專利名稱：處理系統(tǒng)和用于操作處理系統(tǒng)的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于處理襯底的方法，包括室排列，其至少包括用于處理襯底的第一 處理室、用于處理襯底的第二處理室和/或轉(zhuǎn)移室；至少包括鎖定室，其構(gòu)造為將襯底鎖定 在室排列中和/或?qū)⒁r底鎖定在室排列之外；第一大致直線的傳輸路徑，其用于將襯底從 鎖定室傳輸?shù)降谝惶幚硎?，以及第二大致直線的傳輸路徑，其用于將襯底傳輸通過室排列。 第二傳輸路徑可以相對于第一傳輸路徑橫向偏移并且相鄰第一傳輸路徑設(shè)置。
背景技術(shù)：
在許多技術(shù)應(yīng)用中，多層的堆疊按照涂布步驟的順序沉積在襯底上。例如，在 TFT(薄膜晶體管)金屬化處理中，通過濺射處理沉積兩種或三種不同金屬。由于在不同的 處理步驟中沉積速率不同并且由于層的厚度不同，所以用于沉積不同層的沉積臺中的處理 時間可能相當大地變化。為了沉積多層的堆疊，已經(jīng)提出了大量的沉積和處理室的構(gòu)造。例如，使用直線的 涂布室排列以及簇形涂布室排列。典型的簇形排列包括中央處理室和多個與其連接的涂布 室?？梢园惭b涂布室以執(zhí)行相同或不同的涂布處理。然而，盡管在直線系統(tǒng)中對于處理的操 縱非常簡單，但是處理時間由最長的處理時間所決定。因此，影響了處理效率。另一方面， 簇工具允許不同的循環(huán)時間。然而，需要設(shè)置在中央處理室中的精細轉(zhuǎn)移系統(tǒng)的操作可能 非常復(fù)雜。已經(jīng)在文獻EP 1801843A1中描述了結(jié)合直線和簇概念的可選概念，通過引用將 該文獻的內(nèi)容結(jié)合在這里。該文獻描述了用于沉積TFT層堆疊的涂布系統(tǒng)，該系統(tǒng)具有鎖 入室(lock-in chamber)、用于第一金屬化處理的金屬化臺、中央處理室、用于第二金屬化 處理的兩個金屬化臺以及用于第一處理的第二金屬化臺。用于第二處理的金屬化室彼此平 行地設(shè)置并且擇一地使用。用于第一金屬化處理的處理室設(shè)置為直線，使得每個襯底都在 兩個室中受到處理。因為這種組合在增加了產(chǎn)量的同時使得處理復(fù)雜度最小，所以通過直 線概念和簇概念的結(jié)合減小了系統(tǒng)的循環(huán)時間。內(nèi)容通過引用結(jié)合在這里的歐洲專利申請EP 07 002 828. 7 (未公開)提到了設(shè) 置在涂布臺中的傳輸裝置，其具有可以選擇性地定位在傳輸位置中的、構(gòu)造為組合區(qū)段的 傳輸區(qū)段。在其他區(qū)段移動到傳輸位置中的同時，區(qū)段之一可以移動到處理位置中。此外，已經(jīng)提出了其中連續(xù)在不同的涂布臺中處理襯底的直線系統(tǒng)。為了改善產(chǎn) 量，涂布室中的至少一部分包括用于第一襯底的處理位置以及從該處理位置橫向偏移的傳 輸路徑，由此在室中留出用于其他襯底越過或趕上第一襯底的一些空間。內(nèi)容通過引用結(jié) 合在這里的歐洲專利申請EP 1956 IllAl提到了設(shè)置在涂布臺中的傳輸裝置，其具有可以 選擇性地定位在傳輸區(qū)段中的、構(gòu)造為組合區(qū)段的傳輸區(qū)段。內(nèi)容通過引用結(jié)合在這里的專利申請US/12/163，498(未公開)公開了一種涂布 系統(tǒng)，其具有第一大致直線傳輸路徑和第二大致直線傳輸路徑，其中，第二傳輸路徑相對于 第一傳輸路徑橫向偏移。因此，第一襯底可以分別在第一和第二傳輸路徑上越過或趕上第
4二襯底。然而，上述的全部系統(tǒng)都具有一些缺點。首先，系統(tǒng)需要非常復(fù)雜和昂貴的模塊， 例如旋轉(zhuǎn)模塊。第二，系統(tǒng)的產(chǎn)量和效率受到它們設(shè)計的限制。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的本發(fā)明的目的是增加涂布系統(tǒng)的整體產(chǎn)量和效率并且提供在避免使用昂貴和復(fù) 雜的組件的同時有效地使用組件的襯底處理方法。技術(shù)方案通過提供根據(jù)權(quán)利要求1的處理系統(tǒng)和根據(jù)權(quán)利要求15的操作處理系統(tǒng)的方法 來實現(xiàn)該目的。獨立權(quán)利要求涉及本發(fā)明的優(yōu)選的特征。根據(jù)本發(fā)明的用于處理襯底的處理系統(tǒng)包括室排列，其至少包括用于處理襯底 的第一處理室、用于處理襯底的第二處理室和/或轉(zhuǎn)移室；至少包括鎖定室，其構(gòu)造為將襯 底鎖定在室排列中和/或?qū)⒁r底鎖定在室排列之外；第一傳輸路徑，其用于將襯底傳輸通 過室排列；以及第二傳輸路徑，其用于將襯底傳輸通過室排列。第二傳輸路徑可以相對于第 一傳輸路徑橫向偏移并且相鄰第一傳輸路徑設(shè)置。第一處理室、第二處理室和轉(zhuǎn)移室中的 至少一者包括將襯底從第一傳輸路徑轉(zhuǎn)移到第二傳輸路徑和/或從第二傳輸路徑轉(zhuǎn)移到 第一傳輸路徑的裝置。這種用于轉(zhuǎn)移襯底的裝置包括至少第一引導部分和第二引導部分的 組合，其中，第一引導部分與第二引導部分平行地設(shè)置。處理系統(tǒng)例如是用于在襯底上沉積一個或多個層的涂布系統(tǒng)。襯底可以在不具有 承載器或者固定到承載器上的狀態(tài)下傳輸通過系統(tǒng)，以受到處理。該創(chuàng)造性的涂布系統(tǒng)具 有大致直線的兩個傳輸路徑。直線傳輸路徑表示襯底和襯底承載器可以在其上傳輸而不需 要旋轉(zhuǎn)襯底/承載器以改變襯底/承載器的橫向位置或使得襯底/承載器橫向偏移。另一 方面，直線路徑可以包括使得傳輸路徑的方向從直線偏移。鎖定室、第一處理室和第二處理 室彼此沿直線設(shè)置。第一傳輸路徑和第二傳輸路徑可以被平行設(shè)置。第一傳輸路徑和第二傳輸路徑從 鎖定室的內(nèi)部延伸進入第一處理室。它們可以是大致直線的路徑。本發(fā)明的特征是第一傳 輸路徑和第二傳輸路徑橫向偏離。它們不交叉并且它們不通過例如旋轉(zhuǎn)模塊連接。可以通 過平移運動而使得襯底僅在傳輸路徑之間傳輸。換言之，在襯底的被涂布的表面永遠被調(diào) 整到直線系統(tǒng)的相同側(cè)。因此，處理工具可以相對于第一傳輸路徑和第二傳輸路徑設(shè)置在 相同側(cè)上。第一傳輸路徑和第二傳輸路徑形成雙路徑或雙導軌。雙導軌從組合的鎖入/鎖出 室延伸進入處理室，其中處理室例如可以是用于沉積TFT裝置的No層的涂布室。鎖定室是組合的鎖入和鎖出室。鎖定室是雙導軌裝載/卸載鎖定模塊。襯底可以 被從涂布/處理室的排列以及從裝載臺(例如，擺動臺)傳輸?shù)窖b載鎖定室。裝載鎖定室 可以被分別抽真空和通氣。例如，在襯底被從涂布/處理室傳輸進入裝載鎖定室之前，鎖入 /鎖出室被抽真空。在襯底被從用于裝載襯底的裝載臺傳輸進入裝載鎖定室之前，鎖入/鎖 出室被通氣。在襯底被傳輸?shù)窖b載鎖定室之外、分別進入涂布/處理室的排列和/或用于 裝載襯底的裝載臺時，發(fā)生同樣的情況。
