專利名稱：連續(xù)式真空濺鍍裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空濺鍍裝置，特別是涉及一種連續(xù)式真空濺鍍裝置。
背景技術(shù)：
眾所皆知地，真空濺鍍技術(shù)是已廣泛應(yīng)用在眾多產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域中，舉凡半導(dǎo)體制造業(yè)、
光電業(yè)、電子業(yè)......，而為了提高鍍膜產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力，降低設(shè)備與操作成本、縮短周期時(shí)
間(cycle time)、提高產(chǎn)能效率、提升鍍膜品質(zhì)與產(chǎn)品優(yōu)良率......等，則成為業(yè)界所追
求的目標(biāo)方向。因此，連續(xù)式(in-line)多腔體(multi-chambers)真空濺鍍?cè)O(shè)備，在具備 設(shè)備成本低、設(shè)置空間需求較小、周期時(shí)間短，與產(chǎn)能大等優(yōu)勢(shì)下，已漸漸取代傳統(tǒng)的批次
式(batch type)或晶圓式(wafer type)真空濺鍍?cè)O(shè)備。 簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，連續(xù)式真空濺鍍?cè)O(shè)備通常包含一入料腔體(中低真空度)、一鍍膜腔 體(高真空度)與一出料腔體(中低真空度)，待加工基板是一片接一片地連續(xù)輸入或輸 出上述腔體。其中，由于入料腔體(loadlock)必需反復(fù)地抽真空(pumpdown)與破真空 (venting)，而鍍膜腔體是維持在高真空度狀態(tài)下而不需破真空，所以，業(yè)界普遍認(rèn)為，入料 腔體的抽真空與破真空效率會(huì)對(duì)整個(gè)濺鍍制程的周期時(shí)間、產(chǎn)能、污染控制與產(chǎn)品優(yōu)良率 等層面產(chǎn)生直接、顯著的影響。 由此可見，上述現(xiàn)有的連續(xù)式真空濺鍍裝置在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便
與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為解決上述存在的問(wèn)題，相關(guān)廠商莫不費(fèi)盡心思來(lái)謀求解
決之道，但長(zhǎng)久以來(lái)一直未見適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完成，而一般產(chǎn)品又沒(méi)有適切的結(jié)構(gòu)能夠
解決上述問(wèn)題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決的問(wèn)題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的連續(xù)
式真空濺鍍裝置，實(shí)屬當(dāng)前重要研發(fā)課題之一，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進(jìn)的目標(biāo)。 而為了達(dá)到縮短入料腔體的充/抽氣時(shí)間與提高其運(yùn)轉(zhuǎn)速度的目的，常見是從腔
體體積與真空抽氣系統(tǒng)來(lái)進(jìn)行最佳化設(shè)計(jì)，如傳統(tǒng)的方式是以原本的入料腔體搭配較大型
的抽氣泵(泵即幫浦)，目前亦有利用縮小入料腔體體積與縮短抽氣泵的前置管線長(zhǎng)度等 作法。本案申請(qǐng)人則是利用改變?nèi)肓锨惑w的抽氣模式的手段，使入料腔體的抽/排氣效率 與運(yùn)轉(zhuǎn)速度提高，基板能迅速輸入/出入料腔體，以達(dá)縮短周期時(shí)間與提升產(chǎn)能效果。

