專利名稱：真空鍍膜設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及微電子技術領域，特別涉及一種真空鍍膜設備。
背景技術：
真空鍍膜是指在真空室內，在一定的壓力、溫度和反應物狀態(tài)等條件下，通過化 學、物理等方法將生成物沉積到目標物上的技術。真空鍍膜的方法有很多種，比如真空蒸 鍍、化學氣相沉積、物理氣相沉積等。請參考圖1，圖1為現(xiàn)有技術中第一種典型的真空鍍膜設備的結構示意圖。真空鍍膜設備包括進氣閥門11、密閉的真空腔體12、壓力傳感器13、壓力控制閥 14、截止閥15、真空泵16以及管路等；其中，真空泵16主要用于抽出真空腔體12中的氣體， 使真空腔體12的內部形成真空；壓力傳感器13主要用于測量真空腔體12中的壓力，以便 對真空腔體12的壓力進行控制；截止閥15主要用于斷開或者連接真空腔體12和真空泵 16;壓力控制閥14主要用于改變真空腔體12內部的壓力，壓力控制閥14的種類很多，主要 有蝶閥、擺閥和針閥等，它可以通過改變氣流流通的截面面積，增大或者減小氣流的流通阻 力，進而改變氣體的流量，實現(xiàn)真空腔體12內的壓力的改變。在加工過程中，工藝氣體經(jīng)過進氣閥門11進入真空腔體12，在真空腔體12內向目 標物上進行沉積，同時，壓力傳感器13隨時檢測真空腔體12內的壓力，如果壓力過大，真空 泵16將對其進行抽真空，使部分工藝氣體經(jīng)過壓力控制閥14和截止閥15被抽走，在此過 程中，壓力控制閥14可以通過控制工藝氣體的流量控制真空腔室12內的氣體的壓力。為 描述方便，我們將壓力控制閥14、截止閥15以及真空泵16整體稱為壓力調節(jié)部件。當工藝氣體在真空泵16的作用下流經(jīng)壓力調節(jié)部件時，對其也有沉積作用，而沉 積物會影響這些部件的工作性能，尤其會對壓力控制閥14的性能產(chǎn)生影響，導致出現(xiàn)閥門 泄漏、壓力控制不穩(wěn)定等情況，因此，通常需要定期處理真空鍍膜設備的沉積物，以保證其 正常工作。為了減少沉積物在壓力調節(jié)部件及其連接管路上的沉積，現(xiàn)有技術中，對上述真 空鍍膜設備進行了改進。請參考圖2，圖2為現(xiàn)有技術中第二種典型的真空鍍膜設備的結構示意圖。與第一種真空鍍膜設備相比，第二種真空鍍膜設備還包括濾網(wǎng)17，且濾網(wǎng)17連接 于真空腔室12和壓力控制閥14之間，對流過的工藝氣體進行過濾，從而可以濾掉尺寸超過 濾網(wǎng)17的孔徑的顆粒，減少氣體在壓力調節(jié)部件及其連接管路上的沉積。然而，濾網(wǎng)17的孔徑大小直接影響著過濾效果當濾網(wǎng)17的孔徑較小時，過濾的 作用好，但是濾網(wǎng)17很容易發(fā)生堵塞，經(jīng)常需要進行清理和維護，由于濾網(wǎng)17的孔徑小，清 理和維護過程的困難較大；當濾網(wǎng)17的孔徑較大時，過濾作用又較差，難以滿足需要。因此，如何在有效地減少沉積物顆粒沉積于壓力調節(jié)部件及其連接管路上的基礎 上，降低沉積裝置的清理和維護難度是本領域技術人員目前需要解決的技術問題。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的是提供一種真空鍍膜設備，該真空鍍膜設備能夠在有效地減少沉積 物顆粒沉積于壓力調節(jié)部件及其連接管路上的基礎上，降低沉積裝置的清理和維護難度。為解決上述技術問題，本發(fā)明提供一種真空鍍膜設備，包括真空腔體和用于控制 真空腔體內部壓力的壓力調節(jié)部件，所述真空腔體和所述壓力調節(jié)部件之間連接有沉積裝 置，所述沉積裝置包括沉積腔體和位于所述沉積腔體內的阻隔部件，所述阻隔部件與所述 沉積腔體的側壁形成彎曲的氣流通道。進一步，所述阻隔部件為隔板，且所述隔板上相對的兩端中的第一端安裝于所述 沉積腔體的側壁，第二端距離所述沉積腔體的側壁適當距離。進一步，所述隔板包括第一隔板和第二隔板，所述側壁包括相對設置的第一側壁 和第二側壁；所述第一隔板的第一端安裝于所述第一側壁，其第二端距離所述第二側壁適 當距離；所述第二隔板的第一端安裝于所述第二側壁，其第二端距離所述第一側壁適當距