鎖入/鎖出室/模塊可以是為接收到室中的襯底提供兩個、三個或多個位置的雙 導軌模塊、三導軌模塊或多導軌模塊。它可以是可以通過真空系統(tǒng)而抽真空的緩沖室和/ 或鎖定室。第一處理室、第二處理室和轉(zhuǎn)移室中的至少一者包括將襯底從第一傳輸路徑轉(zhuǎn)移 到第二傳輸路徑和/或從第二傳輸路徑轉(zhuǎn)移到第一傳輸路徑的裝置。該裝置可以包括輥驅(qū) 動器、齒輪驅(qū)動器、液壓或氣壓驅(qū)動器等。轉(zhuǎn)移運動可以是豎直或水平的運動。這是不使得 襯底/承載器旋轉(zhuǎn)地平移。用于轉(zhuǎn)移襯底的裝置包括用于使得襯底從第一傳輸路徑向第二傳輸路徑和/或 從第二傳輸路徑向第一傳輸路徑的裝置橫向轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)移裝置。轉(zhuǎn)移裝置例如可以包括抬升 裝置。處理室和/或鎖定室和/或轉(zhuǎn)移室可以包括轉(zhuǎn)移裝置。以此方式，可以拋棄復(fù)雜和 昂貴的旋轉(zhuǎn)模塊。在襯底/承載器從組合的鎖入/鎖出室通過系統(tǒng)并且返回組合的鎖入/ 鎖出室的整個傳輸過程中，襯底/承載器的對準保持不變。用于轉(zhuǎn)移襯底的裝置包括用于使得引導件的部分從第一傳輸路徑向第二傳輸路 徑和/或從第二傳輸路徑向第一傳輸路徑的裝置橫向轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)移裝置。這表示引導件的部 分被設(shè)置在第一傳輸路徑中或第二傳輸路徑中以完成第一傳輸路徑和第二傳輸路徑中的 一者。引導件的這部分可以是能夠橫向轉(zhuǎn)移的軌道部分。這部分被設(shè)置在一個腔室中。用 于轉(zhuǎn)移襯底的裝置被構(gòu)造為使得襯底、襯底承載器和/或軌道部分從第一傳輸路徑移動到 第二傳輸路徑。優(yōu)選地，這種用于轉(zhuǎn)移襯底的裝置至少包括第一引導部分和第二引導部分的組合 以及轉(zhuǎn)移裝置，在第一引導部分和第二引導部分的組合中，第一引導部分與第二引導部分 在與第一傳輸路徑和第二傳輸路徑之間的距離相對應(yīng)的距離處平行地設(shè)置，并且轉(zhuǎn)移裝置 用于橫向地轉(zhuǎn)移上述組合，以將襯底從第一傳輸路徑移動到第二傳輸路徑和/或?qū)⒁r底從 第二傳輸路徑移動到第一傳輸路徑。上述組合可以被構(gòu)造為至少兩個平行傳輸?shù)膮^(qū)段，其 中一者可以定位在第一傳輸路徑或第二傳輸路徑中，并且其他的可以分別定位在第二傳輸 路徑中、第一傳輸路徑中和第三位之中。軌道區(qū)段中的一者可以被移動到沿著第一傳輸路 徑的位置中，通過其他區(qū)段被移動到沿著第二傳輸路徑的位置中。上述組合可以是具有彼 此平行設(shè)置的兩個導軌部分。在本發(fā)明的該實施例中，雙導軌部分是可以橫向移動的，特別 是橫向移動和/或沿著垂直于傳輸路徑的方向移動。在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，室排列包括與第一處理室直線連接的第二處理室，其 中，第一大致直線的傳輸路徑從第一處理室延伸到第二處理室，以將襯底從第一處理室傳 輸?shù)降诙幚硎一蛘邚牡诙幚硎覀鬏數(shù)降谝惶幚硎?，并且第二大致直線的傳輸路徑從第 一處理室延伸到第二處理室，以將襯底從第二處理室傳輸?shù)降谝惶幚硎一蛘邚牡谝惶幚硎?傳輸?shù)降诙幚硎?。第一處理室可以例如是Mo涂布臺，第二處理室可以例如是Al涂布臺。在第一處 理室與第二處理室之間，可以有一個或多個其他處理室、緩沖室、轉(zhuǎn)移室等。然而，第一傳輸 路徑和第二傳輸路徑都直線地延伸通過這些中間室。在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，第一大致直線的傳輸路徑從第二處理室延伸到轉(zhuǎn)移 室，以將襯底從第二處理室傳輸?shù)睫D(zhuǎn)移室或者從轉(zhuǎn)移室傳輸?shù)降诙幚硎?，并且第二大?直線的傳輸路徑從轉(zhuǎn)移室延伸到第二處理室，以將襯底從轉(zhuǎn)移室輸?shù)降诙幚硎一蛘邚牡诙幚硎覀鬏數(shù)睫D(zhuǎn)移室。在這種構(gòu)造中，轉(zhuǎn)移室可以被設(shè)置在第一處理室與第二處理室之 間，或者在與第一處理室避開的那一側(cè)上連接到第二處理室。優(yōu)選地，第一大致直線的傳輸路徑從第一處理室延伸到轉(zhuǎn)移室，以將襯底從第一 處理室傳輸?shù)睫D(zhuǎn)移室或者從轉(zhuǎn)移室傳輸?shù)降谝惶幚硎?，并且第二大致直線的傳輸路徑從轉(zhuǎn) 移室延伸到第一處理室，以將襯底從轉(zhuǎn)移室輸?shù)降谝惶幚硎一蛘邚牡谝惶幚硎覀鬏數(shù)睫D(zhuǎn)移 室。在這種構(gòu)造中，轉(zhuǎn)移室可以在與第一處理室避開的那一側(cè)上連接到第二處理室，并且如 果存在第二處理室的話，可以設(shè)置在第一處理室與第二處理室之間。用于轉(zhuǎn)移襯底的裝置優(yōu)選地包括與第一引導部分和第二引導部分平行地設(shè)置的 第三引導部分。至少鎖定室和/或第一處理室包括至少具有彼此相鄰設(shè)置的三個導軌部分的第 一三導軌模塊，并且其中三導軌模塊被設(shè)置為可以相對于第一傳輸路徑和第二傳輸路徑橫 向移動，以至少使得三導軌模塊的第二導軌部分至少在與第一傳輸路徑相對準的位置和與 第二傳輸路徑相對準的位置之間移動。換言之，三導軌模塊的第一導軌部分和第二導軌部分與第一傳輸路徑相對準，并 且三導軌模塊的第一導軌部分和第二導軌部分可以與第二傳輸路徑對準，并且三導軌模塊 的第三導軌部分可以與第一傳輸路徑和第二傳輸路徑中的至少一者對準。提供能夠與第一導軌部分和第二導軌部分一同橫向移動的第三導軌部分有助于 在兩個室之間同時和同步地交換兩個襯底。這是由于以下事實代替具有允許襯底從第一 傳輸路徑向第二傳輸路徑或者反向橫向轉(zhuǎn)移的兩個導軌部分的雙導軌模塊，根據(jù)本發(fā)明的 三導軌模塊能夠確保三導軌模塊的橫向運動能夠被控制，以允許至少在處理系統(tǒng)的室排列 的直線部分之間同時交換襯底，由此增加系統(tǒng)的效率。與此同時，設(shè)置在根據(jù)本發(fā)明的處理系統(tǒng)的室中的三導軌模塊是具有用于使得襯 底沿著第一和第二傳輸路徑(即，進入室、穿過室并且離開室)傳輸?shù)膫鬏斚到y(tǒng)的傳輸模 塊。第一襯底(通常在傳輸通過室排列的同時設(shè)置在襯底支撐件中)可以在第一、第二或 第三導軌部分中沿著第一傳輸路徑或第二傳輸路徑移動，同時第二襯底(通常在傳輸通過 室排列的同時也設(shè)置在襯底支撐件中)可以在第一、第二或第三導軌部分中的另一者中與 第一襯底獨立地沿著第一傳輸路徑或第二傳輸路徑中的另一者移動。優(yōu)選地，第一導軌部分被設(shè)置為相對于第一傳輸路徑和第二傳輸路徑橫向地移 動，以至少將三導軌模塊的第一導軌部分移動到與第一傳輸路徑對準的位置中，和/或?qū)?