專(zhuān)利名稱(chēng)：應(yīng)用于太陽(yáng)能電池導(dǎo)電玻璃的鍍膜工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池生產(chǎn)領(lǐng)域，具體的說(shuō)是一種太陽(yáng)能電池濺渡透明導(dǎo)電膜的 導(dǎo)電玻璃的鍍膜工藝。
背景技術(shù)：
在非晶硅太陽(yáng)能電池中，透明導(dǎo)電膜需要濺鍍?cè)陔姵仄?，做為非晶硅太?yáng)能電 池的窗口層和前電極使用，該部分作為電池發(fā)電的重要部位，直接影響著對(duì)光的吸收程度， 以及發(fā)電的效率。而現(xiàn)有工藝對(duì)于濺鍍透明導(dǎo)電膜的各項(xiàng)參數(shù)達(dá)不到的要求，濺射效率低，鍍膜效 果不好。急于需要尋找一種能夠更好的濺鍍透明導(dǎo)電膜的工藝，以適應(yīng)生產(chǎn)的需要。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是要提供一種應(yīng)用于太陽(yáng)能電池導(dǎo)電玻璃的鍍膜工藝，該工藝在濺 射透明導(dǎo)電膜時(shí)，能夠使沉積時(shí)的透明導(dǎo)電膜的各項(xiàng)參數(shù)得到進(jìn)一步提高，整體提高太陽(yáng) 能電池的輸出效率。本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的該鍍膜工藝是利用專(zhuān)用的導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備實(shí)現(xiàn) 的，所述的導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備包括設(shè)備主體兩端設(shè)置的緩沖倉(cāng)室，靠近緩沖倉(cāng)室依次排列 設(shè)置的加熱倉(cāng)室，設(shè)置在加熱倉(cāng)室和緩沖倉(cāng)室之間的依次排列的濺鍍倉(cāng)室，所述的緩沖倉(cāng) 室，加熱倉(cāng)室，濺鍍倉(cāng)室各倉(cāng)室構(gòu)成導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備主體，各個(gè)倉(cāng)室之間通過(guò)閥門(mén)被間隔 成相對(duì)獨(dú)立的空間，在導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備主體的下面設(shè)置有真空系統(tǒng)，它通過(guò)其上設(shè)置的 多個(gè)真空管路與導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備主體上的各個(gè)倉(cāng)室連通；該鍍膜工藝的具體步驟是電池在掛有電池掛片箱的傳送導(dǎo)軌的帶動(dòng)下一次兩片 進(jìn)入緩沖倉(cāng)室，然后依次進(jìn)入加熱倉(cāng)室，在三個(gè)加熱倉(cāng)室中分別對(duì)電池片進(jìn)行加熱，加熱溫 度分別是80°C，140°C，20(TC ；加熱完后，電池片進(jìn)入濺鍍倉(cāng)室，在濺鍍倉(cāng)室內(nèi)兩側(cè)設(shè)置有氧 化鋅旋轉(zhuǎn)靶材，每側(cè)分別為兩個(gè)，用來(lái)濺鍍氧化鋅透明導(dǎo)電膜，由于透明導(dǎo)電膜較厚，所以 依次在四個(gè)濺鍍倉(cāng)對(duì)電池片進(jìn)行濺鍍四次，以達(dá)到所需要的參數(shù)；真空系統(tǒng)通過(guò)連接到各 個(gè)倉(cāng)室的真空管路來(lái)控制各個(gè)倉(cāng)室的真空值，真空濺鍍完成后電池片經(jīng)緩沖室進(jìn)入下一個(gè) 生產(chǎn)設(shè)備。本發(fā)明由于采用上述專(zhuān)用的導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備和新的工藝參數(shù)，使透明導(dǎo)電膜濺 鍍的更加均勻，成膜的效果更好，，整體提高太陽(yáng)能電池的輸出效率。


圖1為本發(fā)明導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備整體結(jié)構(gòu)俯視圖。圖2為本發(fā)明圖1中A-A剖視圖。