1 O進一步，所述第一隔板的數(shù)目和所述第二隔板的數(shù)目均為多個，且二者沿所述氣 體的流通方向間隔設置。進一步，所述第一側壁和所述第二側壁分體設置。進一步，所述隔板具有平面結構或者弧面結構。進一步，所述沉積裝置還包括收集腔，所述收集腔安裝于所述沉積腔體的下方，且 所述收集腔的頂壁與所述沉積腔體的底壁相通。進一步，所述收集腔的側壁設置有觀察窗。進一步，所述收集腔的側壁設置有排出口。進一步，所述沉積裝置還包括溫度調節(jié)部件，用于改變所述沉積腔體的溫度。進一步，所述溫度調節(jié)部件為水管，所述水管繞于所述沉積腔體的外側。進一步，所述沉積裝置還包括振動部件，用于使所述沉積腔體振動。進一步，所述振動部件為由動力部件驅動的凸輪，所述凸輪安裝于所述沉積腔體 的下方。進一步，還包括旁路管道和旁路截止閥，所述旁路管道在所述旁路截止閥的作用 下可選擇地連通所述真空腔體和所述壓力調節(jié)部件。本發(fā)明所提供的真空鍍膜設備，包括真空腔體和用于控制真空腔體內部壓力的壓 力調節(jié)部件，真空腔體和壓力調節(jié)部件之間連接有沉積裝置，沉積裝置包括沉積腔體和位 于沉積腔體內的阻隔部件，阻隔部件與沉積腔體的側壁形成彎曲的氣流通道。工作過程中， 工藝氣體流入真空腔體中，對目標物進行沉積作用，同時為了保證真空腔體的壓力滿足沉 積要求，壓力調節(jié)部件對真空腔體內的壓力進行調節(jié)，在工藝氣體在壓力調節(jié)部件的真空 泵的作用下流經(jīng)壓力調節(jié)部件之前，工藝氣體首先流經(jīng)沉積腔體內由阻隔部件和沉積腔體 的側壁形成的彎曲的氣流通道，彎曲的氣流通道增強了沉積物顆粒在阻隔部件和沉積腔體 上的沉積作用，從而減小了由沉積裝置流出的工藝氣體中的沉積物顆粒的數(shù)量，降低了流 經(jīng)壓力調節(jié)部件的工藝氣體的沉積物顆粒濃度，從而減輕了沉積物顆粒在壓力調節(jié)部件及 其連接管路中的沉積；另一方面，當阻隔部件和側壁上的沉積物達到一定程度時，沉積物所 形成的膜就會脫落，此時，只需要清理掉脫離的沉積物即可，從而使得清理過程非常方便，降低了沉積裝置的清理和維護難度。在一種優(yōu)選實施方式中，本發(fā)明所提供的真空鍍膜設備的沉積裝置還包括收集 腔，收集腔安裝于沉積腔體的下方，且收集腔的頂壁與沉積腔體的底壁相通。這樣，當沉積 腔體內的沉積物到達一定程度自動脫落時，沉積物就會在其自身重力的作用下，落到位于 沉積腔體下方的收集腔中；當收集腔收集沉積物到一定程度時，再對收集腔進行清理，從而 進一步降低了清理和維護的難度、并且減少了清理和維護的次數(shù)。在另一種優(yōu)選實施方式中，本發(fā)明所提供的真空鍍膜設備的沉積裝置還包括用于 改變沉積腔體的溫度的溫度調節(jié)部件，從而控制沉積腔體的溫度，當工藝氣體中的沉積物 顆粒在低溫下比較容易沉積時，溫度調節(jié)部件可以降低沉積腔體的溫度，增加沉積物顆粒 的沉積；當工藝氣體中的沉積物顆粒在高溫下比較容易沉積時，溫度調節(jié)部件可以升高沉 積腔體的溫度，同樣增加沉積物顆粒的沉積。在另一種優(yōu)選實施方式中，本發(fā)明所提供的真空鍍膜設備還包括旁路管道和旁路 截止閥，旁路管道在旁路截止閥的作用下可選擇地連通真空腔體和壓力調節(jié)部件。沉積裝 置的設置會增大真空鍍膜設備的氣流通道的阻力，影響壓力調節(jié)部件的真空泵的抽氣能 力，旁路通道和旁路截止閥的設置，可以在需要真空腔體快速達到適當?shù)恼婵斩葧r，連通真 空腔體和壓力調節(jié)部件，從而使真空腔體能夠盡快地達到所需要的真空值。


