專利名稱：一種金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及用于金屬薄板帶在真空條件下表面物理氣相沉積的領(lǐng)域。
技術(shù)背景目前，國內(nèi)在金屬薄板帶表面進(jìn)行連續(xù)處理都采用熱涂的形式，采用這種方法具 有以下缺點(1)涂層材料熔點溫度低，不能涂熔點高的材料；(2)涂層厚，并且只能雙面同 時涂；(3)只能涂單一的材料；(4)涂層色澤、均勻性、附著力較差。生產(chǎn)的鋼帶只能用于低 端市場。為彌補(bǔ)熱涂工藝的不足，此前國內(nèi)又開發(fā)了間歇式真空電子束蒸發(fā)、真空磁控濺 射、真空多弧離子等鍍膜設(shè)備，但這類設(shè)備存在以下缺點(1)抽真空時間、裝卸板帶占用 的時間比較長，每鍍完一卷要打開真空室門裝卸帶卷，生產(chǎn)效率低，不適合工業(yè)連續(xù)生產(chǎn)；每周期鍍膜參數(shù)難以保證一致，產(chǎn)品質(zhì)量一致性差；(3)磁控靶或多弧源在暴露大氣后 有一定程度的氧化和污染，影響膜層質(zhì)量。而國外鋼帶表面采用真空條件下的鍍膜技術(shù)發(fā)展較早，已經(jīng)比較成熟。比較常用 的是真空條件下大功率電子束蒸發(fā)鍍膜技術(shù)。進(jìn)口此類設(shè)備價格非常昂貴，而隨著我國國 民經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，對鋼帶真空鍍膜產(chǎn)品的需求量增長很大，因此，急需開發(fā)此類設(shè)備。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于避免現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種用于金屬薄板帶在真空條 件下連續(xù)進(jìn)行表面鍍膜的裝置，在金屬薄板帶表面采用真空條件下物理氣相沉積進(jìn)行改性 處理的裝置。這種裝置的優(yōu)點在于可在金屬薄板帶上鍍多層膜、反應(yīng)膜、膜層厚度可獨(dú)立 進(jìn)行控制、膜層均勻致密、附著力強(qiáng)、適合工業(yè)化生產(chǎn)。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采取的技術(shù)方案為一種金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面 真空鍍膜裝置，包括開卷機(jī)組(10)，其主要特點在于設(shè)置的真空鍍膜室包括有1-3個A低真 空室(20a)，1-3個離子處理室(30)，1-5個B低真空室(40)，1-9個高真空室(50)，1-8個 鍍膜室(60)，1-3個A低真空室(20b)，室與室之間有法蘭密封連接，并設(shè)有金屬薄板帶(1) 通過的窗口 (2) ； 1-3個A低真空室(20a)，1-3個離子處理室(30)，1_5個B低真空室(40)， 1-5個高真空室(50)，1-5個鍍膜室(60)，1-3個A低真空室(20b)與真空機(jī)組(90)相連； 在真空鍍膜室外還設(shè)有收卷機(jī)組(80)，連續(xù)鍍膜的控制系統(tǒng)(100)所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的開卷機(jī)組(10)包括上 卷滾輪(10-1)，開卷滾輪(10-2)，在上卷滾輪(10-1)與開卷滾輪(10-2)的前方設(shè)有切頭 (10-3)、焊接(10-4)；在1#S$I (10-5)和2#S輥(10-7)之間設(shè)有入口金屬薄板帶(1)張 緊輪系統(tǒng)(10-6)；在2#S$I (10-7)之后設(shè)有清洗系統(tǒng)(10-8)，熱風(fēng)干燥(10-9) 0所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的入口金屬薄板帶(1)張緊 輪系統(tǒng)(10-6)包括有固定輥系(10-6-1)；在導(dǎo)軌(10-6-5)上設(shè)有導(dǎo)向輪(10_6_4)，導(dǎo)向 輪(10-6-4)與活動輥系(10-6-2)連接，驅(qū)動裝置(10-6-3)設(shè)于活動輥系(10_6_2)上。