三導軌模塊的第三導軌部分設(shè)置為可以相對于第一傳輸路徑和第二傳輸路徑橫向地移動， 以至少將三導軌模塊的第三導軌部分移動到與第一傳輸路徑和第二傳輸路徑中的至少一 者對準的位置中。具體地，鎖定室和第一處理室可以沿直線設(shè)置。鎖定室和第一處理室中的一者或 兩者包括具有三個導軌部分的三導軌模塊。第一傳輸路徑和第二傳輸路徑彼此相鄰地設(shè)置(特別地，彼此平行)，并且延伸通 過根據(jù)本發(fā)明的室排列。換言之，可以在第一傳輸路徑上、在第二傳輸路徑上或者在沿著第 一傳輸路徑和第二傳輸路徑的一部分的路線上將特定襯底從室排列的外部傳輸通過室排 列。三導軌模塊的至少三個導軌部分包括三個獨立驅(qū)動的導軌部分。因此，在特定室中，第一襯底和第二襯底可以同時分別沿著第一傳輸路徑和第二傳輸路徑移動。可以以第 一導軌部分和第二導軌部分中每一者可以分別定位在第一傳輸路徑和第二傳輸路徑中的 方式，來移動三導軌模塊。第三導軌部分至少可以在第一傳輸路徑或第二傳輸路徑中移動。根據(jù)系統(tǒng)分析，在僅具有設(shè)置在雙導軌模塊中的雙傳輸導軌部分的傳統(tǒng)系統(tǒng)中， 在每個處理循環(huán)中只可能在第一處理室與第二處理室之間進行同時交換。在系統(tǒng)分析中可 以看出，在僅在雙路徑系統(tǒng)中提供雙導軌布局時，在一個完成的處理循環(huán)中不是總能夠在 兩個室之間的同時交換襯底。優(yōu)選地，第一三導軌模塊的導軌部分被構(gòu)造為被獨立地驅(qū)動，以將兩個不同襯底 彼此獨立地沿著第一傳輸路徑或第二傳輸路徑移動。因此，可以同時在彼此相鄰地設(shè)置的 兩個室之間交換襯底。每一種驅(qū)動都允許將襯底沿著第一傳輸路徑和/或第二傳輸路徑以 向前的方向或向后的方向傳輸。在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，鎖定室和第一處理室都包括三導軌模塊，S卩，分別包括 第一三導軌模塊和第二三導軌模塊。優(yōu)選地，室排列至少包括與鎖定室和/或第一處理室直線地設(shè)置的第二處理室。 具體地，第二處理室可以連接到第一處理室，并且第一處理室可以連接到鎖定室，以形成包 括鎖定室、第一處理室和第二處理室的直線排列。室排列可以至少包括與第一處理室和/ 或第二處理室直線連接的第三處理室。在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，第二處理室包括至少具有可以被獨立地驅(qū)動并且可以 彼此平行地設(shè)置的雙導軌部分的雙導軌模塊，其中，雙導軌模塊被設(shè)置為可以相對于第一 傳輸路徑和第二傳輸路徑橫向地移動，至少使得雙導軌模塊的第二導軌部分可以與第一傳 輸路徑和第二傳輸路徑對準。 此外，涂布系統(tǒng)可以連接到用于將襯底饋送到室排列并且用于從室排列接收襯底 的饋送模塊。饋送模塊連接到室排列的鎖定室。饋送模塊可以包括可以在第一傳輸路徑與 第二傳輸路徑之間橫向移動的單導軌部分，并且可以包括沿著第一傳輸路徑固定地設(shè)置的 第一導軌部分和沿著第二傳輸路徑固定地設(shè)置的第二導軌部分。饋送模塊可以包括擺動模 塊。優(yōu)選地，雙導軌模塊和/或三導軌模塊分別包括相對于彼此固定地設(shè)置的兩個導 軌部分和三個導軌部分。固定地設(shè)置表示各個導軌部分總是以彼此之間特定的距離設(shè)置。 這可以通過適當?shù)乜刂茖к壊糠值囊苿?、導軌部分之間的連接等而實現(xiàn)。在本發(fā)明的另一個優(yōu)選實施例中，雙導軌模塊的兩個導軌部分之間的橫向距離和 /或三導軌模塊的相鄰的導軌部分之間的橫向距離對應(yīng)于第一傳輸路徑與第二傳輸路徑之 間的橫向距離。優(yōu)選地，第一傳輸路徑和第二傳輸路徑彼此平行地設(shè)置和/或大致直線地延伸通 過室排列。直線排列意味著第一傳輸路徑和第二傳輸路徑不交叉。通過使得雙導軌模塊或 三導軌模塊橫向移動，可以使得襯底(承載器)在第一傳輸路徑與第二傳輸路徑之間轉(zhuǎn)移。在本發(fā)明的另一個優(yōu)選實施例中，第一處理室和/或第二處理室包括用于對定位 在處理位置中的襯底進行處理的處理工具。襯底的處理大致包括在襯底的表面上沉積涂 層。在不同處理室中的處理通常表示在襯底的頂部沉積不同的涂層，以在襯底的表面上形 成層堆疊。因此，處理室可以包括設(shè)置在各個處理室的至少一側(cè)上的涂布工具。涂布方法可以是化學氣相沉積(CVD)法、物理氣相沉積(PVD)法，例如濺射、蒸發(fā)法等。通常，涂布工 具設(shè)置在室的直線排列的特定側(cè)上，以在襯底的一側(cè)上提供涂層，而不需要使得襯底在室 排列中回轉(zhuǎn)。在襯底的第一表面相對于第一傳輸路徑和/或第二傳輸路徑面向第一側(cè)并且 襯底的第二表面面向第二側(cè)的狀態(tài)下，襯底沿著第一傳輸路徑和第二傳輸路徑移動。優(yōu)選地，第一處理室和/或第二處理室中的襯底的處理位置被設(shè)置為與第一傳輸 路徑相鄰。具體地，用于轉(zhuǎn)移襯底的裝置包括用于橫向地轉(zhuǎn)移上述組合的轉(zhuǎn)移裝置，以將襯 底從第一傳輸路徑移動到第二傳輸路徑和/或?qū)⒁r底從第二傳輸路徑移動到第一傳輸路徑。優(yōu)選地，第一引導部分、第二引導部分和/或第三引導部分設(shè)置為使得相對于彼 此的距離對應(yīng)于第一傳輸路徑與第二傳輸路徑之間的距離。第一處理室、第二處理室和/或轉(zhuǎn)移室沿直線連接。處理系統(tǒng)包括用于將襯底沿著第一傳輸路徑以及沿著第二傳輸路徑傳輸?shù)膫鬏?系統(tǒng)。在沿著傳輸路徑傳輸?shù)倪^程中，可以在襯底承載器中支撐襯底。襯底可以固定到襯 底承載器。在另一個實施例中，襯底可以在沒有承載器的狀態(tài)下，例如通過氣墊傳輸系統(tǒng)而 穿過涂布系統(tǒng)。傳輸系統(tǒng)被構(gòu)造為沿著至少在鎖定室、第一涂布室、第二涂布室和/或轉(zhuǎn)移 室之間的傳輸路徑傳輸襯底/襯底承載器。傳輸系統(tǒng)可以分別集成在雙導軌模塊和三導軌 模塊中。例如，傳輸系統(tǒng)包括分別沿著雙導軌模塊和三導軌模塊的導軌部分設(shè)置的驅(qū)動輥。 驅(qū)動輥(例如，承載器驅(qū)動輥)可以相對于第一傳輸路徑和第二傳輸路徑橫向移動。襯底 /攜帶襯底的襯底承載器被連續(xù)地傳輸通過涂布系統(tǒng)。傳輸系統(tǒng)至少包括用于沿著第一傳輸路徑和/或沿著第二傳輸路徑引導襯底的 引導件。術(shù)語“襯底”指的是襯底和/或用于襯底承載器。引導件可以包括軌道(通常設(shè) 置在室的底部和/或頂部；假設(shè)襯底在通過處理系統(tǒng)的傳輸過程中豎直地或至少傾斜地對 準)。引導件可以包括通常設(shè)置在豎直對準的襯底的頂部的磁性引導系統(tǒng)。然而，可以結(jié)合 本發(fā)明使用任何其他的傳輸系統(tǒng)。此外，襯底可以以任何對準方式傳輸。