發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于，克服現(xiàn)有的連續(xù)式真空濺鍍裝置所存在的缺陷，而提供 一種新型結(jié)構(gòu)的連續(xù)式真空濺鍍裝置，所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能優(yōu)化入料腔體的 抽/排氣效率與運(yùn)作速度，可以縮短周期時(shí)間并提增產(chǎn)能的連續(xù)式真空濺鍍裝置，非常適 于實(shí)用。 本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題是采用以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的。依據(jù)本實(shí) 用新型提出的一種連續(xù)式真空濺鍍裝置，其包含一個(gè)入料單元，以及一個(gè)連接該入料單元 的入料抽氣單元，其中該入料單元，具有一個(gè)連接該入料抽氣單元且能進(jìn)行抽真空與破真 空的第一腔體，以及一個(gè)連接該第一腔體與該入料抽氣單元且只進(jìn)行抽真空的第二腔體。[0008] 本實(shí)用新型的目的以及解決其技術(shù)問(wèn)題還可以采用以下的技術(shù)措施來(lái)進(jìn)一步實(shí) 現(xiàn)。 較佳地，前述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其中所述的入料單元還具有一個(gè)設(shè)置在該 第一腔體與該第二腔體間的活動(dòng)閥門，該入料抽氣單元具有一個(gè)連接該第一腔體的第一粗 抽泵、一個(gè)連接該第二腔體的第二粗抽泵、一個(gè)設(shè)置在該第一腔體與該第一粗抽泵間的第 一氣閥，以及一個(gè)設(shè)置在該第二腔體與該第二粗抽泵間的第二氣閥。 較佳地，前述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其中所述的入料抽氣單元具有一個(gè)連接該 第一腔體與該第二腔體的粗抽泵、一個(gè)設(shè)置在該第一腔體與該第二腔體間的第一氣閥、一 個(gè)設(shè)置在該粗抽泵與該第一腔體之間的第二氣閥，以及一個(gè)設(shè)置在該粗抽泵與該第二腔體 間的第三氣閥。 較佳地，前述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其還包含一個(gè)并接該入料單元的第二腔體 的濺鍍單元，以及一個(gè)連接該濺鍍單元的濺鍍抽氣單元，該濺鍍單元具有一個(gè)連接該第二 腔體的工作腔體，該濺鍍抽氣單元具有一個(gè)連接該工作腔體的粗抽泵，以及一個(gè)連接該工 作腔體的細(xì)抽泵。 較佳地，前述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其還包含一個(gè)并接該入料單元的第一腔體 的濺鍍單元，以及一個(gè)連接該濺鍍單元的濺鍍抽氣單元，該濺鍍單元具有一個(gè)連接該第一 腔體的工作腔體，該濺鍍抽氣單元具有一個(gè)連接該工作腔體的粗抽泵，以及一個(gè)連接該工 作腔體的細(xì)抽泵。 較佳地，前述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其還包含一個(gè)并接該濺鍍單元的出料單元， 以及一個(gè)連接該出料單元的出料抽氣單元，該出料單元具有一個(gè)出料腔體，該出料抽氣單 元具有一個(gè)連接該出料腔體的粗抽泵。 較佳地，前述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其還包含一個(gè)氣隔單元，該氣隔單元具有一 個(gè)阻隔設(shè)置在外界環(huán)境與該第一腔體之間的入料閥門、一個(gè)阻隔設(shè)置在該入料單元與該工 作腔體之間的加工入口閥門、一個(gè)阻隔設(shè)置在該工作腔體與該出料腔體之間的加工出口閥 門，以及一個(gè)阻隔設(shè)置該出料腔體與外界環(huán)境之間的出料閥門。 本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本 實(shí)用新型連續(xù)式真空濺鍍裝置至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果本實(shí)用新型利用該第二腔體 是持續(xù)維持在低于環(huán)境氣壓的特定真空狀態(tài)下而不需破真空的設(shè)計(jì)，具有能優(yōu)化該第一腔 體的抽/排氣效率，因而提高該入料單元的運(yùn)作速度，使整體產(chǎn)生周期時(shí)間縮短與產(chǎn)能提 升等功效。 綜上所述，本實(shí)用新型提供一種能優(yōu)化入料腔體的抽/排氣效率與運(yùn)作速度，可
以縮短周期時(shí)間并提增產(chǎn)能的連續(xù)式真空濺鍍裝置，非常適于實(shí)用。本實(shí)用新型在技術(shù)上
