專利名稱：瓷質(zhì)薄板磚精拋機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種精拋機，屬于陶瓷制品深加工機械領域，尤其是指一 種瓷質(zhì)薄板磚精拋機。
背景技術：
瓷質(zhì)磚精拋機是瓷質(zhì)薄板磚拋光生產(chǎn)線中的重要設備，通過其所配精拋磨 頭對瓷質(zhì)磚表面進行精細拋光，大幅度提升陶瓷制品表面的平面度，為最后的 上光工序打下良好基礎，所以瓷質(zhì)磚精拋機對瓷質(zhì)磚的拋光效率和拋光質(zhì)量有 著重要影響，是整個拋光工序的核心?，F(xiàn)有的精拋機，其配置模式和工作模式
都是針對普通瓷質(zhì)磚(厚度〉8mm)的。如圖l所示為現(xiàn)有精拋機結(jié)構(gòu)示意圖， 具有一機架1，機架1上設有由皮帶21和皮帶滾筒22組成的輸送機構(gòu)2、及由 橫梁31和橫梁支座32與拋光磨頭33組成的拋光機構(gòu)3。工作時，皮帶21將排 列于其上的瓷質(zhì)磚輸送至拋光磨頭33位置，拋光磨頭33通過橫向和縱向移動 進行準確定位且調(diào)整磨頭的吃刀量對瓷質(zhì)磚進行拋光磨削。
但是，現(xiàn)有的精拋機對于瓷質(zhì)薄板磚(尤其厚度〈8mm)卻不大適用。瓷質(zhì) 薄板磚厚度小，尺寸大，表面平整度和抗壓強度差，而且在生產(chǎn)過程中會產(chǎn)生 一定的變形和彎曲。對瓷質(zhì)薄板磚的精拋光就是要消除瓷質(zhì)薄板磚表面的凹凸 部分，提高瓷質(zhì)薄板磚表面的平整度和光澤度。使用現(xiàn)有精拋機對瓷質(zhì)薄板磚 進行拋光，由于拋光磨頭與薄板磚表面之間會產(chǎn)生接觸力，進刀距離小或者工 作氣壓小會導致接觸力小、拋光效率低、拋光質(zhì)量差，而進刀距離大或者工作 氣壓大則導致接觸力大、瓷質(zhì)薄板磚容易大量碎裂，因此，現(xiàn)有精粗拋機難以 對瓷質(zhì)薄板磚進行有效的精細拋光磨削。

實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術中的缺點與不足，提供一種在現(xiàn)有精拋機基礎上改造而成、能有效解決瓷質(zhì)薄板磚拋光質(zhì)量差且容易破碎問題的瓷 質(zhì)薄板磚精拋機。
為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型按以下技術方案實現(xiàn)
一種瓷質(zhì)薄板磚精拋機，具有一機架，機架上設有由皮帶和皮帶滾筒組成 的輸送機構(gòu)、及由橫梁和橫梁支座與拋光磨頭組成的拋光機構(gòu)；還包括一矯平 機構(gòu)，所述矯平機構(gòu)設有架設于皮帶輸送平面上且與其相互作用對瓷質(zhì)薄板磚 產(chǎn)生夾持壓緊力的矯平膠輥。
進一步，所述矯平膠輥設有調(diào)節(jié)自身松緊度的調(diào)節(jié)件。
進一步，所述調(diào)節(jié)件包括調(diào)節(jié)螺母及由調(diào)節(jié)螺母控制松緊度的調(diào)節(jié)彈簧。 進一步，所述矯平膠輥設于拋光磨頭端側(cè)，其數(shù)量與拋光磨頭適應配合。 本實用新型與現(xiàn)有技術相比，其有益效果為在原有精拋機基礎上加裝瓷
質(zhì)薄板磚的矯平機構(gòu)，能有效消除瓷質(zhì)薄板磚的宏觀變形，并驅(qū)使瓷質(zhì)薄板磚
與皮帶平面之間具有較大的接觸面積，從而有效吸收振動能量，減少瓷質(zhì)薄板
磚的碎裂，為瓷質(zhì)薄板磚后續(xù)的上光工序打下良好基礎。
為了能更清晰的理解本實用新型，以下將結(jié)合附圖說明闡述本實用新型的
具體實施方式
。


圖1是現(xiàn)有精拋機的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是圖2中A的放大示意圖。
圖4是圖2中矯平機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