具體實(shí)施例方式由附圖1、2所示該鍍膜工藝是利用專(zhuān)用導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備實(shí)現(xiàn)的，所述的導(dǎo)電 玻璃鍍膜設(shè)備包括設(shè)備主體兩端設(shè)置的緩沖倉(cāng)室1、2，靠近緩沖倉(cāng)室1依次排列設(shè)置的加 熱倉(cāng)室3、4、5，設(shè)置在加熱倉(cāng)室5和緩沖倉(cāng)室2之間的依次排列的濺鍍倉(cāng)室6、7、8、9，所述 的緩沖倉(cāng)室1、2，加熱倉(cāng)室3、4、5，濺鍍倉(cāng)室6、7、8、9各倉(cāng)室構(gòu)成導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備主體，各 個(gè)倉(cāng)室之間通過(guò)閥門(mén)12被間隔成相對(duì)獨(dú)立的空間，在導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備主體的下面設(shè)置 有真空系統(tǒng)10，它通過(guò)其上設(shè)置的多個(gè)真空管路11與導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備主體上的各個(gè)倉(cāng) 室連通；該鍍膜工藝的具體步驟是電池在掛有電池掛片箱的傳送導(dǎo)軌的帶動(dòng)下一次兩 片進(jìn)入緩沖倉(cāng)室1，然后依次進(jìn)入加熱倉(cāng)室3、4、5，在三個(gè)加熱倉(cāng)室中分別對(duì)電池片進(jìn)行加 熱，加熱溫度分別是801，1401，2001;加熱完后，電池片進(jìn)入濺鍍倉(cāng)室6、7、8、9，在濺鍍倉(cāng) 室6、7、8、9內(nèi)兩側(cè)設(shè)置有氧化鋅旋轉(zhuǎn)靶材，每側(cè)分別為兩個(gè)，用來(lái)濺鍍氧化鋅透明導(dǎo)電膜， 由于透明導(dǎo)電膜較厚，所以依次在四個(gè)濺鍍倉(cāng)對(duì)電池片進(jìn)行濺鍍四次，以達(dá)到所需要的參 數(shù)；真空系統(tǒng)10通過(guò)連接到各個(gè)倉(cāng)室的真空管路11來(lái)控制各個(gè)倉(cāng)室的真空值，真空濺鍍完 成后電池片經(jīng)緩沖室2進(jìn)入下一個(gè)生產(chǎn)設(shè)備。所述的加熱倉(cāng)室3的溫度設(shè)置為80°C，加熱倉(cāng)室4的溫度設(shè)置為140°C，加熱倉(cāng)室 5的溫度設(shè)置為200°C。所述的濺射倉(cāng)室6、7、8、9采用30KW的直流脈沖電源，頻率為3KHz-350KHz，氣壓 為lOOPa，濺射倉(cāng)室溫度保持200°C，在上述控制條件下，對(duì)濺射的時(shí)間進(jìn)行控制，膜厚為 600nm-800nm(士5% )，可見(jiàn)光透過(guò)率為彡80%，霧度為10% -30%，方阻為8_10 Ω。所述的真空系統(tǒng)10通過(guò)真空管道11連接到設(shè)備主體上的各個(gè)倉(cāng)室，控制設(shè)備主 體上各個(gè)倉(cāng)室的真空值，其中相對(duì)獨(dú)立的所有倉(cāng)室的真空度均為10_4。所述的濺鍍倉(cāng)室6、7、8、9內(nèi)兩側(cè)設(shè)置有用來(lái)濺鍍氧化鋅透明導(dǎo)電膜的氧化鋅旋 轉(zhuǎn)靶材13，每側(cè)分別為兩個(gè)。
權(quán)利要求
1.一種應(yīng)用于太陽(yáng)能電池導(dǎo)電玻璃的鍍膜工藝，其特征在于該鍍膜工藝是利用導(dǎo)電 玻璃鍍膜設(shè)備，通過(guò)以下工藝步驟實(shí)現(xiàn)的，所述的導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備包括設(shè)備主體兩端設(shè) 置的緩沖倉(cāng)室(1)、O)，靠近緩沖倉(cāng)室(1)依次排列設(shè)置的加熱倉(cāng)室(3)、0)、(5)，設(shè)置在 加熱倉(cāng)室(5)和緩沖倉(cāng)室(2)之間的依次排列的濺鍍倉(cāng)室(6)、(7)、(8)、(9)，所述的緩沖 倉(cāng)室(1)、(2)，加熱倉(cāng)室(3)、(4)、(5)，濺鍍倉(cāng)室(6)、(7)、(8)、(9)各倉(cāng)室構(gòu)成導(dǎo)電玻璃鍍 膜設(shè)備主體，各個(gè)倉(cāng)室之間通過(guò)閥門(mén)(1 被間隔成相對(duì)獨(dú)立的空間，在導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備 主體的下面設(shè)置有真空系統(tǒng)(10)，它通過(guò)其上設(shè)置的多個(gè)真空管路(11)與導(dǎo)電玻璃鍍膜 設(shè)備主體上的各個(gè)倉(cāng)室連通；該鍍膜工藝的具體步驟是電池在掛有電池掛片箱的傳送導(dǎo)軌的帶動(dòng)下一次兩片進(jìn)入 