有顯著的進(jìn)步，并具有明顯的積極效果，誠(chéng)為一新穎、進(jìn)步、實(shí)用的新設(shè)計(jì)。 上述說(shuō)明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技
術(shù)手段，而可依照說(shuō)明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本實(shí)用新型的上述和其他目的、特征
和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說(shuō)明如下。

圖1是本實(shí)用新型連續(xù)式真空濺鍍裝置一第一較佳實(shí)施例的示意圖。[0019] 圖2是本實(shí)用新型連續(xù)式真空濺鍍裝置一第二較佳實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施方式
為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下 結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本實(shí)用新型提出的連續(xù)式真空濺鍍裝置其具體實(shí)施方式
、 結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。 有關(guān)本實(shí)用新型的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)及功效，在以下配合參考圖式的較 佳實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明中將可清楚的呈現(xiàn)。通過(guò)具體實(shí)施方式
的說(shuō)明，當(dāng)可對(duì)本實(shí)用新型為 達(dá)成預(yù)定目的所采取的技術(shù)手段及功效得一更加深入且具體的了解，然而所附圖式僅是提 供參考與說(shuō)明之用，并非用來(lái)對(duì)本實(shí)用新型加以限制。在本實(shí)用新型被詳細(xì)描述前，要注意 的是，在以下的說(shuō)明內(nèi)容中，類似的元件是以相同的編號(hào)來(lái)表示 請(qǐng)參閱圖1所示，是本實(shí)用新型連續(xù)式真空濺鍍裝置第一較佳實(shí)施例的示意圖。 本實(shí)用新型第一較佳實(shí)施例的連續(xù)式真空濺鍍裝置2，包含一個(gè)入料單元21、一個(gè)并接該 入料單元21的濺鍍單元22、一個(gè)并接該濺鍍單元22的出料單元23、一個(gè)連接該入料單元 21的入料抽氣單元24、一個(gè)連接該濺鍍單元22的濺鍍抽氣單元25、一個(gè)連接該出料單元 23的出料抽氣單元26，以及一個(gè)用以阻隔該入料單元21、該濺鍍單元22與該出料單元23 的氣隔單元27。其中，該入料單元21、該濺鍍單元22與該出料單元23是依序排成一直列 狀。 該入料單元21，具有一個(gè)第一腔體211、一個(gè)串聯(lián)該第一腔體211的第二腔體213， 以及一個(gè)設(shè)置在該第一腔體211與第二腔體213間的活動(dòng)閥門212 ;其中，該第一腔體211 必需反復(fù)地進(jìn)行抽真空與破真空(venting)，該第二腔體213則要維持在低于一大氣壓的 特定真空度狀態(tài)，而不需破真空。 該入料抽氣單元24，具有一個(gè)連接第一腔體211的第一粗抽泵241、一個(gè)連接該第 二腔體213的第二粗抽泵242、一個(gè)設(shè)置在該第一腔體211與該第一粗抽泵241之間且用以 控制二者是否連通的第一氣閥243，以及一個(gè)設(shè)置在該第二腔體213與該第二粗抽泵242之 間且用以控制二者是否連通的第二氣閥244 ;本實(shí)施例中，該第一粗抽泵241與該第二粗抽 泵242皆是機(jī)械泵，如魯式泵或旋轉(zhuǎn)葉片泵。該第一粗抽泵241能使該第一腔體211的壓 力從一環(huán)境氣壓值降至一預(yù)抽真空壓力值，而該第二粗抽泵242能使該第二腔體213的壓 力維持在小于該預(yù)抽真空壓力值的一送出真空壓力值；本實(shí)施例中，該環(huán)境氣壓值為一大 氣壓=latm = 760torr，該預(yù)抽真空壓力值為10—、orr，而該送出真空壓力值為10—2torr。 