在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，傳輸系統(tǒng)包括用于沿著第一傳輸路徑引導襯底的第一 弓I導件和用于沿著第二傳輸路徑弓I導襯底的第二引導件。在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，第一處理室和/或第二處理室包括在各個處理室中設(shè) 置在第一傳輸路徑的橫向附近的處理工具。這種布置是以下事實的結(jié)果沿著第一傳輸路 徑和第二傳輸路徑移動的襯底的第一表面總是與朝向處理工具的方向?qū)?，而不用考慮它 是沿著第一傳輸路徑移動還是沿著第二傳輸路徑移動。在這種布置中，處理/涂布工具設(shè) 置在直線排列的一側(cè)，并且僅設(shè)置在這一側(cè)上。當在室排列中移動時，襯底/承載器從不旋 轉(zhuǎn)。因此，沒有必要在直線排列的另一側(cè)上設(shè)置處理/涂布工具。優(yōu)選地，雙導軌模塊和三導軌模塊的導軌部分被構(gòu)造為獨立地驅(qū)動，以沿著第一 傳輸路徑或第二傳輸路徑彼此獨立地移動兩個不同的襯底。在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，鎖定室包括第一三導軌模塊，第一處理室包括第二三 導軌模塊并且第二處理室包括雙導軌模塊。優(yōu)選地，第一引導部分和第二引導部分的組合形成雙導軌模塊，并且第一引導部 分、第二引導部分和第三引導部分的組合形成三導軌模塊。
雙導軌模塊和/或三導軌模塊可以分別包括相對于彼此固定地設(shè)置的雙導軌部 分和三導軌部分。雙導軌模塊和/或三導軌模塊的導軌部分可以被彼此獨立地驅(qū)動，以沿著第一傳 輸路徑以第一方向移動第一襯底并且沿著第二傳輸路徑以第二方向移動第二襯底。第一方 向和第二方向可以對應(yīng)或者不同。根據(jù)本發(fā)明，一種操作如上所述的處理系統(tǒng)的方法包括以下步驟(a)沿著第一 傳輸路徑將第一襯底從鎖定室傳輸?shù)降谝惶幚硎抑?，并且在第一襯底上沉積第一層；(b) 將第一襯底從第一傳輸路徑橫向地轉(zhuǎn)移到第二傳輸路徑；以及(c)沿著第二傳輸路徑將第 一襯底傳輸?shù)芥i定室中，其中，該方法包括在方法步驟中將第二襯底沿著第一傳輸路徑從 鎖定室傳輸?shù)降谝惶幚硎?。根?jù)本發(fā)明的用于處理襯底的方法包括以下步驟(a)提供如上所述的涂布系 統(tǒng)；(b)在第一處理室中，在第一襯底上沉積第一層；以及(c)在第二處理室中，在襯底上沉
積第二層。在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，上述方法還包括以下步驟(d)在第一處理室中，在襯 底上沉積第三層。優(yōu)選地，襯底/承載器被連續(xù)地傳輸?shù)芥i定室、第一處理室、第二處理室、第一處 理室和鎖定室中。具體地，在處理過程中，在室排列中總是存在至少三個襯底。在整個處理過程中，襯底的第一表面朝向直線排列的相同側(cè)。上述方法可以包括將收到至少一次處理的第一襯底從第一傳輸路徑轉(zhuǎn)移到第二 傳輸路徑，以使得第二襯底能夠沿著第一傳輸路徑越過第一襯底。室排列至少可以包括用 于將襯底從第一傳輸路徑向第二傳輸路徑以及沿反向轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)移室。在如上所述的配置中的另一個處理可以如下所述地概述。經(jīng)由鎖入/鎖出模塊將 第一襯底鎖定到涂布系統(tǒng)中。之后，在第一處理室中對襯底進行處理以接收第一層(例如， Mol層)。之后，在將襯底傳輸回第一室以在第二層的頂部上獲得第三層(例如，Mo2層)之 前，將襯底傳輸?shù)降诙幚硎?，以獲得第二層(例如，Al層)。因此，在對一個襯底進行處理 時使用了兩次第一室并且在處理過程中使用了 一次第二處理室。在Al涂布處理之后，來自 第一處理室的第二襯底越過第一襯底，并且在第二室中獲得Al層，并且第一襯底在第一室 中獲得Mo2層。上述方法連續(xù)地重復(fù)。襯底連續(xù)地通過處理臺。上述室排列和方法特別有利于具有需要短處理時間的第一層和需要非常長的處 理時間的第二層的處理。在第一處理室中，可以在第二層上沉積與第一涂層相同材料的、需 要短處理時間的第三層。在系統(tǒng)分析中可以表現(xiàn)出，上述的配置和方法提供了優(yōu)化的處理并且因此提供了 優(yōu)秀的產(chǎn)量以及室利用率。此外，在這種配置下，可以使得大量襯底同時傳輸通過室排列。 通過使用上述三軌道模塊，尅減小處理室的數(shù)目。通過本發(fā)明，可以實現(xiàn)高產(chǎn)量的涂布系統(tǒng)，同時可以避免復(fù)雜的構(gòu)造以及包括復(fù) 雜的旋轉(zhuǎn)模塊。此外，可以減小安裝涂布系統(tǒng)的排列所需的空間。如上所述的具有雙導軌模塊和三導軌模塊的構(gòu)造可以應(yīng)用到多種不同布局的處理/操作模塊排列。上述特征本質(zhì)上要求保護其任何組合。


通過參照附圖，本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點將會通過以下優(yōu)選實施例的描述而變得 更加清楚。附圖示出了 圖1根據(jù)本發(fā)明的處理系統(tǒng)的第一實施例；圖2根據(jù)本發(fā)明的處理系統(tǒng)的第二實施例；圖3根據(jù)處于第一工作模式的本發(fā)明的處理系統(tǒng)的第三實施例；圖4第二操作模式中的圖3的第三實施例；圖5根據(jù)本發(fā)明的處理系統(tǒng)的第四實施例圖6根據(jù)本發(fā)明的處理系統(tǒng)的第五實施例圖7根據(jù)本發(fā)明的處理系統(tǒng)的第六實施例圖8根據(jù)本發(fā)明的涂布系統(tǒng)的第一實施例；圖9在圖1的系統(tǒng)中的對襯底進行處理的方法中的步驟；以及圖10根據(jù)本發(fā)明的三導軌模塊的截面圖。
具體實施例方式圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的涂布系統(tǒng)1的第一實施例。系統(tǒng)1包括襯底饋送和接收 臺(例如，擺動臺)2，其包括可以在大氣壓下操作以將襯底饋送到室排列和/或從室排列接 收在涂布系統(tǒng)1中經(jīng)過處理的襯底的擺動模塊。本發(fā)明的第一實施例對應(yīng)于包括鎖定室3和第一涂布室4的室排列。鎖定室3被 構(gòu)造為組合的鎖入/鎖出室(lock-in/lock-out chamber)。第一涂布室4具有用于將層沉 積在襯底上的涂布工具如。由鎖定室3和第一涂布室4構(gòu)成的室排列具有由虛線表示的第一大致直線的傳輸 路徑Tl以及由虛線表示的第二大致直線的傳輸路徑T2。第一傳輸路徑Tl和第二傳輸路徑 T2平行地設(shè)置，而使其之間沒有交叉。路徑Tl和T2的排列建立了雙導軌。系統(tǒng)1包括用于使得襯底如箭頭所示沿著第一傳輸路徑Tl和/或第二傳輸路徑 T2移動通過室3、4的排列的傳輸系統(tǒng)。具體地，將襯底從擺動臺2沿著第一路徑Tl傳輸 到鎖定室3并且之后沿著第一路徑Tl進入第一涂布室4。