緩沖倉(cāng)室(1)，然后依次進(jìn)入加熱倉(cāng)室(3)、0)、(5)，在三個(gè)加熱倉(cāng)室中分別對(duì)電池片進(jìn)行 加熱，加熱溫度分別是80°C，14(TC，20(rC ；加熱完后，電池片進(jìn)入濺鍍倉(cāng)室(6)、(7)、(8)、 (9)，在濺鍍倉(cāng)室(6)、(7)、(8)、(9)內(nèi)兩側(cè)設(shè)置有氧化鋅旋轉(zhuǎn)靶材，每側(cè)分別為兩個(gè)，用來(lái) 濺鍍氧化鋅透明導(dǎo)電膜，由于透明導(dǎo)電膜較厚，所以依次在四個(gè)濺鍍倉(cāng)對(duì)電池片進(jìn)行濺鍍 四次，以達(dá)到所需要的參數(shù)；真空系統(tǒng)(10)通過(guò)連接到各個(gè)倉(cāng)室的真空管路(11)來(lái)控制各 個(gè)倉(cāng)室的真空值，真空濺鍍完成后電池片經(jīng)緩沖室( 進(jìn)入下一個(gè)生產(chǎn)設(shè)備。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于太陽(yáng)能電池導(dǎo)電玻璃的鍍膜工藝，其特征在于 所述的加熱倉(cāng)室(3)的溫度設(shè)置為80°C，加熱倉(cāng)室的溫度設(shè)置為140°C，加熱倉(cāng)室(5) 的溫度設(shè)置為200°C。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于太陽(yáng)能電池導(dǎo)電玻璃的鍍膜工藝，其特征在于 所述的濺射倉(cāng)室(6)、(7)、(8)、(9)采用30KW的直流脈沖電源，頻率為3KHz-350KHz，氣 壓為lOOPa，濺射倉(cāng)室溫度保持200°C，在上述控制條件下，對(duì)濺射的時(shí)間進(jìn)行控制，膜厚為 600nm-800nm(士5% )，可見(jiàn)光透過(guò)率為彡80%，霧度為10% -30%，方阻為8-10 Ω。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于太陽(yáng)能電池導(dǎo)電玻璃的鍍膜工藝，其特征在于 所述的真空系統(tǒng)(10)通過(guò)真空管道(11)連接到設(shè)備主體上的各個(gè)倉(cāng)室，控制設(shè)備主體上 各個(gè)倉(cāng)室的真空值，其中相對(duì)獨(dú)立的所有倉(cāng)室的真空度均為10_4。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于太陽(yáng)能電池導(dǎo)電玻璃的鍍膜工藝，其特征在于 所述的濺鍍倉(cāng)室(6)、(7)、(8)、(9)內(nèi)兩側(cè)設(shè)置有用來(lái)濺鍍氧化鋅透明導(dǎo)電膜的氧化鋅旋 轉(zhuǎn)靶材(13)，每側(cè)分別為兩個(gè)。
全文摘要
本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池生產(chǎn)領(lǐng)域，具體的說(shuō)是一種太陽(yáng)能電池濺渡透明導(dǎo)電膜的導(dǎo)電玻璃的鍍膜工藝。該鍍膜工藝是利用專(zhuān)用的導(dǎo)電玻璃鍍膜設(shè)備實(shí)現(xiàn)的，具體工藝步驟是電池在掛有電池掛片箱的傳送導(dǎo)軌的帶動(dòng)下一次兩片進(jìn)入緩沖倉(cāng)室，然后依次進(jìn)入加熱倉(cāng)室，在三個(gè)加熱室中分別對(duì)電池片進(jìn)行加熱，加熱溫度分別是80℃，140℃，200℃；加熱完后，電池片進(jìn)入濺鍍倉(cāng)室，在濺鍍倉(cāng)室內(nèi)兩側(cè)設(shè)置有氧化鋅旋轉(zhuǎn)靶材，每側(cè)分別為兩個(gè)，用來(lái)濺鍍氧化鋅透明導(dǎo)電膜，由于透明導(dǎo)電膜較厚，所以依次在四個(gè)濺鍍倉(cāng)對(duì)電池片進(jìn)行濺鍍四次，以達(dá)到所需要的參數(shù)；真空系統(tǒng)通過(guò)連接到各個(gè)倉(cāng)室的真空管路來(lái)控制各個(gè)倉(cāng)室的真空值，真空濺鍍完成后-電池片經(jīng)緩沖室進(jìn)入下一個(gè)生產(chǎn)設(shè)備。
文檔編號(hào)C23C14/08GK102102179SQ20091021814
公開(kāi)日2011年6月22日 申請(qǐng)日期2009年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月17日
發(fā)明者于敬, 劉萬(wàn)學(xué), 劉海濤, 張兵, 朱艷偉, 李宇, 楊繼澤, 程明輝 申請(qǐng)人:吉林慶達(dá)新能源電力股份有限公司