所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的A低真空室(20a、20b)包括有室體(20-1)，其內(nèi)設(shè)有隔板(20-1-1)將室體(20-1)分隔成2-6個真空室；隔板 (20-1-1)上設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；在室體(20-1)的入口處或出口處或室 體(20-1)中部隔板的窗口(2)處設(shè)有密封輸送輥裝置(20-2)，動力驅(qū)動機(jī)構(gòu)(20-3)設(shè)于 密封輸送輥裝置(20-2)上；室體(20-1)的上部設(shè)有上蓋(20-4)，其間設(shè)有上蓋密封裝置 (20-6)，下部設(shè)有機(jī)架(20-5)；室體連接處設(shè)有密封裝置(20-7)；室體(20_1)內(nèi)與滑閥泵 機(jī)組(90-1、90-2)、羅茨泵(90-3)相連通。室體中間位置通過2至4套密封輥裝置把室體 分隔成三至五部分，從進(jìn)料C低真空室，20b為從出料端，開始每部分真空度有一個階梯形 的降低，經(jīng)過A低真空室20a、C低真空室20b后真空度可達(dá)到5Pa以下。室體根據(jù)制造需 要，可做成整體或分兩件。所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的密封輸送輥裝置(20-2) 包括相互平行的兩個橡膠輥(20-2-3)支撐于兩端的軸承座(20-2-5)上，傳動齒輪 (20-2-1)分別設(shè)于兩個橡膠輥(20-2-3)的兩端，在橡膠輥(20-2-3)軸的一端連接有動力 驅(qū)動機(jī)構(gòu)(20-3)；在橡膠輥(20-2-3)軸的兩端設(shè)有彈簧(20-2-2)，密封板(20_2_4)設(shè)于 橡膠輥(20-2-3)上；在金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)的兩側(cè)設(shè)有通過密封墊(20-2-6) 與室體連接的聯(lián)結(jié)座(20-2-7)，其上設(shè)有彈簧片(20-2-8)，將塑料板(20_2_9)壓緊在兩個 橡膠輥(20-2-3)上。所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的離子處 理室(30)包括有 室體(30-1)，其內(nèi)設(shè)有隔板(30-1-1)將室體(30-1)分隔成2-4個真空室；在室體(30_1) 的兩端及隔板(30-1-1)上設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；在室體(30-1)內(nèi)設(shè)有高壓 離子處理系統(tǒng)(30-2)；在室體(30-1)內(nèi)設(shè)有布?xì)庀到y(tǒng)(30-3)；室體(30_1)的上部設(shè)有上 蓋(30-4)，其間設(shè)有上蓋密封裝置(30-7)，中部設(shè)有觀察窗(30-5)，下部設(shè)有機(jī)架(30_6)； 室體連接處設(shè)有密封裝置(30-8)；室體(30-1)內(nèi)與滑閥泵機(jī)組、羅茨泵(90-4)相連通。所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的B低真空室(40)包括有室 體(40-1)，其內(nèi)設(shè)有隔板(40-1-1)將室體(40-1)分隔成2-4個真空室；在室體(40_1)的 兩端及隔板(40-1-1)上設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；室體(40-1)的上部設(shè)有上蓋 (40-2)，其間設(shè)有上蓋密封裝置(40-3)，中部設(shè)有觀察窗(40-5)，下部設(shè)有機(jī)架(40_6)；室 體連接處設(shè)有密封裝置(40-4)；室體(40-1)內(nèi)與滑閥泵機(jī)組、羅茨泵(90-5)相連通。室 內(nèi)真空度可達(dá)到5Pa以下。所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的高真空室(50)包括有室 體(50-1)，其內(nèi)設(shè)有隔板(50-1-1)將室體(50-1)分隔成2-4個真空室；在室體(50_1)的 兩端及隔板(50-1-1)上設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；室體(50-1)的上部設(shè)有上 蓋(50-2)，其間設(shè)有上蓋密封裝置(50-4)，下部設(shè)有機(jī)架(50-3)；室體連接處設(shè)有密封裝 置(50-5)；室體(50-1)內(nèi)與擴(kuò)散泵、滑閥泵機(jī)組、羅茨泵(90-6)相連通。