專利名稱：真空蒸鍍裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種有機(jī)發(fā)光二極管生產(chǎn)行業(yè)中的輔助設(shè)備，尤其涉及一種有機(jī)發(fā)光 二極管行業(yè)中對(duì)基板進(jìn)行鍍膜的真空蒸鍍裝置。
背景技術(shù)：
隨著經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展、科技的不斷進(jìn)步和世界能源的日益減少，人們?cè)谏a(chǎn)中越 來(lái)越重視能源的節(jié)約及利用效率，使得人與自然和諧發(fā)展以滿足中國(guó)新型的工業(yè)化道路要 求。在數(shù)碼產(chǎn)品的顯示產(chǎn)業(yè)中，企業(yè)為了節(jié)約能源、降低生產(chǎn)成本，都加大投資研發(fā)力 度，不斷地追求節(jié)能的新產(chǎn)品。其中，0LED顯示屏就是數(shù)碼產(chǎn)品中的一種新產(chǎn)品，0LED即有 機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode)，因?yàn)榫邆漭p薄、省電等特性，因此在數(shù)碼 產(chǎn)品的顯示屏上得到了廣泛應(yīng)用，并且具有較大的市場(chǎng)潛力，目前世界上對(duì)0LED的應(yīng)用都 聚焦在平板顯示器上，因?yàn)?LED是唯一在應(yīng)用上能和TFT-IXD相提并論的技術(shù)，且是目前 所有顯示技術(shù)中，唯一可制作大尺寸、高亮度、高分辨率軟屏的顯示技術(shù)，可以做成和紙張 一樣的厚度；但0LED顯示屏(有機(jī)發(fā)光顯示屏)與傳統(tǒng)的TFT-LCD顯示屏(液晶顯示屏) 并不同，其無(wú)需背光燈，采用非常薄的有機(jī)材料涂層和玻璃基片，當(dāng)有電流通過(guò)時(shí)，這些有 機(jī)材料就會(huì)發(fā)光，而且0LED顯示屏可以做得更輕更薄，可視角度更大，并且能夠顯著節(jié)省 電能，相應(yīng)地，制造0LED行業(yè)中器件的所有設(shè)備必須保證0LED器件的精度要求，其中，對(duì)真 空狀態(tài)下的0LED行業(yè)中器件進(jìn)行蒸鍍的蒸鍍處理裝置即是制造0LED行業(yè)中的器件過(guò)程中 需要使用的設(shè)備之一。目前，在0LED制造領(lǐng)域中，為了對(duì)其制造的元器件賦予某種特性，較常使用的方 式是采用“蒸鍍處理”工序在元器件表面沉積一層或多層薄膜。所謂“蒸鍍處理”主要是通 過(guò)一個(gè)用以執(zhí)行蒸鍍的蒸鍍室，一組用以提供蒸鍍所需真空度的真空系統(tǒng)、及一組用以傳 輸玻璃基片的真空動(dòng)力傳輸系統(tǒng)等系統(tǒng)所組成。在蒸鍍室內(nèi)將蒸鍍材料設(shè)置于蒸發(fā)舟內(nèi)， 且蒸發(fā)舟與外界的電源相接。當(dāng)適當(dāng)?shù)碾娫戳魍ㄖ琳舭l(fā)舟內(nèi)后，蒸發(fā)舟因電阻效應(yīng)所產(chǎn)生 的熱，加熱蒸發(fā)舟內(nèi)的蒸鍍材料，一直到接近蒸鍍材料的熔點(diǎn)使其產(chǎn)生蒸氣，蒸鍍出來(lái)的蒸 氣，即蒸鍍材料分子，能夠在離蒸發(fā)源上方不遠(yuǎn)處的基板表面上進(jìn)行薄膜沉積，從而完成 0LED器件的鍍膜。業(yè)內(nèi)熟知的0LED器件的蒸鍍方法中，常用的有“點(diǎn)蒸鍍”、“線蒸鍍”、“有機(jī)氣相沉 積(Organic vapor Phase D印osition ;0VPD) ” 以及“掃描式沉積制程(D印osition Scan Process ；DSP) ”，其中比較成熟的鍍膜技術(shù)是“點(diǎn)蒸鍍”和“線蒸鍍”?