圖1為現(xiàn)有技術中第一種典型的真空鍍膜設備的結構示意圖；圖2為現(xiàn)有技術中第二種典型的真空鍍膜設備的結構示意圖；圖3為本發(fā)明第一種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的結構示意圖；圖4為本發(fā)明第一種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的沉積腔體的結構示 意圖；圖5為本發(fā)明第二種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的沉積腔體的結構示 意圖；圖6為本發(fā)明第三種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的沉積腔體的結構示 意圖；圖7為本發(fā)明第四種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的沉積腔體的結構示 意圖；圖8為本發(fā)明第五種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的沉積腔體的結構示 意圖；圖9為本發(fā)明第二種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的結構示意圖。
具體實施例方式本發(fā)明的核心是提供一種真空鍍膜設備，該真空鍍膜設備能夠在有效地減少沉積 物顆粒沉積于壓力調節(jié)部件及其連接管路上的基礎上，降低沉積裝置的清理和維護難度。為了使本技術領域的技術人員更好地理解本發(fā)明的方案，下面結合附圖和具體實 施方式對本發(fā)明作進一步的詳細說明。請參考圖3和圖4，圖3為本發(fā)明第一種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的結構示意圖；圖4為本發(fā)明第一種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的沉積腔體的結構示 意圖。在一種具體實施方式
中，本發(fā)明所提供的真空鍍膜設備，包括進氣閥門21、真空腔 體22和壓力調節(jié)部件M，還包括用于檢測真空腔體22的真空度的壓力傳感器23，壓力調 節(jié)部件M用于控制真空腔體內部壓力，包括壓力控制閥Ml、截止閥242和真空泵M3，真 空腔體22和壓力調節(jié)部件M之間連接有沉積裝置27，沉積裝置27包括沉積腔體271和位 于沉積腔體271內的阻隔部件，阻隔部件與沉積腔體271的側壁形成彎曲的氣流通道。工作過程中，工藝氣體經(jīng)過進氣閥門21進入真空腔體22，對放置于真空腔室22內 部的目標物進行沉積作用，與此同時，為了保證真空腔體22的壓力滿足沉積要求，壓力調 節(jié)部件M對真空腔體22內的壓力進行調節(jié)，工藝氣體在壓力調節(jié)部件M的真空泵243的 作用下流經(jīng)沉積裝置27，壓力調節(jié)部件M的壓力控制閥Ml、截止閥M2以及真空泵M3， 可以看出，工藝氣體在流經(jīng)壓力調節(jié)部件M之前，首先通過沉積腔體271的氣流入口 273 進入沉積腔體271，流經(jīng)沉積腔體271內由阻隔部件和沉積腔體271的側壁形成的彎曲的 氣流通道，通過沉積腔體271的氣流出口 274流出沉積腔體271，然后才流入壓力調節(jié)部件 24。這樣，一方面，由于位于沉積腔體271內的阻隔部件和沉積腔體271的側壁形成 的彎曲的氣流通道，增強了沉積物顆粒在流通過程中的沉積作用，從而減少了流出的工藝 氣體中的沉積物顆粒，降低了流經(jīng)壓力調節(jié)部件M的工藝氣體的沉積物顆粒濃度，減輕了 沉積物顆粒在壓力調節(jié)部件24及其連接管路中的沉積；另一方面，當阻隔部件和沉積腔體 271的側壁上的沉積物達到一定程度時，沉積物在其上所形成的膜就會自動脫落，清理時， 僅需要清理掉沉積腔體271內脫落的沉積物即可，具體地，可以在沉積腔體271的側壁上設 置開口，當需要進行清理時，通過吸塵器由開口處將脫落的沉積物吸出，或者直接將脫落的 沉積物由開口處傾倒出，清理過程非常方便，從而降低了沉積裝置的清理和維護難度。具體地，阻隔部件可以為隔板272，且隔板272上相對的兩端中的第一端安裝于沉 積腔體271的側壁，第二端距離沉積腔體271的側壁適當距離。通過將隔板272安裝于沉 積腔體271的內部，且隔板272的第二端距離沉積腔體271的側壁適當距離，能夠很方便地 形成彎曲的氣流通道，同時，板形結構的設置能夠增大流通過程中氣體與阻隔部件的接觸 面，增大了沉積物顆粒的沉積作用，進一步改善了沉積效果，減少沉積物顆粒在壓力調節(jié)部 件M及其連接管路中的沉積，延長其使用壽命，降低了真空鍍膜設備的使用成本。