室內(nèi)極限壓力可 達(dá)到1 X 10-3Pa以下。高真空室在每個鍍膜室兩側(cè)各布置一個，當(dāng)鍍膜室有多個時，則高真 空室數(shù)量相應(yīng)增加，數(shù)量比鍍膜室數(shù)量多1個。所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的鍍膜室(60)包括有室體 (60-1)；其內(nèi)設(shè)有隔板(60-1-1)將室體(60-1)分隔成2-4個真空室；在室體(60_1)的兩 端及隔板(60-1-1)上設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；在室體(60-1)內(nèi)設(shè)有平面磁控 靶或電子搶(60-3)；室體(60-1)的上部設(shè)有上蓋(60-2)，其間設(shè)有上蓋密封裝置(60_6)，中部設(shè)有觀察窗(60-4)，下部設(shè)有機(jī)架(60-5)；室體連接處設(shè)有密封裝置(60-7)。鍍膜室 (60)數(shù)量視工藝需要可為1個或多個。所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的收卷機(jī)組(80)包括有在 真空鍍膜室外金屬薄板帶(1)上設(shè)有貼保護(hù)膜機(jī)構(gòu)(80-1)，3#5輥(80-2)與4#S輥(80_4) 之間設(shè)有出口金屬薄板帶(1)張緊輪系統(tǒng)(80-3)；在4#5輥(80-4)之后設(shè)有剪切(80_5)， 夾送輥(80-6)，卷取(80-7)，卸卷(80-8)。所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的連續(xù)鍍膜裝置的控制系 統(tǒng)(100)包括有計算機(jī)集中控制機(jī)柜(100-1)，過程控制接口模塊機(jī)柜(100-2)，真空系統(tǒng) 控制機(jī)柜(100-3)，傳動系統(tǒng)控制機(jī)柜(100-4)，真空離子處理電源機(jī)柜連續(xù)鍍膜電源機(jī)柜 (100-5)，收卷操作輔助控制機(jī)柜(100-6)和開卷操作輔助控制機(jī)柜(100-7)。本實用新型的有益效果是(1)設(shè)備各部件正確組合的總體布置方案及配置；(2) 空氣-空氣真空連續(xù)鍍膜的動密封結(jié)構(gòu)；(3)鍍膜源可根據(jù)工藝需要進(jìn)行多種組合。該生 產(chǎn)線采用計算機(jī)全自動控制技術(shù)，具有豐富的人機(jī)界面，操作方便。該生產(chǎn)線采用空氣-空 氣的真空連續(xù)鍍膜方式，鍍膜效率高，鍍膜過程環(huán)保無污染、可鍍制多種膜、多層膜、膜層質(zhì) 量好。

圖1為本實用新型的主視示意圖；圖2為本實用新型的開卷機(jī)組(10)主視示意圖；圖3為本實用新型的入口金屬薄板帶⑴張緊輪系統(tǒng)(10-6)主視示意圖；圖4為本實用新型的A低真空室(20a、20b)主視示意圖；圖5a為本實用新型的密封輸送輥裝置(20-2)主視示意圖；圖5b為圖5a的左視示意圖；圖6為本實用新型的離子處理室(30)主視示意圖；圖7為本實用新型的B低真空室(40)主視示意圖；圖8為本實用新型的高真空室(50)主視示意圖；圖9為本實用新型的鍍膜室(60)主視示意圖；圖10為本實用新型的收卷機(jī)組(80)主視示意圖；圖11為本實用新型的控制系統(tǒng)(100)主視示意圖；圖12為本實用新型的實施例3鍍膜室示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合實施例對本實用新型的原理和特征進(jìn)行描述，所舉實例只用于解釋本實 用新型，并非用于限定本實用新型的范圍。實施例1 見圖1，一種金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，包括開卷機(jī)組10，設(shè)置的真 空鍍膜室包括有1個A低真空室20a，1離子處理室30，1個B低真空室40，1個高真空室50， 1個鍍膜室60，1個A低真空室20b，室與室之間有法蘭密封連接，并設(shè)有金屬薄板帶1通過 的窗口 2，真空鍍膜室與真空機(jī)組90相連；在真空鍍膜室外還設(shè)有收卷機(jī)組80，連續(xù)鍍膜的控制系統(tǒng)100。見圖2，所述的開卷機(jī)組10包括有上卷滾輪10-1，開卷滾輪10-2，在上卷滾輪10-1與開卷滾輪10-2的前方設(shè)有切頭10-3、焊接10-4 ；在1#S輥10_5和2#S輥10_7之 間設(shè)有入口金屬薄板帶1張緊輪系統(tǒng)10-6 ；在2#S輥10-7之后設(shè)有清洗系統(tǒng)10-8，熱風(fēng)干 燥 10-9。