專利名稱：化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種化學(xué)機(jī)械拋光工藝設(shè)備，具體涉及一種化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的
硅片清洗裝置。
背景技術(shù)：
化學(xué)機(jī)械拋光裝置(Chemical mechanical polisher)簡稱CMP設(shè)備。由于CMP 工藝是用藥液研磨硅片的正面，因此在研磨完成之后需要對(duì)硅片進(jìn)行清洗，以保證芯片的 成品率和下一道工藝程序的順利開展。 在硅片后洗凈中，采用刷子清洗是一個(gè)很重要的步驟，一般采用兩道刷子的清洗 步驟。 如


圖1、圖2所示，現(xiàn)有的刷子清洗步驟中采用直桶狀刷子2，采用滾動(dòng)刷除方式對(duì) 硅片l進(jìn)行清洗。這種直桶狀的刷子體積比較大，對(duì)顆粒的清除效果也不是很理想。另外 由于工藝條件的需要，對(duì)刷子的材質(zhì)要求比較高，而且由于采用滾動(dòng)刷除方式，刷子的配件 構(gòu)造比較復(fù)雜，因此刷子本身及配件的造價(jià)都比較高。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置， 它可以節(jié)省費(fèi)用，對(duì)于顆粒的清除能力更好，提高產(chǎn)品的成品率。 為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置的技術(shù)解決 方案為 包括刷子、刷子支架、刷子旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、刷子平動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述刷子設(shè)置于刷子支架上， 刷子旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)刷子相對(duì)于自身旋轉(zhuǎn)；刷子平動(dòng)機(jī)構(gòu)連接刷子支架，通過刷子支架的平 動(dòng)實(shí)現(xiàn)刷子的平動(dòng)。 所述刷子通過電磁套筒設(shè)置于刷子支架上，使刷子能夠相對(duì)于刷子支架前后動(dòng) 作。 所述刷子通過皮帶輪設(shè)置于刷子支架上，驅(qū)動(dòng)馬達(dá)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)皮帶輪旋 轉(zhuǎn)，使刷子相對(duì)于自身旋轉(zhuǎn)。 所述刷子支架通過絲桿與刷子支架驅(qū)動(dòng)馬達(dá)連接，刷子支架與絲桿之間為螺紋連 接，通過刷子支架驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的正反旋轉(zhuǎn)來帶動(dòng)絲桿的轉(zhuǎn)動(dòng)，使刷子支架在絲桿上左右移動(dòng)。 所述刷子支架、刷子旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)置于防水罩內(nèi)，防水罩與絲桿之間為軸承潤滑和/ 或油封密封。 所述刷子為直徑6cm，高度lcm的扁圓柱體。 所述刷子支架設(shè)置于豎直放置的硅片的一側(cè)。 本實(shí)用新型可以達(dá)到的技術(shù)效果是 本實(shí)用新型采用刷子對(duì)硅片平動(dòng)清洗的方式進(jìn)行清洗，有較好的顆粒清除能力， 有利于提升產(chǎn)品的成品率，并且結(jié)構(gòu)更加簡單，體積小，費(fèi)用更加低廉。以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明
圖1是現(xiàn)有技術(shù)硅片清洗的示意圖； 圖2是
圖1的側(cè)視圖； 圖3是本實(shí)用新型化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖中附圖標(biāo)記說明 l為硅片， 2為刷子， 20為刷子， 3為刷子支架， 4為皮帶， 51為皮帶輪， 52為馬達(dá)傳動(dòng)輪，6為絲桿， 7為馬達(dá)支架， 8為刷子支架驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，10為防水罩。
具體實(shí)施方式如圖3所示，本實(shí)用新型化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置，包括刷子20、刷子支 架3、皮帶4、皮帶輪51、馬達(dá)傳動(dòng)輪52、絲桿6、馬達(dá)支架7、刷子支架驅(qū)動(dòng)馬達(dá)8 ; 刷子支架3設(shè)置于豎直放置的硅片1的一側(cè)，刷子支架3上設(shè)置有皮帶輪51，皮帶 輪51與電磁套筒的外套固定連接，電磁套筒的內(nèi)筒與圓盤形的刷子20固定連接；通過電磁 圈的正反電流，電磁套筒的內(nèi)筒在外套內(nèi)前后動(dòng)作，使刷子20相對(duì)于刷子支架3前后動(dòng)作； 刷子20的前后動(dòng)作，使刷子20貼近或遠(yuǎn)離硅片1 ;刷子20為直徑6cm，高度lcm的扁圓柱 體。 刷子支架3的側(cè)邊還設(shè)置有馬達(dá)傳動(dòng)輪52，皮帶輪51與馬達(dá)傳動(dòng)輪52通過皮帶 4連接；驅(qū)動(dòng)馬達(dá)(圖中未示出)帶動(dòng)馬達(dá)傳動(dòng)輪52旋轉(zhuǎn)，馬達(dá)傳動(dòng)輪52則通過皮帶4帶 動(dòng)皮帶輪51旋轉(zhuǎn)，使與皮帶輪51連接的刷子20旋轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)刷子20的自身旋轉(zhuǎn)動(dòng)作。 