請參考圖7，圖7為本發(fā)明第四種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的沉積腔 體的結構示意圖。如圖4和圖7所示，隔板272既可以具有平面結構，也可以具有弧面結構，具有平 面結構的隔板272制造加工方便，成本較低；具有弧面結構的隔板具有較好的沉積作用，提 高了沉積效果。當然，隔板272還可以具有其他結構，只要能夠滿足功能要求，都是可以的。阻隔部件還可以具體具有其他結構，本文對此不作限制；隔板等阻擋部件可以固 定于沉積腔體271的側壁，也可以可拆卸地安裝于沉積腔體271的側壁，其具體連接方式也 不應受本文的限制。如圖4所示，隔板272還可以包括第一隔板2721和第二隔板2722，側壁也可以包 括第一側壁2711和第二側壁2712，且第一側壁2711和第二側壁2712相對設置；其中，第一隔板2721的第一端安裝于第一側壁2711，第二端距離第二側壁2712適當距離；第二隔 板2722的第一端安裝于第二側壁2712，第二端距離第一側壁2711適當距離。這樣，隔板272和沉積腔體271的側壁所形成的彎曲的氣流通道的彎折次數(shù)將會 更多，使得工藝氣體中的沉積物顆粒在隔板272和沉積腔體271的側壁上的沉積量更多，對 壓力調節(jié)部件M及其連接管路的保護作用更加明顯。當然，第一隔板2721的數(shù)目和第二隔板2722的數(shù)目均可以為多個，并且可以將第 一隔板2721和第二隔板2722沿工藝氣體的流通方向間隔設置。本文所述的工藝氣體的流 通方向是指沉積腔體271的氣流入口至氣流出口 274的方向。間隔設置的第一隔板2721和第二隔板2722進一步增多了氣流通道的彎折次數(shù)， 增大了流通過程中工藝氣體與隔板272的接觸面積，增強了沉積物顆粒的沉積作用。請參考圖8，圖8為本發(fā)明第五種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的沉積腔 體的結構示意圖。第一側壁2711和第二側壁2712可以分體設置。這樣，就可以首先將隔板272等阻 隔部件安裝于側壁上，然后再組裝形成沉積腔體271，從而方便了隔板272與沉積腔體271 的安裝。當然，為保證密封性能，還可以在連接部位設置密封圈等密封裝置。具體地，如圖8所示，可以使第二側壁2712與沉積腔體271的其他側壁固定連接， 第一側壁2711再與其通過螺栓278進行連接，形成沉積腔體271。當然，還可以通過其他方 式實現(xiàn)第一側壁2711和第二側壁2712的分體式設置，進而實現(xiàn)隔板272與沉積腔體271 的方便安裝。請參考圖5，圖5為本發(fā)明第二種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的沉積腔 體的結構示意圖。在另一種具體實施方式
中，本發(fā)明所提供的真空鍍膜設備的沉積裝置27還可以 包括收集腔276，且收集腔276安裝于沉積腔體271的下方，收集腔276的頂壁與沉積腔體 271的底壁相通。本文所述的下方為將所述沉積裝置27按照圖5所示位置放置時的下方，本文所 述的收集腔276的頂壁是指位于收集腔276上方的側壁，本文所述的沉積腔體271的底壁 是指沉積腔體271下方的側壁，具體地，收集腔276的頂壁與沉積腔體271的底壁相通，可 以采用圖5中所示的結構，即不設置收集腔276的頂壁，將沉積腔體271的底壁作為收集腔 276的頂壁，且在沉積腔體271的底壁上設置通孔；當然，保證收集腔276與沉積腔體271相 通的方式可以有很多種，其具體方式不受本文的限制。這樣，當沉積腔體271內的沉積物到達一定程度脫落時，在重力的作用下，沉積物 落到位于沉積腔體271的下方，并通過其底壁上的通孔落入收集腔276中，當收集到一定程 度時，就可以將收集腔276拆下來進行清理，從而進一步降低了對沉積裝置27進行清理和 維護的難度、并且可以大大減少清理的次數(shù)。為了能夠方便及時地了解收集腔276中的沉積物的收集情況，還可以在收集腔 276的側壁設置觀察窗275。為了方便清理收集腔276中的沉積物，還可以在收集腔276的側壁設置排出口 (圖中未示出)。從而在需要進行沉積物的清理時，無需將收集腔276拆下，只需通過排出 口連接吸塵器等裝置，將收集腔276清理干凈即可。