在這種第一位置中，涂布工具如 被激活以在襯底上沉積材料層。之后，依靠第一轉(zhuǎn)移裝置，將襯底轉(zhuǎn)移到第一涂布室4中的 第二位置(由雙頭箭頭表示)。第二位置位于第二傳輸路徑T2上。其后，將襯底傳輸回鎖 定室3，依靠第二轉(zhuǎn)移裝置將其轉(zhuǎn)移到鎖定室3中的第三位置(由雙頭箭頭表示)并且進一 步進入擺動臺2。第三位置位于第一傳輸路徑Tl上。一旦襯底已經(jīng)被轉(zhuǎn)移到沿著第二傳輸路徑T2定位的位置中，第二襯底可以進入 室3、4的排列，并且具體地，進入涂布室4以受到處理。這種步驟可以連續(xù)地重復(fù)，由此提 供通過系統(tǒng)1的連續(xù)的襯底流。室3和4中的一個或者特別是兩個包括用于通過橫向運動將襯底從第一路徑Tl 轉(zhuǎn)移到第二路徑T2和/或從第二路徑T2轉(zhuǎn)移到第一路徑Tl的轉(zhuǎn)移裝置。轉(zhuǎn)移裝置可以包括將設(shè)置在室3或4中的一者中的單導軌部分(例如軌道部分)
11在第一路徑Tl與第二路徑T2之間移動的致動器?；蛘?，轉(zhuǎn)移裝置包括構(gòu)造為兩個導軌部 分的組合的雙導軌部分(雙軌道部分)，這兩個導軌部分彼此隔開以分別形成第一軌道Tl 和第二軌道T2的一部分。這種組合可以橫向地移動，使得對應(yīng)于第一傳輸路徑Tl的軌道 部分可以移動到沿著第二傳輸路徑T2的位置。在本發(fā)明的另一個實施例中，轉(zhuǎn)移裝置可以 包括抬升機構(gòu)，用于將襯底從沿著第一傳輸路徑Tl的位置橫向地抬升到沿著第二傳輸路 徑T2的位置。本發(fā)明不局限于具體的轉(zhuǎn)移裝置。圖2公開了本發(fā)明的第二實施例，其中，相同的附圖標記和符號表示與結(jié)合第一 實施例描述的元件相同的元件。根據(jù)第二實施例的系統(tǒng)1包括設(shè)置在鎖定室3與第一涂布室4之間的緩沖室5。 此外，其包括轉(zhuǎn)移室6和具有用于將第二層沉積到襯底上的第二涂布工具7a的第二涂布室 7。轉(zhuǎn)移室6和第二涂布室7與鎖定室3、緩沖室5和第一涂布室4 一同形成室排列?？梢?看到第一涂布工具如和第二涂布工具7a沿著第一傳輸路徑Tl設(shè)置在系統(tǒng)1的直線排列 的相同側(cè)上。對系統(tǒng)1進行操作的方法可以包括沿著第一傳輸路徑Tl將第一襯底從鎖定室3 傳輸?shù)骄彌_室5，并且進入第一處理室4，在第一處理室4中，第一材料層沉積在第一襯底的 第一表面上。之后，第一襯底被傳輸?shù)睫D(zhuǎn)移室6并且進入第二涂布室7。在第二涂布室7 中，第二材料層沉積在第一材料層的頂部。之后，襯底被傳輸回轉(zhuǎn)移室6。在轉(zhuǎn)移室6中，通 過上述轉(zhuǎn)移裝置，將第一襯底從第一傳輸路徑Tl上的位置轉(zhuǎn)移到第二傳輸路徑T2上的位 置。這由轉(zhuǎn)移室6中的雙頭箭頭示出。在這之后，第二襯底被從第一涂布室4接收到轉(zhuǎn)移 室6中，并且沿著第一傳輸路徑Tl傳輸?shù)降诙坎际?。之后，第一襯底被從沿著第二傳輸 路徑T2的位置轉(zhuǎn)移回沿著第一傳輸路徑Tl的位置，并且進入第一涂布室4。在第一涂布室 4中，第一襯底在第一材料層和第二材料層的頂部接收第三材料層。之后，將襯底傳輸?shù)骄?沖室5中，在緩沖室5中將襯底轉(zhuǎn)移到沿著第二傳輸路徑T2的位置，以允許將第三襯底沿 著第一傳輸路徑Tl傳遞到第一涂布室4。第一襯底沿著第二傳輸路徑T2經(jīng)由鎖定室3而 離開處理系統(tǒng)1。持續(xù)地重復(fù)結(jié)合第一、第二和第三襯底描述的步驟以提供連續(xù)的處理。圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的涂布系統(tǒng)1的第三實施例。在用于將兩個層沉積在襯底 上的工作模式中，將第一襯底沿著第一傳輸路徑Tl經(jīng)由鎖定室3傳輸?shù)降谝煌坎际?。在 第一涂布室4中，第一層被沉積在第一襯底的表面上。之后，第一襯底被傳輸?shù)降诙坎际?7中，以將第二層沉積在第一層的頂部。之后，第一襯底被轉(zhuǎn)移到沿著第二傳輸路徑T2的位 置，以沿著第一傳輸路徑Tl產(chǎn)生用于使得第二襯底進入第二涂布室7的空間。沿著第二傳 輸路徑T2將第一襯底經(jīng)由第一處理室4和鎖定室3傳輸回來。在鎖定室3中，第一襯底被 從沿著第二傳輸路徑T2的位置轉(zhuǎn)移到沿著第一傳輸路徑Tl的位置，以離開室排列而到達 擺動臺2。在圖4中公開了相同的室排列。然而，在另一個操作模式中，可以在襯底的表面上 沉積三個層。經(jīng)由鎖定室3將第一襯底傳輸?shù)降谝惶幚硎?中，以將第一涂層沉積在第一 襯底的第一表面上。之后，第一襯底被傳輸?shù)降诙幚硎?，以將第二層沉積在第一層的頂 部上。之后，襯底被轉(zhuǎn)移到沿著第二傳輸路徑T2的位置以沿著第一傳輸路徑Tl產(chǎn)生用于 使得第二襯底進入第二涂布室7的空間。之后，第一襯底被傳輸回第一涂布室4并且在第 一涂布室4中從沿著第二傳輸路徑T2的位置轉(zhuǎn)移到沿著第一傳輸路徑Tl的位置。在第一襯底的這個位置中，第三層沉積在第二層的頂部上。之后，將第一襯底從沿著第一傳輸路徑 Tl的位置轉(zhuǎn)移回沿著第二傳輸路徑T2的位置，以沿著第一傳輸路徑Tl產(chǎn)生用于使得第三 襯底進入第一涂布室4的空間。第一襯底被傳輸回鎖定室3并且橫向地轉(zhuǎn)移回第一傳輸路 徑Tl，以離開室排列而到達擺動臺2。第二襯底、第三襯底等跟著第一襯底以產(chǎn)生通過系統(tǒng) 1的連續(xù)的襯底流。與圖3和4中示出的第三實施例相比，本發(fā)明的第四實施例示出在圖5中。系統(tǒng) 1包括額外的轉(zhuǎn)移室4，其連接到第二處理室7以形成鎖定室3、第一處理室4、第二處理室 7和轉(zhuǎn)移室6的直線排列。在兩個層將要沉積到襯底的表面上的工作模式中，沿著第一傳輸路徑Tl傳輸?shù)?一襯底，以分別在第一處理室4和第二處理室7中接收第一材料層和第二材料層。之后，在 轉(zhuǎn)移室6中將第一襯底從沿著第一傳輸路徑Tl的位置轉(zhuǎn)移到沿著第二傳輸路徑T2的位 置。第二襯底可以在轉(zhuǎn)移室6中沿著第一傳輸路徑Tl跟隨第一襯底。沿著第二傳輸路徑 T2將第一襯底傳輸回鎖定室3并且之后轉(zhuǎn)移到第一傳輸路徑Tl上的位置中以經(jīng)由擺動臺 2離開系統(tǒng)。圖6示出了按照根據(jù)本發(fā)明的涂布系統(tǒng)1的第五實施例的室排列。在第四實施例 之上，涂布系統(tǒng)1包括具有第三處理工具8a的第三處理室8。第三處理室8被設(shè)置在第二 處理室7與轉(zhuǎn)移室6之間。因此，襯底可以沿著第一傳輸路徑Tl穿過系統(tǒng)1，由此接收三 個材料層。在轉(zhuǎn)移室6中，襯底被從第一傳輸路徑Tl轉(zhuǎn)移到第二傳輸路徑T2，以沿著第二 傳輸路徑3傳輸回鎖定室3，在離開系統(tǒng)1之前，將襯底在鎖定室3中轉(zhuǎn)移回第一傳輸路徑 Tl。