見圖3，所述的入口金屬薄板帶1張緊輪系統(tǒng)10-6包括有固定輥系10-6-1 ；在導(dǎo) 軌10-6-5上設(shè)有導(dǎo)向輪10-6-4，導(dǎo)向輪10-6-4與活動輥系10_6_2連接，驅(qū)動裝置10_6_3 設(shè)于活動輥系10-6-2上。見圖4，所述的A低真空室20a、20b包括有室體20_1，其內(nèi)設(shè)有隔板20_1_1將室 體20-1分隔成4個真空室；隔板20-1-1上設(shè)有金屬薄板帶1通過的窗口 2 ；在室體20_1 的入口處或出口處或室體20-1中部隔板的窗口 2處設(shè)有密封輸送輥裝置20-2，動力驅(qū)動機(jī) 構(gòu)20-3設(shè)于密封輸送輥裝置20-2上；室體20-1的上部設(shè)有上蓋20_4，其間設(shè)有上蓋密封 裝置20-6，下部設(shè)有機(jī)架20-5 ；室體連接處設(shè)有密封裝置20-7 ；室體20_1內(nèi)與滑閥泵機(jī)組 90-1、90-2、羅茨泵90-3相連通。室體中間位置通過3套密封輥裝置把室體分隔成三至五 部分，從進(jìn)料C低真空室，20b為從出料端，開始每部分真空度有一個階梯形的降低，經(jīng)過A 低真空室20a、C低真空室20b后真空度可達(dá)到5Pa以下。室體根據(jù)制造需要，可做成整體 或分兩件。見圖5，所述的密封輸送輥裝置20-2包括相互平行的兩個橡膠輥20-2-3支撐于 兩端的軸承座20-2-5上，傳動齒輪20-2-1分別設(shè)于兩個橡膠輥20-2-3的兩端，在橡膠輥 20-2-3軸的一端連接有動力驅(qū)動機(jī)構(gòu)20-3 ；在橡膠輥20-2-3軸的兩端設(shè)有彈簧20_2_2， 密封板20-2-4設(shè)于橡膠輥20-2-3上；在金屬薄板帶1通過的窗口 2的兩側(cè)設(shè)有通過密封 墊20-2-6與室體連接的聯(lián)結(jié)座20-2-7，其上設(shè)有彈簧片20_2_8，將塑料板20_2_9壓緊在 兩個橡膠輥20-2-3上。見圖6，所述的離子處理室30包括有室體30-1，其內(nèi)設(shè)有隔板30_1_1將室體30_1 分隔成2個真空室；在室體30-1的兩端及隔板30-1-1上設(shè)有金屬薄板帶1通過的窗口 2 ； 在室體30-1內(nèi)設(shè)有高壓離子處理系統(tǒng)30-2 ；在室體30-1內(nèi)設(shè)有布?xì)庀到y(tǒng)30-3 ；室體30_1 的上部設(shè)有上蓋30-4，其間設(shè)有上蓋密封裝置30-7，中部設(shè)有觀察窗30-5，下部設(shè)有機(jī)架 30-6 ；室體連接處設(shè)有密封裝置30-8 ；室體30-1內(nèi)與滑閥泵機(jī)組、羅茨泵90_4相連通。見圖7，所述的B低真空室40包括有室體40-1，其內(nèi)設(shè)有隔板40_1_1將室體40_1 分隔成2個真空室；在室體40-1的兩端及隔板40-1-1上設(shè)有金屬薄板帶1通過的窗口 2 ； 室體40-1的上部設(shè)有上蓋40-2，其間設(shè)有上蓋密封裝置40-3，中部設(shè)有觀察窗40_5，下部 設(shè)有機(jī)架40-6 ；室體連接處設(shè)有密封裝置40-4 ；室體40-1內(nèi)與滑閥泵機(jī)組、羅茨泵90_5相 連通。室內(nèi)真空度可達(dá)到5Pa以下。見圖8，所述的高真空室50包括有室體50-1，其內(nèi)設(shè)有隔板50_1_1將室體50_1 分隔成2個真空室；在室體50-1的兩端及隔板50-1-1上設(shè)有金屬薄板帶1通過的窗口 2 ； 室體50-1的上部設(shè)有上蓋50-2，其間設(shè)有上蓋密封裝置50-4，下部設(shè)有機(jī)架50_3 ；室體連 接處設(shè)有密封裝置50-5 ；室體50-1內(nèi)與擴(kuò)散泵、滑閥泵機(jī)組、羅茨泵90-6相連通。室內(nèi)極 限壓力可達(dá)到lX10-3Pa以下。高真空室在鍍膜室兩側(cè)各設(shè)置一個。見圖9，所述的鍍膜室60包括有室體60-1 ；其內(nèi)設(shè)有隔板60_1_1將室體60_1分隔成2個真空室；在室體60-1的兩端及隔板60-1-1上設(shè)有金屬薄板帶1通過的窗口 2 ；在室 體60-1內(nèi)設(shè)有平面磁控靶或電子搶60-3 ；室體60-1的上部設(shè)有上蓋60-2，其間設(shè)有上蓋 密封裝置60-6，中部設(shè)有觀察窗60-4，下部設(shè)有機(jī)架60-5 ；室體連接處設(shè)有密封裝置60_7。