如圖2—4所示，本實用新型所述的瓷質(zhì)薄板磚具有一機架1，機架1上設 有由皮帶21和皮帶滾筒22組成的輸送機構(gòu)2、及由橫梁31和橫梁支座32與拋 光磨頭33組成的拋光機構(gòu)3。輸送機構(gòu)2的皮帶滾筒22設置于機架1兩端，帶21纏繞于皮帶滾筒22上形成皮帶輸送回路；拋光機構(gòu)3的橫梁支座32固定 于機架1上，橫梁31安設于橫梁支座32上且與橫梁支座32滑動配合，拋光磨 頭33的外形和尺寸比現(xiàn)有拋光磨頭小，且等間距固定于橫梁31上，可隨橫梁 31橫向前后移動。
上述機架1還設有一矯平機構(gòu)4，矯平機構(gòu)4設有架設于皮帶21輸送平面 上且與其相互作用對瓷質(zhì)薄板磚產(chǎn)生夾持壓緊力的矯平膠輥41，矯平膠輥41設 于拋光磨頭33端側(cè)，其數(shù)量與拋光磨頭33適應配合。所述矯平膠輥41設有調(diào) 節(jié)自身松緊度的調(diào)節(jié)件42，調(diào)節(jié)件包括調(diào)節(jié)螺母42及由調(diào)節(jié)螺母42控制松緊 度的調(diào)節(jié)彈簧43，從而適應不同板材、不同進給速度的需求。
本實用新型的工作原理如下所述皮帶21勻速周期轉(zhuǎn)動，帶動排列于皮帶 21上待加工的瓷質(zhì)薄板磚隨皮帶21向前移動至拋光磨頭33位置；在瓷質(zhì)薄板 磚進入拋光磨頭33之前，瓷質(zhì)薄板磚會先通過矯平膠輥41與皮帶21兩者間的 空隙，矯平膠輥41和皮帶21相互作用對通過其空隙的瓷質(zhì)薄板磚產(chǎn)生夾持壓 緊力，從而消除瓷質(zhì)薄板磚的宏觀變形，并使得瓷質(zhì)薄板磚與皮帶21之間具有 較大的接觸面積，有效吸收振動能量，減少瓷質(zhì)薄板磚的碎裂；之后，拋光磨 頭33通過橫向前后移動和縱向上下移動準確定位并對瓷質(zhì)薄板磚進行全面加 工，拋光磨頭33可以在對瓷質(zhì)薄板磚施加很小壓力的情況下，首先對磚表面凸 起的地方進行磨削加工，然后逐層磨削，直至消除瓷質(zhì)薄板磚表面的凹凸部分， 從而為瓷質(zhì)薄板磚后續(xù)的上光工序打下良好基礎。
本實用新型并不局限于上述實施方式，如果對本實用新型的各種改動或變 型不脫離本實用新型的精神和范圍，倘若這些改動和變型屬于本實用新型的權 利要求和等同技術范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型。
權利要求1、一種瓷質(zhì)薄板磚精拋機，具有一機架，機架上設有由皮帶和皮帶滾筒組成的輸送機構(gòu)、及由橫梁和橫梁支座與拋光磨頭組成的拋光機構(gòu)，其特征在于還包括一矯平機構(gòu)，所述矯平機構(gòu)設有架設于皮帶輸送平面上且與其相互作用對瓷質(zhì)薄板磚產(chǎn)生夾持壓緊力的矯平膠輥。
2、 根據(jù)權利要求1所述的瓷質(zhì)薄板磚精拋機，其特征在于所述矯平膠輥設 有調(diào)節(jié)自身松緊度的調(diào)節(jié)件。
3、 根據(jù)權利要求2所述的瓷質(zhì)薄板磚精拋機，其特征在于所述調(diào)節(jié)件包括 調(diào)節(jié)螺母及由調(diào)節(jié)螺母控制松緊度的調(diào)節(jié)彈簧。
4、 根據(jù)權利要求1或2所述的瓷質(zhì)薄板磚精拋機，其特征在于所述矯平膠 輥設于拋光磨頭端側(cè)，其數(shù)量與拋光磨頭適應配合。
專利摘要本實用新型公開了一種瓷質(zhì)薄板磚精拋機。其具有一機架，機架上設有由皮帶和皮帶滾筒組成的輸送機構(gòu)、及由橫梁和橫梁支座與拋光磨頭組成的拋光機構(gòu)；還包括一矯平機構(gòu)，所述矯平機構(gòu)設有架設于皮帶輸送平面上且與其相互作用對瓷質(zhì)薄板磚產(chǎn)生夾持壓緊力的矯平膠輥。本實用新型在原有精拋機基礎上加裝瓷質(zhì)薄板磚的矯平機構(gòu)，能有效消除瓷質(zhì)薄板磚的宏觀變形，并驅(qū)使瓷質(zhì)薄板磚與皮帶平面之間具有較大的接觸面積，從而有效吸收振動能量，減少瓷質(zhì)薄板磚的碎裂，為瓷質(zhì)薄板磚后續(xù)的上光工序打下良好基礎。
文檔編號B24B29/02GK201380425SQ20092005151
公開日2010年1月13日 申請日期2009年2月23日 優(yōu)先權日2009年2月23日
發(fā)明者丘兆才, 孫志偉, 陳仲正, 隋旭東 申請人:廣東科達機電股份有限公司