，F(xiàn)有的點(diǎn)蒸鍍技術(shù)由 于在蒸鍍過(guò)程中，蒸氣的方向差別較大，因而容易造成膜層厚度均勻性變差。如要提高膜層 厚度均勻性，已知的技術(shù)方案是不斷旋轉(zhuǎn)待鍍基板，而基板的旋轉(zhuǎn)又會(huì)涉及到掩模板的對(duì) 位問(wèn)題，從而使得蒸鍍處理裝置的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)變得相對(duì)復(fù)雜，且膜層厚度均勻性也難有效保 證。而對(duì)于線蒸鍍技術(shù)而言，其相對(duì)于點(diǎn)蒸鍍技術(shù)對(duì)膜層厚度均勻性會(huì)有一定的提高，但是 已知的傳統(tǒng)線蒸鍍技術(shù)為了提升蒸鍍膜層的精密性需要移動(dòng)用于裝載蒸發(fā)源的蒸發(fā)舟，進(jìn)一步的需要額外配置，例如蒸發(fā)源移動(dòng)的滑軌等，因此線蒸鍍裝置體積較大，在增加線蒸 鍍裝置成本的同時(shí)，也占用了無(wú)塵室的建造成本。因此，亟待一種結(jié)構(gòu)精簡(jiǎn)，可提高鍍膜精密度的真空蒸鍍裝置，以克服上述缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種真空蒸鍍裝置，所述真空蒸鍍裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊，且 能夠有效提高鍍膜精密度。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案為提供一種真空蒸鍍裝置，適用于有機(jī)發(fā)光 二極管行業(yè)中基板的蒸鍍工藝，其特征在于，所述真空蒸鍍裝置包括傳輸機(jī)構(gòu)、蒸鍍機(jī)構(gòu)、 傳感控制裝置以及真空機(jī)構(gòu)，所述傳輸機(jī)構(gòu)包括主腔體、間門，傳輸組件以及驅(qū)動(dòng)器，所述 主腔體呈中空結(jié)構(gòu)，所述主腔體兩側(cè)分別正對(duì)開(kāi)設(shè)有閘口，兩閘門分別安裝于兩所述閘口 處，所述主腔體的底部還開(kāi)設(shè)有連接口，所述傳輸組件連接于兩所述間口之間，所述驅(qū)動(dòng)器 與所述間門及所述傳輸組件連接，所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述間門相對(duì)所述間口的打開(kāi)或關(guān)閉， 所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述基板在所述傳輸組件上移動(dòng)；所述蒸鍍機(jī)構(gòu)包括副腔體、擋板、動(dòng)力 組件、蒸發(fā)舟以及至少一個(gè)蒸發(fā)源，所述副腔體呈中空結(jié)構(gòu)，所述蒸發(fā)舟安裝于所述副腔體 內(nèi)，所述蒸發(fā)源放置于所述蒸發(fā)舟內(nèi)，所述副腔體正對(duì)所述主腔體的所述連接口處開(kāi)設(shè)有 對(duì)接口，所述擋板安裝于所述連接口與所述對(duì)接口之間，且所述擋板與所述動(dòng)力組件連接， 所述擋板與所述副腔體的中空結(jié)構(gòu)形成副密封空腔，所述擋板與所述主腔體的中空結(jié)構(gòu)形 成主密封空腔，所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述擋板打開(kāi)或關(guān)閉；當(dāng)所述擋板打開(kāi)，所述主密封空腔與 所述副密封空腔相互連通；當(dāng)所述擋板關(guān)閉，所述主密封空腔與所述副密封空腔相互獨(dú)立 密封；所述傳感控制裝置包括傳感器及與所述傳感器電連接的控制器，所述傳感器安裝于 所述主腔體內(nèi)，所述控制器與所述傳輸組件及蒸發(fā)舟電連接；所述真空機(jī)構(gòu)包括粗抽管道、 真空泵以及間閥，所述粗抽管道的一端與所述副腔體連通，所述粗抽管道的另一端與所述 真空泵相連接，所述閘閥安裝在所述真空泵與所述副腔體之間。