根據(jù)圖7的系統(tǒng)1由兩個獨立的支路Ia和Ib構(gòu)成，其每個分別具有第一傳輸路 徑Tla和Tlb以及第二傳輸路徑I^a和T2b。每個支路包括沿直線設(shè)置的擺動臺2、鎖定室3、第一處理室4、轉(zhuǎn)移室6和第二處 理室7。每個支路la、lb由用于在襯底上提供兩個層或三個層的方法來操作。在兩層工作模式中，在已經(jīng)接收了第一材料層和第二材料層之后，第一襯底被從 沿著第一傳輸路徑Tla、Tlb的位置轉(zhuǎn)移到沿著第二傳輸路徑T2a、T2b的位置。之后，在第 二襯底在第一傳輸路徑Tl上跟隨第一襯底的同時，將第一襯底分別沿著第二傳輸路徑Th 和T2b傳輸回來。在三層工作模式下，第二襯底在轉(zhuǎn)移室6中越過第一襯底。之后，第一襯底被轉(zhuǎn)移 回第一傳輸路徑Tib、Tlb并且進入第一涂布室4，以將第三材料層沉積在第二材料層的頂 部。之后，可以在第一涂布室4中將襯底轉(zhuǎn)移到第二傳輸路徑T2a、T2b上，以經(jīng)由鎖定室3 和擺動臺2離開系統(tǒng)1。與此同時，第三襯底可以沿著第一傳輸路徑Tl進入第一處理室4。用于將層堆疊沉積在襯底上的典型應(yīng)用(僅作為示例)包括在襯底上沉積厚度 400A的第一 Mo層、在第一層的頂部上沉積厚度3500A的第二 Al層以及沉積在第二層的頂 部上的厚度700A的第三Mo層。在第一涂布室4中或第三涂布室8中沉積第三層?？梢栽诓怀龈鶕?jù)本發(fā)明的概念的情況下實現(xiàn)各種構(gòu)造的其他室，本發(fā)明的概念 包括使得延伸通過完全直線排列的至少兩個傳輸路徑Tl和T2至少延伸通過鎖定室3和第 一處理室4。通過這種系統(tǒng)構(gòu)造，可以提供不同的工作模式，以增加涂布系統(tǒng)1的效率。使 用雙導軌系統(tǒng)1的另一個優(yōu)點是可以減小通氣/抽真空的步驟的數(shù)目，由此增加抽真空處理可以利用的時間。這是由于以下事實對于裝載第一襯底和卸載第二襯底，裝載/卸載鎖 定室3只需要被通氣和抽真空一次。圖8示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的涂布系統(tǒng)1。涂布系統(tǒng)1包括鎖定室20、第一處 理室30和第二處理室40。擺動模塊50連接到用于將通常連接到襯底承載架的襯底60a、 60b和60c饋送到涂布系統(tǒng)1的鎖定室20，并且在涂布循環(huán)之后接收來自涂布系統(tǒng)1的經(jīng) 處理的襯底60a、60b和60c。擺動模塊50、鎖定室20、第一處理室30和第二處理室40被構(gòu)造為直線的模塊排 列。這種排列包括第一傳輸路徑Tl和第二傳輸路徑T2，第一傳輸路徑Tl和第二傳輸路徑 T2延伸通過系統(tǒng)并且允許襯底在第一傳輸路徑Tl上、在第二傳輸路徑T2上或者在包括第 一傳輸路徑Tl和第二傳輸路徑T2 二者的部分的路徑上傳輸。鎖定室20包括三導軌模塊21，其包括第一導軌部分22a、第二導軌部分22b和第 三導軌部分22c。導軌部分22a、22b和22c與轉(zhuǎn)移系統(tǒng)23連接，以使得導軌部分22a、22b 和22c橫向地移動。導軌部分22a、22b和22c的橫向轉(zhuǎn)移允許將設(shè)置在導軌部分22a、22b 和22c中的一者中的襯底承載器定位在沿著第一傳輸路徑Tl的位置中或者定位在沿著第 二傳輸路徑T2的位置中。換言之，第一導軌部分22a、第二導軌部分22b和第三導軌部分 22c中的至少一者可以與第一傳輸路徑Tl或第二傳輸路徑T2對準。具體地，至少第一導軌 部分22b可以與第一傳輸路徑Tl或第二傳輸路徑T2對準。第一處理室30包括具有涂布工具32 (例如，可旋轉(zhuǎn)濺射陰極)的涂布裝置31。處 理室30的涂布裝置31設(shè)置在第一傳輸路徑Tl的一側(cè)上。此外，第一處理室30包括第一三導軌模塊33，其具有第一導軌部分34a、第二導軌 部分34b和第三導軌部分34c?？梢酝ㄟ^轉(zhuǎn)移系統(tǒng)35來橫向轉(zhuǎn)移導軌部分34a、34b和34c。 至少第二導軌部分34b可以與第一傳輸路徑Tl或第二傳輸路徑T2對準，并且第三導軌部 分3 可以與第一傳輸路徑Tl或第二傳輸路徑T2對準。導軌部分34a、34b和3 中的每 一者也可以定位在涂布位置36，在該位置中，襯底60a面向涂布裝置31以及用于將涂層沉 積在襯底60a上的涂布工具32。第二處理室40包括具有涂布工具42 (例如，可旋轉(zhuǎn)濺射陰極)的涂布裝置41。在 第二處理室40中沉積的涂層與在第一處理室30中沉積的涂層不同。具體地，在涂布系統(tǒng) 1中，用于在第一處理室30中對層進行沉積的處理時間比用于在第二處理室40中對層進 行沉積的處理時間短得多。因此，第二涂布室40的第二涂布工具42通常與第一處理室30 的第一涂布工具32不同，以在襯底60上提供不同的材料層。第二處理室40的涂布裝置41 設(shè)置在第一傳輸路徑Tl的一側(cè)上。第二處理室40包括具有第一導軌部分4 和第二導軌部分44b的雙導軌模塊43。 至少第二導軌部分44b可以與第一傳輸路徑Tl、第二傳輸路徑T2對準，或者定位在其中襯 底60b面向涂布裝置41的涂布位置46中。至少第一導軌部分4 可以沿著第一傳輸路徑 Tl定位或者定位在涂布位置46中。擺動模塊50包括可以在沿著第一傳輸路徑Tl的位置與沿著第二傳輸路徑T2的 位置之間移動的單個導軌部分51，以將襯底60b饋送到涂布系統(tǒng)1中或者從涂布系統(tǒng)接收 襯底。需要強調(diào)本發(fā)明不限于鎖定室和處理室的這種具體構(gòu)造，而是可以實施為鎖定室、緩沖室、轉(zhuǎn)移室以及所需數(shù)目的處理室的直線排列。圖9示出了在根據(jù)圖8的涂布系統(tǒng)1中的完整涂布循環(huán)期間處理大量襯底 60a、......、60e的方法的步驟。在第一處理步驟01中，在沿著第一傳輸路徑Tl的位置中，將第一襯底60a設(shè)置在 第一處理室30中、第一處理室30的三導軌模塊33的第一導軌部分3 中。在沿著第二傳 輸路徑T2的位置中，將第二襯底60b定位在第二處理室40的雙導軌模塊43的第二導軌部 分44b中。在沿著第二傳輸路徑T2的位置中，將第三襯底60c設(shè)置在設(shè)置于鎖定室20的 三導軌模塊21的第二導軌部分20b中。在處理步驟02中，將第一襯底60a轉(zhuǎn)移到涂布位置36中，以在第一襯底60a上沉 積涂層。因為之前第一襯底60a已經(jīng)涂有第一涂層和第二涂層，所以該涂層是第三涂層。第 二襯底也定位在第二涂布室40中的涂布位置46中，以將層沉積在第二襯底60b上。因為 之前第二襯底60b已經(jīng)被涂布有第一層，所以沉積在第二襯底60b上的層是第二層。第三 襯底60c保持在與處理步驟01中相同的位置。在處理步驟03中，第一襯底60a已經(jīng)在完成了涂布處理之后縮回到沿著第一傳輸 路徑Tl的位置。