該濺鍍單元22，具有四個(gè)依序排成一直列狀的工作腔體221 224，在該四工作腔 體221 224中是分別進(jìn)行基板加熱、鍍膜、鍍膜與膜加熱改質(zhì)處理等作業(yè)，有關(guān)相關(guān)作業(yè) 的機(jī)件運(yùn)作細(xì)節(jié)則是該技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)的技術(shù)人員所熟知，且非關(guān)本實(shí)用新型的 技術(shù)特征，故此不再詳述；本實(shí)施例中，工作腔體221 224的數(shù)量是四個(gè)，當(dāng)然也能是一個(gè) 或應(yīng)需求以增減。 該濺鍍抽氣單元25，具有四個(gè)分別連接該四工作腔體221 224的粗抽泵251，以 及四個(gè)分別連接該四工作腔體221 224的細(xì)抽泵252 ;以連接同一工作腔體221的粗抽 泵251與細(xì)抽泵252來(lái)說(shuō)明，二者是依序啟動(dòng)以對(duì)該工作腔體221進(jìn)行二段式抽真空，簡(jiǎn) 單地說(shuō)，首先是該粗抽泵251對(duì)該工作腔體221抽氣至呈中低真空度狀態(tài)(> 10—3tOTr)，接著，該細(xì)抽泵252再繼續(xù)對(duì)該工作腔體221抽氣至呈高真空度狀態(tài)(< 10—3torr)，此后， 該工作腔體221便持續(xù)維持在高真空度狀態(tài)而不需破真空，有關(guān)二段式抽真空的其他操 作細(xì)節(jié)，同樣是該技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)的技術(shù)人員所熟知，且非關(guān)本實(shí)用新型的技術(shù) 特征，故此不再詳述。本實(shí)施例中，粗抽泵251也是機(jī)械泵，而細(xì)抽泵252為渦輪泵、擴(kuò)散 泵......等高真空泵。 該出料單元23，具有一個(gè)出料腔體231，在此能進(jìn)行吹凈、冷卻等作業(yè)。該出料抽 氣單元26，具有一個(gè)連接該出料腔體231的粗抽泵261。該出料腔體231同樣必需反復(fù)地 被抽真空與破真空，而該粗抽泵261能使該出料腔體231的內(nèi)部氣壓從常壓降呈中低真空 度狀態(tài)(約10—2torr)。本實(shí)施例中，該粗抽泵261同樣是機(jī)械泵。 該氣隔單元27，具有一個(gè)用以阻隔外界環(huán)境與該第一腔體211的入料閥門271、一 個(gè)用以阻隔該第二腔體213與該工作腔體221的加工入口閥門272、三個(gè)用以分隔該四工作 腔體221 224的氣密閥門273、一個(gè)用以阻隔該工作腔體224與該出料腔體231的加工出 口閥門274，以及一個(gè)用以阻隔該出料腔體231與外界環(huán)境的出料閥門275。利用該加工入 口閥門272、該三氣密閥門273與該加工出口閥門274，能避免該第二腔體213、該四工作腔 體221 224與該出料腔體231相互污染，以維持個(gè)別的真空度與潔凈度要求。 在操作該連續(xù)式真空濺鍍裝置2時(shí)，基板1是一片接一片地連續(xù)輸送經(jīng)該入料單 元21、該濺鍍單元22與該出料單元23，也就是說(shuō)，該入料單元21、該濺鍍單元22與該出料 單元23是同時(shí)在運(yùn)作的。在送入第一片基板1前，控制該氣隔單元27的入料閥門271、加 工入口閥門272、氣密閥門273、加工出口閥門274與出料閥門275等皆為封閉，并啟動(dòng)該 入料抽氣單元24的第二粗抽泵242(該第二氣閥244為開啟)與該濺鍍抽氣單元25，以分 別使該第二腔體213維持在中低真空度狀態(tài)(約10—2torr)、該濺鍍單元22的四工作腔體 221 224維持在高真空度狀態(tài)(約10—6torr)，另外對(duì)該第一腔體211與該出料腔體231 進(jìn)行破真空。 接著，將基板1裝載在承載盤3上，并開啟該入料閥門271，以使基板1連同承載盤 3 —并送入該第一腔體211中，隨后關(guān)閉該入料閥門271，并啟動(dòng)該入料抽氣單元24的第一 粗抽泵241 (該第一氣閥243為開啟)，待該第一腔體211達(dá)該預(yù)抽真空壓力(約10—、orr) 時(shí)，該活動(dòng)閥門212便會(huì)開啟以使基板1移送至該第二腔體213中；隨后該活動(dòng)閥門212再 關(guān)閉，該第一粗抽泵241與該第一氣閥243皆關(guān)閉，該第一腔體211便進(jìn)行破真空，以準(zhǔn)備 讓下一片基板l移入。