皮帶4的直徑為8cm，截面寬度0. 5cm。 驅(qū)動(dòng)馬達(dá)設(shè)置于馬達(dá)傳動(dòng)輪52的頂端。 刷子支架3通過絲桿6與刷子支架驅(qū)動(dòng)馬達(dá)8連接，刷子支架驅(qū)動(dòng)馬達(dá)8固定設(shè) 置于馬達(dá)支架7上。刷子支架3與絲桿6之間為螺紋連接。通過刷子支架驅(qū)動(dòng)馬達(dá)8的正 反旋轉(zhuǎn)來帶動(dòng)絲桿6的轉(zhuǎn)動(dòng)，使刷子支架3在絲桿6上左右移動(dòng)。 硅片1的兩側(cè)分別設(shè)置一套硅片清洗裝置。 刷子支架3、刷子支架3上的皮帶輪51、馬達(dá)傳動(dòng)輪52、皮帶4，以及絲桿6的左端 均設(shè)置于防水罩10內(nèi)。防水罩10與絲桿6之間采用軸承潤滑和油封密封。 防水罩10與刷子支架3同步平動(dòng)。 本實(shí)用新型通過刷子20的自身旋轉(zhuǎn)(由驅(qū)動(dòng)馬達(dá)帶動(dòng))以及刷子20在硅片1表 面的平滑移動(dòng)(由刷子支架驅(qū)動(dòng)馬達(dá)8帶動(dòng))兩個(gè)方面的刷除動(dòng)作，來實(shí)現(xiàn)高效的顆粒清 除能力。
權(quán)利要求一種化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置，包括刷子，其特征在于還包括刷子支架、刷子旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、刷子平動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述刷子設(shè)置于刷子支架上，刷子旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)刷子相對(duì)于自身旋轉(zhuǎn)；刷子平動(dòng)機(jī)構(gòu)連接刷子支架，通過刷子支架的平動(dòng)實(shí)現(xiàn)刷子的平動(dòng)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置，其特征在于所述刷子 通過電磁套筒設(shè)置于刷子支架上，使刷子能夠相對(duì)于刷子支架前后動(dòng)作。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置，其特征在于所述刷子 通過皮帶輪設(shè)置于刷子支架上，驅(qū)動(dòng)馬達(dá)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)皮帶輪旋轉(zhuǎn)，使刷子相對(duì)于自 身旋轉(zhuǎn)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置，其特征在于所述刷子 支架通過絲桿與刷子支架驅(qū)動(dòng)馬達(dá)連接，刷子支架與絲桿之間為螺紋連接，通過刷子支架 驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的正反旋轉(zhuǎn)來帶動(dòng)絲桿的轉(zhuǎn)動(dòng)，使刷子支架在絲桿上左右移動(dòng)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置，其特征在于所述刷子 支架、刷子旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)置于防水罩內(nèi)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置，其特征在于所述刷子 支架、刷子旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)置于防水罩內(nèi)，防水罩與絲桿之間為軸承潤滑和/或油封密封。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置，其特征在于所述刷子 為扁圓柱體。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置，其特征在于所述刷子為直徑6cm，高度lcm的扁圓柱體。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置，其特征在于所述刷子 支架設(shè)置于豎直放置的硅片的一側(cè)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備的硅片清洗裝置，包括刷子、刷子支架、刷子旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、刷子平動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述刷子設(shè)置于刷子支架上，刷子旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)刷子相對(duì)于自身旋轉(zhuǎn)；刷子平動(dòng)機(jī)構(gòu)連接刷子支架，通過刷子支架的平動(dòng)實(shí)現(xiàn)刷子的平動(dòng)。本實(shí)用新型采用刷子對(duì)硅片平動(dòng)清洗的方式進(jìn)行清洗，有較好的顆粒清除能力，有利于提升產(chǎn)品的成品率，并且結(jié)構(gòu)更加簡單，體積小，費(fèi)用更加低廉。
文檔編號(hào)B24B29/00GK201543609SQ20092007466
公開日2010年8月11日 申請(qǐng)日期2009年11月9日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月9日
發(fā)明者斯健全 申請(qǐng)人:上海華虹Nec電子有限公司