之后，它被傳輸?shù)芥i定室的三導軌模塊21的第一導軌部分22a中，并且第 三襯底60c被同時傳輸?shù)降谝惶幚硎?0的三導軌模塊33的第二導軌部分3 中。換言之， 襯底60a和60c同時改變腔室。第二襯底60b仍然在第二處理室40中受到處理。在處理步驟04中，在鎖定室20已經(jīng)被充滿之后，在沿著第二傳輸路徑T2的位置 中將在處理步驟03中設(shè)置在擺動模塊50中的第四襯底60d傳輸?shù)芥i定室20中而進入鎖 定室20的三導軌模塊的第二導軌部分22b中。第三襯底60c已經(jīng)被轉(zhuǎn)移到第一處理室30 中的涂布位置36，以在第三襯底60c上沉積第一涂層。因此，第一處理室30的三導軌模塊 33的導軌部分朝向涂布裝置31移動，直到第二導軌部分34b進入涂布位置36。第二襯底 60b仍然在第二處理室40中受到處理。在處理步驟05中，從涂布系統(tǒng)1將第一襯底60a移除到擺動模塊50，同時第四襯 底60d在鎖定室20的三導軌模塊21的第二導軌部分22b中保持在沿著第二傳輸路徑T2 的位置中。第二襯底60b在第二處理室40中的涂布處理已經(jīng)結(jié)束之后被移動到沿著第二 傳輸路徑T2的位置并且被傳輸?shù)降谝惶幚硎?0中、第一處理室30的三導軌模塊33的第 三導軌部分3 上。同時，第三襯底60c被從三導軌模塊33的第二導軌部分34b沿著第一 傳輸路徑Tl傳輸?shù)诫p導軌模塊43的第一導軌部分44a。襯底60b和60c同時改變腔室。在處理步驟06中，設(shè)置在第一處理室30的三導軌模塊33的第三導軌部分3 中 的第二襯底60b被轉(zhuǎn)移到涂布位置36，以在襯底60b上沉積第三層。因此，第一處理室30 的三導軌模塊33的導軌部分34a、34b和3 朝向涂布裝置31橫向移動。此外，通過橫向 地移動第二處理室40的雙導軌模塊43的導軌部分44a、44b，將設(shè)置在第二處理室40的雙 導軌模塊43的第一導軌位置4 中的第三襯底60c轉(zhuǎn)移到涂布位置46，以在第三襯底60c 上沉積第二涂層。鎖定室20中的第四襯底60d的位置保持不變，同時對鎖定室20抽真空。在處理步驟07中，第二襯底60b被從涂布位置36移除到第三導軌部分34c的、 沿著第二傳輸路徑T2的位置中并且被從第一處理室30傳輸?shù)芥i定室20。同時，第四襯底 60d被從鎖定室的三導軌模塊21的第二導軌部分22b傳輸?shù)降谝惶幚硎?0的三導軌模塊 33的第二導軌部分34b。在處理步驟07的過程中，第三襯底60c靜止在第二處理室40中的涂布位置46中，以在襯底60c上涂布第二涂層。在處理步驟08中，在第二襯底60b保持在其位置的同時，在處理步驟07中設(shè)置在 擺動模塊中的第五襯底60e被沿著第一傳輸路徑Tl傳輸?shù)芥i定室20的三導軌模塊21的第 二導軌部分22b上。設(shè)置在第一處理室30的三導軌模塊33的第二導軌部分34b中的第四 襯底60d被轉(zhuǎn)移到涂布位置36，以在第四襯底60d上沉積第一涂層。在第二處理室40中， 對于第二處理室40中的第三襯底60c的涂布處理繼續(xù)。在處理步驟09中，從涂布系統(tǒng)1將第二襯底60b移除到擺動模塊50中，而第五襯 底60e在鎖定室20中保持在沿著第一傳輸路徑Tl的位置中。此外，第四襯底60d被轉(zhuǎn)移 到第一處理室30中的、沿著第二傳輸路徑T2的位置中，并且第三襯底60c被轉(zhuǎn)移到第二處 理室40中的、沿著第一傳輸路徑Tl的位置中。之后，第三襯底60c被傳輸?shù)降谝惶幚硎?0 的三導軌模塊33的第一導軌部分33a上，并且第四襯底60d被同時傳輸?shù)降诙幚硎?0 的雙導軌模塊43的第二導軌44b上。換言之，襯底60c和60d在第一處理室30與第二處 理室40之間同時交換。在處理步驟10中，通過鎖定室20的三導軌模塊21的橫向移動，將第五襯底60e 從沿著第一傳輸路徑Tl的位置移動到沿著第二傳輸路徑T2的位置。此外，設(shè)置在第一處 理室30的三導軌模塊33的第一導軌部分34a中的第三襯底60c被移動到涂布位置36，以 在第三襯底60c上沉積第三涂層。設(shè)置在第二處理室40的雙導軌模塊43的第二導軌部分 44b上的第四襯底60d被橫向移動到涂布位置46，以在第四襯底60d上沉積第二層。處理步驟10對應(yīng)于處理步驟02中的情況。因此，處理步驟11對應(yīng)于處理步驟 03，而n+2的襯底的編號代替η (例如，襯底3代替襯底1)。由于在系統(tǒng)中至少存在三個襯 底并且在涂布循環(huán)中的每個時間點處能夠分別在鎖定室20、第一處理室30和第二處理室 40之間同時交換襯底的事實，所以可以改善系統(tǒng)的產(chǎn)量。系統(tǒng)分析表現(xiàn)出利用代替設(shè)置在鎖定室20中和第一處理室30中的三導軌模塊的 雙導軌模塊，在涂布循環(huán)中存在處理時間損失的情況，這是由于沒有用于使得襯底進入特 定室的導軌部分的事實而引起的。通過在必要時包括三導軌模塊以有助于在對多個襯底進行處理的處理循環(huán)期間 的全部時刻處、在相鄰的室之間同時交換襯底減少了處理時間并且因此增加了產(chǎn)量。圖10 示出了設(shè)置在處理室30中的三導軌模塊33的示意圖的截面圖。處理室30包括真空室38和具有涂布工具32 (例如，旋轉(zhuǎn)濺射陰極)的涂布裝置 31。要被涂布的襯底60被設(shè)置在襯底承載器61中，襯底承載器61包括與三軌道模塊 33的承載器驅(qū)動輥34a、34b和3 相互作用的底部引導軌62。在頂部區(qū)域中，承載器61 與磁性引導件37a、37b和37c相互作用，以將襯底60保持在直立位置。三導軌模塊33包括用于將襯底沿著第一傳輸路徑Tl或第二傳輸路徑T2傳輸通 過涂布室30的三個導軌;34a/37a、;Mb/37b和;34c/37c。通過旋轉(zhuǎn)承載器驅(qū)動輥:34a、34b和 34c進行驅(qū)動而有助于傳輸。此外，可以通過轉(zhuǎn)移系統(tǒng)35的致動而使得三導軌模塊33相對于傳輸方向橫向移 動，如箭頭T所示。因此，導軌部分34a/37a、34b/37b和3k/37c可以與延伸通過涂布系統(tǒng) 的第一傳輸路徑Tl和/或延伸通過傳輸系統(tǒng)的第二傳輸路徑T2對準(Tl和T2被設(shè)置為垂直于方向τ)。此外，導軌部分34a/37a、34b/37b和34c/37c中的每個可以被移動到涂布 位置36，以使用涂布裝置31來對分別設(shè)置在各個軌道部分34a/37a、34b/37b和34c/37c中 的襯底60進行涂布。 如所示的三導軌模塊31可以設(shè)置在雙導軌涂布 系統(tǒng)中的一個或多個涂布室中， 只要其有助于在處理循環(huán)的每個時刻在相鄰的每對腔室之間同時交換襯底。
權(quán)利要求