見圖10，所述的收卷機(jī)組80包括有在真空鍍膜室外金屬薄板帶1上設(shè)有貼保護(hù)膜 機(jī)構(gòu)80-1，3#S輥80-2與4#S輥80_4之間設(shè)有出口金屬薄板帶1張緊輪系統(tǒng)80_3 ；在4#S 輥80-4之后設(shè)有剪切80-5，夾送輥80-6，卷取80_7，卸卷80_8。見圖11，所述的連續(xù)鍍膜裝置的控制系統(tǒng)100包括有計算機(jī)集中控制機(jī)柜100-1， 過程控制接口模塊機(jī)柜100-2，真空系統(tǒng)控制機(jī)柜100-3，傳動系統(tǒng)控制機(jī)柜100-4，真空離 子處理電源機(jī)柜連續(xù)鍍膜電源機(jī)柜100-5，收卷操作輔助控制機(jī)柜100-6和開卷操作輔助 控制機(jī)柜100-7。計算機(jī)集中控制機(jī)柜100-1通過觸摸屏等人機(jī)接口，以圖形、表格和棒圖等形式 實時顯示從生產(chǎn)線各控制器接受的數(shù)據(jù)，并將操作員的指令傳送給控制器，完成生產(chǎn)線中 傳動系統(tǒng)、真空抽氣系統(tǒng)、鍍膜工藝系統(tǒng)和輔助控制系統(tǒng)的參數(shù)控制和管理、過程控制、設(shè) 備故障診斷、人機(jī)交互等功能。過程控制接口模塊機(jī)柜100-2主要負(fù)責(zé)生產(chǎn)線各工藝控制環(huán)節(jié)模擬 量的采集、輸 出和實時控制；真空系統(tǒng)控制機(jī)柜100-3，根據(jù)計算機(jī)控制機(jī)柜的指令實現(xiàn)對生產(chǎn)線真空抽氣系 統(tǒng)的控制，為鍍膜生產(chǎn)線獲得持續(xù)的高真空工作環(huán)境；傳動系統(tǒng)控制機(jī)柜100-4，根據(jù)計算機(jī)控制機(jī)柜的指令實現(xiàn)生產(chǎn)線多傳動系統(tǒng)開 卷段、收卷段和工藝段的調(diào)速控制和張力控制和糾偏控制。收卷操作輔助控制機(jī)柜100-6和開卷操作輔助控制機(jī)柜100-7主要實現(xiàn)系統(tǒng)上料 卷、卸料卷、預(yù)設(shè)張力、轉(zhuǎn)動點動的輔助功能。提高連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線的工作效率。實施例2 —種金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的鍍膜室60包括有 室體60-1，設(shè)有3個，所述的高真空室50，設(shè)有4個，高真空室在每個鍍膜室兩側(cè)各設(shè)置一 個。其余與實施例1相同。實施例3 見圖12，一種金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的鍍膜室60 包括有室體60-1，設(shè)有四個，所述的高真空室50，設(shè)有五個，高真空室在每個鍍膜室兩側(cè)各 設(shè)置一個。其余與實施例1相同。實施例4 一種金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的鍍膜室60包括有 室體60-1，設(shè)有5個，所述的高真空室50，設(shè)有6個，高真空室在每個鍍膜室兩側(cè)各設(shè)置一 個。其余與實施例1相同。實施例5 —種金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的鍍膜室60包括有 室體60-1，設(shè)有6個，所述的高真空室50，設(shè)有8個，高真空室在每個鍍膜室兩側(cè)各設(shè)置一 個。其余與實施例1相同。實施例6 —種金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的鍍膜室60包括有 室體60-1，設(shè)有8個，所述的高真空室50，設(shè)有8個，高真空室在每個鍍膜室兩側(cè)各設(shè)置一 個。其余與實施例1相同。實施例7 見圖12，一種金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，所述的鍍膜室60 包括有室體60-1，設(shè)有8個，所述的高真空室50，設(shè)有9個，高真空室在每個鍍膜室兩側(cè)各設(shè)置一個。其余與實施例1相同。