請參考圖6，圖6為本發(fā)明第三種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的沉積腔 體的結構示意圖。沉積裝置27還可以包括溫度調節(jié)部件277，用于改變所述沉積腔體271的溫度，增 加沉積物顆粒的沉積。當工藝氣體中的沉積物顆粒在低溫下比較容易沉積時，溫度調節(jié)部件277可以為 降溫部件，從而降低沉積腔體271的溫度，增加沉積物顆粒的沉積；當工藝氣體中的沉積物 顆粒在高溫下比較容易沉積時，溫度調節(jié)部件277可以為加熱部件，從而升高沉積腔體271 的溫度，增加沉積物顆粒的沉積。這樣，增加了沉積物顆粒在沉積腔體271內的沉積，就可 以進一步地防止沉積物顆粒隨氣體流出沉積腔體271，增強對壓力調節(jié)部件M的保護作 用。具體地，溫度調節(jié)部件277可以為水管，水管繞于沉積腔體271的外側。當工藝 氣體中的沉積物顆粒在低溫下比較容易沉積時，水管中可以通冷水；當工藝氣體中的沉積 物顆粒在高溫下比較容易沉積時，水管中可以通熱水，當然，此種情況下，溫度調節(jié)部件277 還可以為加熱器。沉積裝置27還可以包括振動部件，用于使沉積腔體271振動。該振動可以是周期 性也可以是非周期性的，當沉積腔體271振動時，可以使沉積于沉積腔體271的側壁以及隔 板272上的沉積物剝離，從而進一步方便了對沉積腔體271的清理。具體地，可以在沉積裝置27的下方安裝一個凸輪，凸輪在電機等動力部件的帶動 下旋轉，就可以實現(xiàn)沉積裝置27的振動。當然，使沉積裝置27產(chǎn)生振動的方式可以有很多 種，并不限于以上所述的方式。請參考圖9，圖9為本發(fā)明第二種具體實施方式
所提供的真空鍍膜設備的結構示 意圖。在另一種具體實施方式
中，本發(fā)明所提供的真空鍍膜設備還包括旁路管道和旁路 截止閥25，旁路管道能夠在旁路截止閥25的作用下可選擇地連通真空腔體22和壓力調節(jié) 部件對。沉積裝置27的設置會增大真空鍍膜設備的氣流通道的阻力，影響了壓力調節(jié)部 件M的真空泵243的抽氣能力，旁路通道和旁路截止閥25的設置，可以在需要真空腔室22 快速達到適當?shù)恼婵斩葧r，連通真空腔體22和壓力調節(jié)部件M，從而使真空腔體22能夠盡 快地達到所需要的真空值。當然，以上所述的各種實施方式的結構，可以在排除相互矛盾的情況下任意組合， 以達到更好的效果。以上對本發(fā)明所提供的真空鍍膜設備進行了詳細介紹。本文中應用了具體個例對 本發(fā)明的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法 及其核心思想。應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前 提下，還可以對本發(fā)明進行若干改進和修飾，這些改進和修飾也落入本發(fā)明權利要求的保 護范圍內。
權利要求
1.一種真空鍍膜設備，包括真空腔體02)和用于控制真空腔體02)內部壓力的壓力 調節(jié)部件(M)，所述真空腔體0 和所述壓力調節(jié)部件04)之間連接有沉積裝置(27)， 其特征在于，所述沉積裝置(XT)包括沉積腔體(271)和位于所述沉積腔體071)內的阻隔 部件，所述阻隔部件與所述沉積腔體071)的側壁形成彎曲的氣流通道。
2.根據(jù)權利要求1所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述阻隔部件為隔板072)，且 所述隔板(27 上相對的兩端中的第一端安裝于所述沉積腔體071)的側壁，第二端距離 所述沉積腔體071)的側壁適當距離。
3.根據(jù)權利要求2所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述隔板包括第一隔板0721) 和第二隔板(2722)，所述側壁包括相對設置的第一側壁0711)和第二側壁071 ；所述第 一隔板0721)的第一端安裝于所述第一側壁(2711)，其第二端距離所述第二側壁0712) 適當距離；所述第二隔板0721)的第一端安裝于所述第二側壁(2712)，其第二端距離所述 第一側壁0711)適當距離。