1.一種用于處理襯底的處理系統(tǒng)(1)，包括 室排列，所述室排列包括至少用于處理所述襯底的第一處理室(4，30)、用于處理所述襯底的第二處理室(7， 40)和/或轉(zhuǎn)移室(6)；至少鎖定室(3，20)，其構(gòu)造為將所述襯底鎖定在所述室排列中和/或?qū)⑺鲆r底鎖定 在所述室排列之外；第一傳輸路徑(Tl)，其用于將所述襯底傳輸通過所述室排列；以及 第二傳輸路徑(T2)，其用于將所述襯底傳輸通過所述室排列，其中 所述第二傳輸路徑0 相對于所述第一傳輸路徑(Tl)橫向偏移， 所述系統(tǒng)的特征在于，所述第一處理室G，30)、所述第二處理室(7，40)和所述轉(zhuǎn)移室(6)中的至少一者包括 用于將所述襯底從所述第一傳輸路徑(Tl)轉(zhuǎn)移到所述第二傳輸路徑0 和/或從所述第 二傳輸路徑0 轉(zhuǎn)移到所述第一傳輸路徑(Tl)的裝置，并且所述用于轉(zhuǎn)移所述襯底的裝置包括至少第一引導部分和第二引導部分的組合，其中， 所述第一引導部分與所述第二引導部分平行地設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述用于轉(zhuǎn)移所述襯底的裝置包括與所述第一引導部分和所述第二引導部分平行地 設(shè)置的第三引導部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述用于轉(zhuǎn)移所述襯底的裝置包括用于橫向地轉(zhuǎn)移所述組合的轉(zhuǎn)移裝置，以將襯底從 所述第一傳輸路徑(Tl)向所述第二傳輸路徑0 移動以及從所述第二傳輸路徑(T2)向 所述第一傳輸路徑(Tl)移動。
4.根據(jù)在先權(quán)利要求中的任意一項所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述第一引導部分、所述第二引導部分和/或所述第三引導部分設(shè)置為使得相對于彼 此的距離對應(yīng)于所述第一傳輸路徑(Tl)與所述第二傳輸路徑(T2)之間的距離。
5.根據(jù)在先權(quán)利要求中的任意一項所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述第一處理室(4，30)、所述第二處理室(7，40)和/或所述轉(zhuǎn)移室(6)沿直線連接。
6.根據(jù)在先權(quán)利要求中的任意一項所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述處理系統(tǒng)(1)包括用于將襯底沿著所述第一傳輸路徑(Tl)以及沿著所述第二傳 輸路徑0 傳輸?shù)膫鬏斚到y(tǒng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述傳輸系統(tǒng)至少包括用于沿著所述第一傳輸路徑(Tl)和/或沿著所述第二傳輸路 徑(T2)引導襯底的引導件。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述傳輸系統(tǒng)包括用于沿著所述第一傳輸路徑(Tl)引導所述襯底的第一引導件和用 于沿著所述第二傳輸路徑0 引導所述襯底的第二引導件。
9.根據(jù)在先權(quán)利要求中的任意一項所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述第一處理室G，30)和/或所述第二處理室(7，40)包括在各個處理室中設(shè)置在所 述第一傳輸路徑(Tl)的橫向附近的處理工具。
10.根據(jù)在先權(quán)利要求中的任意一項所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述雙導軌模塊和所述三導軌模塊Ol ；3 的導軌部分(22a、22b、22c)被構(gòu)造為被獨 立地驅(qū)動，以沿著所述第一傳輸路徑(Tl)或所述第二傳輸路徑(1 彼此獨立地移動兩個 不同的襯底。
11.根據(jù)在先權(quán)利要求中的任意一項所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述鎖定室OO)包括第一三導軌模塊(21)，所述第一處理室(30)包括第二三導軌模 塊(33)，并且所述第二處理室00)包括雙導軌模塊03)。
12.根據(jù)在先權(quán)利要求中的任意一項所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，第一引導部分和第二引導部分的組合形成雙導軌模塊(43)，并且第一引導部分、第二 弓I導部分和第三弓I導部分的組合形成三導軌模塊01，33)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述雙導軌模塊^幻和/或所述三導軌模塊(21，3 分別包括相對于彼此固定地設(shè) 置的雙導軌部分(44a、44b)和三導軌部分0^i、22b、22c ;3^、34b、3k)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的處理系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述雙導軌模塊^幻和/或所述三導軌模塊01，33)的所述導軌部分被彼此獨立地 驅(qū)動，以沿著所述第一傳輸路徑(Tl)以第一方向移動第一襯底并且沿著所述第二傳輸路 徑0 以第二方向移動第二襯底。
15.一種操作根據(jù)在先權(quán)利要求中的任意一項所述的處理系統(tǒng)(1)的方法，包括以下 步驟(a)沿著所述第一傳輸路徑(Tl)將第一襯底從所述鎖定室( 傳輸?shù)剿龅谝惶幚硎?(4)中，并且在所述第一襯底上沉積第一層；(b)將所述第一襯底從所述第一傳輸路徑(Tl)橫向地轉(zhuǎn)移到所述第二傳輸路徑(T2)；以及(c)沿著所述第二傳輸路徑0 將所述第一襯底傳輸?shù)剿鲦i定室(3)中， 所述方法的特征在于，所述方法包括在所述方法步驟(c)中將第二襯底沿著所述第一傳輸路徑(Tl)從所述 鎖定室( 傳輸?shù)剿龅谝惶幚硎?4)。
全文摘要
本發(fā)明提供了處理系統(tǒng)和用于操作處理系統(tǒng)的方法。涂布系統(tǒng)1包括擺動臺2和室排列，其中擺動臺2包括擺動模塊。室排列包括鎖定室3和第一涂布室4。鎖定室3被構(gòu)造為組合的鎖入/鎖出室。室排列具有由虛線表示的第一大致直線的傳輸路徑T1和由虛線表示的第二大致直線的傳輸路徑T2。路徑T1和T2的排列建立了雙軌道。系統(tǒng)包括用于使得襯底如箭頭所示沿著第一傳輸路徑T1和/或第二傳輸路徑T2移動通過室3、4的排列的傳輸系統(tǒng)。室3和4中的一個或者特別是兩個包括用于通過雙導軌或三導軌部分的橫向運動而將襯底/承載器從第一路徑T1轉(zhuǎn)移到第二路徑T2和/或從第二路徑T2轉(zhuǎn)移到第一路徑T1的轉(zhuǎn)移裝置。
文檔編號C23C14/56GK102112647SQ200980124557
公開日2011年6月29日 申請日期2009年4月7日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月27日
發(fā)明者爾卡恩·科帕拉, 托馬斯·貝爾格, 拉爾夫·林德伯格 申請人:應(yīng)用材料公司