使用時，所述的開卷機(jī)組的上卷小車，位于開卷機(jī)的卷筒下面，將金屬薄板帶從入口鞍座上到開卷機(jī)卷筒上，開卷機(jī)設(shè)置有自動對中裝置，當(dāng)帶卷安裝位置同設(shè)定位置有偏 差時，可自動進(jìn)行修正；通過開卷機(jī)的轉(zhuǎn)動，使板帶通過向前夾送的夾送輥，然后通過夾送 輥向前將板帶送至入口剪，由入口剪去此板帶的帶頭，板帶通過焊機(jī)進(jìn)入l#s輥；此時，另 一個上卷小車按前面所述步驟將板帶送至入口剪處，當(dāng)前一卷板帶的帶尾到達(dá)入口剪時， 通過入口剪剪切此卷的帶尾及后一卷的帶頭，然后一起到達(dá)焊機(jī)處進(jìn)行焊接，焊接后的帶 材繼續(xù)勻速向前通過1號S輥，帶材在1號S輥的驅(qū)動下進(jìn)入入口活套，入口活套用于先儲 存金屬薄板帶，以保證機(jī)組入口段在金屬薄板帶停止并進(jìn)行焊接工作時，入口活套釋放板 帶以使工藝段金屬薄板帶仍能連續(xù)穩(wěn)定的運(yùn)行；在入口活套后面布置有2號S輥，板帶經(jīng)過 2號S輥后，在2號S輥的輸送作用下，板帶通過后面的清洗裝置進(jìn)行清洗；板帶經(jīng)過清洗 后，經(jīng)過擠干糾偏裝置，對板帶起去除水分及糾偏矯正的作用；在擠干糾偏裝置后布置有熱 風(fēng)干燥裝置，通過向板帶表面噴吹高速熱風(fēng)，來吹干脫脂留在板帶表面的水分。板帶經(jīng)過擠 干糾偏裝置后進(jìn)入A低真空室20a，然后依次通過離子處理室30、B低真空室40、高真空室 50、鍍膜室60、C低真空室20b，到達(dá)收卷機(jī)組；在收卷機(jī)組，板帶鍍膜的一面通過貼膜裝置 在其表面貼上保護(hù)的塑料薄膜或紙，板帶繼續(xù)向前，通過3號S輥，通過3號S輥的引送進(jìn) 入出口活套，出口用于在卸膜板帶停止時儲存金屬薄板帶，以保證在板帶停止并進(jìn)行焊接 工作時，工藝段板帶仍能連續(xù)穩(wěn)定的運(yùn)行，在換卷完成后，釋放板帶，以備下次卸卷儲存板 帶；板帶經(jīng)過出口活套后進(jìn)入4號S輥，在其引送下通過壓剪機(jī)及夾送輥，到達(dá)收卷機(jī)進(jìn)行 收卷，當(dāng)帶卷卷徑達(dá)到一定大小后，通過壓剪把板帶剪斷，換卷后進(jìn)行新卷的收卷。在完成穿帶后，各低真空室同時進(jìn)行抽真空，在高真空室真空度達(dá)到5Pa以下時， 采用高真空機(jī)組對高真空室進(jìn)行抽真空。在離子處理室真空達(dá)到一定真空度后，通過布?xì)?系統(tǒng)向室內(nèi)充入N2，利用離子處理器對板帶進(jìn)行表面處理；同時，在鍍膜室達(dá)到一定的真 空度時，采用鍍膜系統(tǒng)(電子束蒸發(fā)或磁控濺射系統(tǒng))對板帶表面進(jìn)行鍍膜處理；板帶的傳 動速度及鍍膜功率大小根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)節(jié)。以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡在本實用 新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實用新型的保 護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求一種金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，包括開卷機(jī)組(10)，其特征在于設(shè)置的真空鍍膜室包括有1-3個A低真空室(20a)，1-3個離子處理室(30)，1-5個B低真空室(40)，1-9個高真空室(50)，1-8個鍍膜室(60)，1-3個A低真空室(20b)，室與室之間有法蘭密封連接，并設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；1-3個A低真空室(20a)，1-3個離子處理室(30)，1-5個B低真空室(40)，1-5個高真空室(50)，1-5個鍍膜室(60)，1-3個A低真空室(20b)與真空機(jī)組(90)相連；在真空鍍膜室外還設(shè)有收卷機(jī)組(80)，連續(xù)鍍膜的控制系統(tǒng)(100)。
2.如權(quán)利要求1所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，其特征在于所述的 開卷機(jī)組(10)包括上卷滾輪(10-1)，開卷滾輪(10-2)，在上卷滾輪(10-1)與開卷滾輪 (10-2)的前方設(shè)有切頭(10-3)、焊接(10-4)；在則昆(10-5)和2#S輥(10-7)之間設(shè)有 入口金屬薄板帶(1)張緊輪系統(tǒng)(10-6)；在2#5輥(10-7)之后設(shè)有清洗系統(tǒng)(10-8)，熱風(fēng) 干燥(10-9)。