直到確認(rèn)該第二腔體213已達(dá)該送出真空壓力(約10—2torr)后，該 加工入口閥門272會(huì)開啟以使基板1移進(jìn)入該工作腔體221中。 基板1在移送入該工作腔體221中后，配合控制氣密閥門273的適時(shí)啟閉，基板1 便能依序移經(jīng)該四工作腔體221 224以進(jìn)行加溫、鍍膜、鍍膜與膜加熱改質(zhì)處理等加工， 完成上述加工作業(yè)后，該加工出口閥門274會(huì)開啟，讓鍍膜成品從該工作腔體224移出并移 送入該出料腔體231中，以進(jìn)行后續(xù)的吹凈、冷卻等作業(yè)，最后開啟該出料閥門275，將鍍膜 成品與承載盤3 —并移出，再將鍍膜成品取下就可以了。 因此，利用該第一腔體211與第二腔體213的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，降低該第一腔體211的真 空度要求，使該第一腔體211能夠快速地抽真空(從latm抽至10—Horr)與破真空，配合該 第二腔體213不需破真空而持續(xù)維持在能將基板1移至該濺鍍單元22中的送出真空壓力 狀態(tài)下，使得基板1能夠快速地進(jìn)、出該入料單元21，有效地優(yōu)化該入料單元21的抽/排氣效率與運(yùn)作速度，進(jìn)而讓該連續(xù)式真空濺鍍裝置2整體能夠產(chǎn)生周期時(shí)間縮短與產(chǎn)能提升 等功效。 請(qǐng)參閱圖2所示，是本實(shí)用新型連續(xù)式真空濺鍍裝置一第二較佳實(shí)施例的示意 圖。為本實(shí)用新型第二較佳實(shí)施例的連續(xù)式真空濺鍍裝置2，與上述第一較佳實(shí)施例不同 處在于，該入料單元21的該第一腔體211與第二腔體213為并聯(lián)，其中，基板1自該第一腔 體211移出后便直接移送入該濺鍍單元22的工作腔體221內(nèi)。再者，該入料抽氣單元24 是包含一個(gè)連接該第一腔體211與第二腔體213的粗抽泵245、一個(gè)設(shè)置在該第一腔體211 與第二腔體213間且用以控制二者是否連通的第一氣閥246、一個(gè)設(shè)置在該粗抽泵245與該 第一腔體211間且用以控制二者是否連通的第二氣閥247，以及一個(gè)設(shè)置在該第一腔體211 與第二腔體213且用以控制二者是否連通的第三氣閥248。另外，該加工入口閥門272是設(shè) 置在該第一腔體21與該工作腔體221間，同樣地，在該粗抽泵245對(duì)該第一腔體211抽真 空達(dá)該送出真空壓力值(約10—2torr)時(shí)，該加工入口閥門272便打開。 在該入料單元21與該入料抽氣單元24的運(yùn)作過(guò)程中，該粗抽泵245是持續(xù)對(duì)該 第二腔體213進(jìn)行抽真空，該第三氣閥248是常開狀態(tài)，使該第二腔體213 —直維持在低 于該環(huán)境氣壓的特定真空度狀態(tài)下而不需破真空，再配合控制該第一氣閥246、該第二氣 閥247的適時(shí)啟閉，例如在該第一腔體211在進(jìn)行抽真空時(shí)，該第一氣閥246與該第二氣 閥247需要開啟，而在該第一腔體211進(jìn)行破真空時(shí)，則關(guān)閉該第一氣閥246與該第二氣閥 247，如此一來(lái)，便能夠有效地提高該第一腔體211的抽真空與破真空效率，讓基板1能夠迅 速輸進(jìn)/出該第一腔體211以繼續(xù)移進(jìn)入該濺鍍單元22中，所以同樣能使整體達(dá)到縮短周 期時(shí)間與提升產(chǎn)能等功效。 綜上所述，本實(shí)用新型的連續(xù)式真空濺鍍裝置2，能夠有效優(yōu)化該入料單元211的 抽/排氣效率與運(yùn)作速度，進(jìn)而讓整體產(chǎn)生周期時(shí)間縮短與產(chǎn)能提升等功效，所以，確實(shí)能 達(dá)成本實(shí)用新型的目的及功效。 以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上 的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟 悉本專業(yè)的技術(shù)人員在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容 作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi) 容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍 屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求一種連續(xù)式真空濺鍍裝置，包含一個(gè)入料單元，以及一個(gè)連接該入料單元的入料抽氣單元，其特征在于該入料單元，具有一個(gè)連接該入料抽氣單元且能進(jìn)行抽真空與破真空的第一腔體，以及一個(gè)連接該第一腔體與該入料抽氣單元且只進(jìn)行抽真空的第二腔體。
