線段，出片、卸片及質(zhì)檢性能測(cè)試流水線段；所述加熱、鍍膜及冷卻流水線段為兩 段，分別安裝在兩條真空室內(nèi)，兩真空室內(nèi)均設(shè)有供承載基片的基片架小車滑行的導(dǎo)軌，導(dǎo) 軌之間互相平行，采用過(guò)渡機(jī)構(gòu)連接；所述過(guò)渡機(jī)構(gòu)包括固定安裝在旋轉(zhuǎn)軸(6)上的底板 (1)和基片架軌道(11)，所述旋轉(zhuǎn)軸由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)( 驅(qū)動(dòng)，其特征在于所述底板上固 定安裝有承載基片架軌道(11)的平移導(dǎo)軌，所述平移導(dǎo)軌與基片架軌道相互垂直設(shè)置，所 述基片架軌道通過(guò)絲桿裝置可在平移導(dǎo)軌上前后移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述平移導(dǎo)軌為兩條，分別設(shè)置在底 板的兩端。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述絲桿裝置由兩組絲桿和絲桿驅(qū) 動(dòng)電機(jī)組成，分別設(shè)置在底板的兩端。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種可以在一次鍍膜的過(guò)程中，使基片的兩面都鍍上所需功能的相關(guān)薄膜的方法以及實(shí)現(xiàn)這種方法的設(shè)備。方法主要是在清洗及清洗質(zhì)量檢測(cè)步驟和真空環(huán)境中的加熱、鍍膜及冷卻步驟之間，還包括有單雙面鍍膜模式選擇步驟。設(shè)備主要采用過(guò)渡機(jī)構(gòu)連接；該過(guò)渡機(jī)構(gòu)包括固定安裝在旋轉(zhuǎn)軸上的底板和基片架軌道，底板上固定安裝有承載基片架軌道的平移導(dǎo)軌，基片架軌道通過(guò)絲桿裝置可在平移導(dǎo)軌上前后移動(dòng)。因此，可以在一次鍍膜的過(guò)程中，使基片的兩面都鍍上所需功能的相關(guān)薄膜，比現(xiàn)有方式節(jié)省一半的生產(chǎn)時(shí)間，節(jié)約生產(chǎn)線的運(yùn)行成本，并且大大提高的產(chǎn)品的良率，使產(chǎn)品的成本至少降低30％。
文檔編號(hào)C23C14/24GK102102174SQ200910189178
公開日2011年6月22日 申請(qǐng)日期2009年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月21日
發(fā)明者唐貴民, 姜翠寧, 王克斌, 田曉智, 黃啟耀 申請(qǐng)人:深圳新南亞技術(shù)開發(fā)有限公司