3.如權(quán)利要求2所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，其特征在于所述的 入口金屬薄板帶(1)張緊輪系統(tǒng)(10-6)包括有固定輥系(10-6-1)；在導(dǎo)軌(10-6-5)上設(shè) 有導(dǎo)向輪(10-6-4)，導(dǎo)向輪(10-6-4)與活動輥系(10-6-2)連接，驅(qū)動裝置(10_6_3)設(shè)于 活動輥系(10-6-2)上。
4.如權(quán)利要求1所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，其特征在于所述的 A低真空室(20a、20b)包括有室體(20-1)，其內(nèi)設(shè)有隔板(20+1)將室體(20-1)分隔成 2-6個真空室；隔板(20-1-1)上設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；在室體(20-1)的入 口處或出口處或室體(20-1)中部隔板的窗口(2)處設(shè)有密封輸送輥裝置(20-2)，動力驅(qū) 動機(jī)構(gòu)(20-3)設(shè)于密封輸送輥裝置(20-2)上；室體(20-1)的上部設(shè)有上蓋(20_4)，其間 設(shè)有上蓋密封裝置(20-6)，下部設(shè)有機(jī)架(20-5)；室體連接處設(shè)有密封裝置(20-7)；室體 (20-1)內(nèi)與滑閥泵機(jī)組(90-1、90-2)、羅茨泵(90-3)相連通。
5.如權(quán)利要求4所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，其特征在于所 述的密封輸送輥裝置(20-2)包括相互平行的兩個橡膠輥(20-2-3)支撐于兩端的軸承 座(20-2-5)上，傳動齒輪(20-2-1)分別設(shè)于兩個橡膠輥(20-2-3)的兩端，在橡膠輥 (20-2-3)軸的一端連接有動力驅(qū)動機(jī)構(gòu)(20-3)；在橡膠輥(20-2-3)軸的兩端設(shè)有彈簧 (20-2-2)，密封板(20-2-4)設(shè)于橡膠輥(20_2_3)上；在金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)的 兩側(cè)設(shè)有通過密封墊(20-2-6)與室體連接的聯(lián)結(jié)座(20-2-7)，其上設(shè)有彈簧片(20_2_8)， 將塑料板(20-2-9)壓緊在兩個橡膠輥(20-2-3)上。
6.如權(quán)利要求1所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，其特征在于所述的 離子處理室(30)包括有室體(30-1)，其內(nèi)設(shè)有隔板(30-1-1)將室體(30-1)分隔成2_4 個真空室；在室體(30-1)的兩端及隔板(30-1-1)上設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)； 在室體(30-1)內(nèi)設(shè)有高壓離子處理系統(tǒng)(30-2)；在室體(30-1)內(nèi)設(shè)有布?xì)庀到y(tǒng)(30-3)； 室體(30-1)的上部設(shè)有上蓋(30-4)，其間設(shè)有上蓋密封裝置(30-7)，中部設(shè)有觀察窗 (30-5)，下部設(shè)有機(jī)架(30-6)；室體連接處設(shè)有密封裝置(30-8)；室體(30_1)內(nèi)與滑閥泵 機(jī)組、羅茨泵(90-4)相連通。
7.如權(quán)利要求1所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，其特征在于所述的B 低真空室(40)包括有室體(40-1)，其內(nèi)設(shè)有隔板(40-1-1)將室體(40-1)分隔成2_4個真空室；在室體(40-1)的兩端及隔板(40-1-1)上設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；室體 (40-1)的上部設(shè)有上蓋(40-2)，其間設(shè)有上蓋密封裝置(40-3)，中部設(shè)有觀察窗(40_5)， 下部設(shè)有機(jī)架(40-6)；室體連接處設(shè)有密封裝置(40-4)；室體(40-1)內(nèi)與滑閥泵機(jī)組、羅 茨泵(90-5)相連通。