2. 如權(quán)利要求1所述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其特征在于其中所述的入料單元還具有 一個(gè)設(shè)置在該第一腔體與該第二腔體間的活動(dòng)閥門，該入料抽氣單元具有一個(gè)連接該第一 腔體的第一粗抽泵、一個(gè)連接該第二腔體的第二粗抽泵、一個(gè)設(shè)置在該第一腔體與該第一 粗抽泵間的第一氣閥，以及一個(gè)設(shè)置在該第二腔體與該第二粗抽泵間的第二氣閥。
3. 如權(quán)利要求1所述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其特征在于其中所述的入料抽氣單元具 有一個(gè)連接該第一腔體與該第二腔體的粗抽泵、一個(gè)設(shè)置在該第一腔體與該第二腔體間的 第一氣閥、一個(gè)設(shè)置在該粗抽泵與該第一腔體間的第二氣閥，以及一個(gè)設(shè)置在該粗抽泵與 該第二腔體間的第三氣閥。
4. 如權(quán)利要求2所述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其特征在于其還包含一個(gè)并接該入料單 元的第二腔體的濺鍍單元，以及一個(gè)連接該濺鍍單元的濺鍍抽氣單元，該濺鍍單元具有一 個(gè)連接該第二腔體的工作腔體，該濺鍍抽氣單元具有一個(gè)連接該工作腔體的粗抽泵，以及 一個(gè)連接該工作腔體的細(xì)抽泵。
5. 如權(quán)利要求3所述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其特征在于其還包含一個(gè)并接該入料單 元的第一腔體的濺鍍單元，以及一個(gè)連接該濺鍍單元的濺鍍抽氣單元，該濺鍍單元具有一 個(gè)連接該第一腔體的工作腔體，該濺鍍抽氣單元具有一個(gè)連接該工作腔體的粗抽泵，以及 一個(gè)連接該工作腔體的細(xì)抽泵。
6. 如權(quán)利要求4或5所述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其特征在于其還包含一個(gè)并接該濺 鍍單元的出料單元，以及一個(gè)連接該出料單元的出料抽氣單元，該出料單元具有一個(gè)出料 腔體，該出料抽氣單元具有一個(gè)連接該出料腔體的粗抽泵。
7. 如權(quán)利要求6所述的連續(xù)式真空濺鍍裝置，其特征在于其還包含一個(gè)氣隔單元，該 氣隔單元具有一個(gè)阻隔設(shè)置在外界環(huán)境與該第一腔體之間的入料閥門、一個(gè)阻隔設(shè)置在該入料單元與該工作腔體之間的加工入口閥門、一個(gè)阻隔設(shè)置在該工作腔體與該出料腔體之 間的加工出口閥門，以及一個(gè)阻隔設(shè)置該出料腔體與外界環(huán)境之間的出料閥門。
專利摘要本實(shí)用新型是有關(guān)于一種連續(xù)式真空濺鍍裝置，包含一個(gè)入料單元，以及一個(gè)入料抽氣單元。該入料單元具有一個(gè)連接該入料抽氣單元且能進(jìn)行抽真空與破真空的第一腔體，以及一個(gè)連接該第一腔體與該入料抽氣單元且只進(jìn)行抽真空的第二腔體。本實(shí)用新型借由上述結(jié)構(gòu)，利用該第二腔體是持續(xù)維持在低于環(huán)境氣壓的特定真空狀態(tài)下而不需破真空的設(shè)計(jì)，能優(yōu)化該第一腔體的抽/排氣效率，因而提高該入料單元的運(yùn)作速度，使整體產(chǎn)生周期時(shí)間縮短與產(chǎn)能提升等功效。
文檔編號(hào)C23C14/56GK201501926SQ20092000445
公開日2010年6月9日 申請(qǐng)日期2009年9月4日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月4日
發(fā)明者鄭博仁, 黃泳釗 申請(qǐng)人:北儒精密股份有限公司