4.根據(jù)權利要求3所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述第一隔板0721)的數(shù)目和 所述第二隔板072 的數(shù)目均為多個，且二者沿所述氣體的流通方向間隔設置。
5.根據(jù)權利要求3所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述第一側壁0711)和所述第 二側壁071 分體設置。
6.根據(jù)權利要求2所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述隔板(272)具有平面結構或 者弧面結構。
7.根據(jù)權利要求1至6任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述沉積裝置(XT) 還包括收集腔076)，所述收集腔(276)安裝于所述沉積腔體071)的下方，且所述收集腔 (276)的頂壁與所述沉積腔體071)的底壁相通。
8.根據(jù)權利要求7所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述收集腔(276)的側壁設置有 觀察窗(275)。
9.根據(jù)權利要求8所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述收集腔(276)的側壁設置有 排出口。
10.根據(jù)權利要求1至6任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述沉積裝置(Xi) 還包括溫度調節(jié)部件077)，用于改變所述沉積腔體071)的溫度。
11.根據(jù)權利要求10所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述溫度調節(jié)部件(277)為水 管，所述水管繞于所述沉積腔體071)的外側。
12.根據(jù)權利要求1至6任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述沉積裝置(XT) 還包括振動部件，用于使所述沉積腔體(271)振動。
13.根據(jù)權利要求12所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述振動部件為由動力部件 驅動的凸輪，所述凸輪安裝于所述沉積腔體071)的下方。
14.根據(jù)權利要求1至6任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于，還包括旁路管道和 旁路截止閥(25)，所述旁路管道在所述旁路截至閥0 的作用下可選擇地連通所述真空 腔體0 和所述壓力調節(jié)部件04)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種真空鍍膜設備，包括真空腔體(22)和用于控制真空腔體(22)內部壓力的壓力調節(jié)部件(24)，所述真空腔體(22)和所述壓力調節(jié)部件(24)之間連接有沉積裝置(27)，所述沉積裝置(27)包括沉積腔體(271)和位于所述沉積腔體(271)內的阻隔部件，所述阻隔部件與所述沉積腔體(271)的側壁形成彎曲的氣流通道。本發(fā)明所提供的真空鍍膜設備能夠在有效地減少沉積物顆粒沉積于壓力調節(jié)部(24)件及其連接管路上的基礎上，降低沉積裝置的清理和維護難度。
文檔編號C23C14/24GK102080209SQ20091024170
公開日2011年6月1日 申請日期2009年12月1日 優(yōu)先權日2009年12月1日
發(fā)明者姚立強 申請人:北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司