8.如權(quán)利要求1所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，其特征在于所述的 高真空室(50)包括有室體(50-1)，其內(nèi)設(shè)有隔板(50-1-1)將室體(50-1)分隔成2_4個真 空室；在室體(50-1)的兩端及隔板(50-1-1)上設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；室體 (50-1)的上部設(shè)有上蓋(50-2)，其間設(shè)有上蓋密封裝置(50-4)，下部設(shè)有機(jī)架(50_3)；室 體連接處設(shè)有密封裝置(50-5)；室體(50-1)內(nèi)與擴(kuò)散泵、滑閥泵機(jī)組、羅茨泵(90-6)相連通。
9.如權(quán)利要求1所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，其特征在于所述的 鍍膜室(60)包括有室體(60-1)；其內(nèi)設(shè)有隔板(60-1-1)將室體(60-1)分隔成2_4個真 空室；在室體(60-1)的兩端及隔板(60-1-1)上設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；在室 體(60-1)內(nèi)設(shè)有平面磁控靶或電子搶(60-3)；室體(60-1)的上部設(shè)有上蓋(60-2)，其間 設(shè)有上蓋密封裝置(60-6)，中部設(shè)有觀察窗(60-4)，下部設(shè)有機(jī)架(60-5)；室體連接處設(shè) 有密封裝置(60-7)。
10.如權(quán)利要求1所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，其特征在于所述的 收卷機(jī)組(80)包括有在真空鍍膜室外金屬薄板帶(1)上設(shè)有貼保護(hù)膜機(jī)構(gòu)(80-1)，3#5輥 (80-2)與4#5輥(80-4)之間設(shè)有出口金屬薄板帶(1)張緊輪系統(tǒng)(80_3)；在4#5輥(80_4) 之后設(shè)有剪切(80-5)，夾送輥(80-6)，卷取(80-7)，卸卷(80-8)。
11.如權(quán)利要求1所述的金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，其特征在于所述的 連續(xù)鍍膜裝置的控制系統(tǒng)(100)包括有計算機(jī)集中控制機(jī)柜(100-1)，過程控制接口模塊 機(jī)柜(100-2)，真空系統(tǒng)控制機(jī)柜(100-3)，傳動系統(tǒng)控制機(jī)柜(100-4)，真空離子處理電源 機(jī)柜連續(xù)鍍膜電源機(jī)柜(100-5)，收卷操作輔助控制機(jī)柜(100-6)和開卷操作輔助控制機(jī) 柜(100-7)。
專利摘要本實用新型涉及用于金屬薄板帶在真空條件下表面物理氣相沉積的領(lǐng)域。一種金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置，包括開卷機(jī)組(10)，其主要特點在于設(shè)置的真空鍍膜室包括有1-3個A低真空室(20a)，1-3離子處理室(30)，1-5個B低真空室(40)，1-9個高真空室(50)，1-8個鍍膜室(60)，1-3個A低真空室(20b)，室與室之間有法蘭密封連接，并設(shè)有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；1-3個A低真空室(20a)，1-3個離子處理室(30)，1-5個B低真空室(40)，1-5個高真空室(50)，1-5個鍍膜室(60)，1-3個A低真空室(20b)與真空機(jī)組(90)相連；在真空鍍膜室外還設(shè)有收卷機(jī)組(80)，連續(xù)鍍膜的控制系統(tǒng)(100)。這種裝置的優(yōu)點在于可在金屬薄板帶上鍍多層膜、反應(yīng)膜，膜層厚度可獨(dú)立進(jìn)行控制，膜層均勻致密，附著力強(qiáng)適合工業(yè)化生產(chǎn)。
文檔編號C23C14/56GK201553778SQ20092017723
公開日2010年8月18日 申請日期2009年8月26日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月26日
發(fā)明者令曉明, 孔令剛, 范多望, 范多進(jìn) 申請人:蘭州大成科技股份有限公司;蘭州大成真空科技有限公司;常州大成綠色鍍膜科技有限公司