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的真空蒸鍍裝置包括蒸鍍機(jī)構(gòu)、傳輸機(jī)構(gòu)、傳感器 以及真空機(jī)構(gòu)4部分，整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊，一定程度上降低了真空蒸鍍裝置的制造與運(yùn)行 成本。此外，所述真空蒸鍍裝置由于采用了傳感器，可以自動(dòng)控制蒸發(fā)舟的溫度以及控制傳 輸組件的運(yùn)行速度，從而控制該真空蒸鍍裝置對(duì)基板的鍍膜程度，有效地控制基板的膜厚。 因此，本發(fā)明適用于有機(jī)發(fā)光二極管行業(yè)中基板的蒸鍍工藝的真空蒸鍍裝置，其不僅結(jié)構(gòu) 簡(jiǎn)單緊湊，而且能夠?qū)崿F(xiàn)全自動(dòng)監(jiān)控基板的蒸鍍膜厚，從而有效提高鍍膜精密度、提高真空 蒸鍍工藝的效率以及鍍膜質(zhì)量。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述真空蒸鍍裝置還包括減震機(jī)構(gòu)，所述減震機(jī)構(gòu)與 所述真空泵相連接?？蛇x地，所述真空蒸鍍裝置中的所述減震機(jī)構(gòu)包括彈簧和波紋管，所述 彈簧和所述波紋管均安裝在所述閘閥與所述真空泵之間。當(dāng)所述真空泵工作時(shí)，具有彈簧 和波紋管的減震機(jī)構(gòu)有利于將所述真空蒸鍍裝置置于一個(gè)穩(wěn)定的工作環(huán)境，從而提高了蒸 鍍膜層的質(zhì)量，并提高了整體真空蒸鍍裝置的使用壽命。較佳地，本發(fā)明真空蒸鍍裝置還包括真空規(guī)，所述真空規(guī)適用于檢測(cè)所述真空蒸 鍍裝置的真空狀態(tài)。所述真空規(guī)可依在任何時(shí)間檢測(cè)真空蒸鍍裝置的真空狀態(tài)，將其轉(zhuǎn)換 為實(shí)時(shí)的真空相關(guān)數(shù)據(jù)，以便即時(shí)調(diào)整真空參數(shù)。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，所述傳輸組件包括輸入部件、傳動(dòng)部件以及齒條，所 述輸入部件連接所述傳動(dòng)部件，所述傳動(dòng)部件樞接于所述齒條，所述齒條承載并傳送所述 基板。較佳地，所述傳動(dòng)部件包括第一傳動(dòng)軸、數(shù)個(gè)錐齒輪、數(shù)個(gè)第二傳動(dòng)軸以及傳動(dòng)齒輪， 所述第一傳動(dòng)軸樞接于所述輸入部件，所述錐齒輪樞接于所述第一傳動(dòng)軸上，每一所述錐 齒輪與每一所述第二傳動(dòng)軸的一端相連接，每一所述第二傳動(dòng)軸的另一端與所述傳動(dòng)齒輪 相連接，所述傳動(dòng)齒輪與所述齒條相樞接。所述傳輸組件結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊，有利于節(jié)省本發(fā)明 真空蒸鍍裝置的成本?？蛇x地，本發(fā)明真空蒸鍍裝置還包括磁流體，所述磁流體連接所述驅(qū)動(dòng)器與所述 輸入部件。較佳地，本發(fā)明真空蒸鍍裝置中的所述傳感器是晶體振蕩傳感器。較佳地，本發(fā)明真空蒸鍍裝置中所述蒸發(fā)源包括一主蒸發(fā)源和數(shù)個(gè)副蒸發(fā)源，所 述副蒸發(fā)源位于所述主蒸發(fā)源的周邊。該設(shè)置使得本發(fā)明真空蒸鍍裝置實(shí)施的對(duì)基板的蒸 鍍更加均勻，質(zhì)量更高。較佳地，本發(fā)明真空蒸鍍裝置中所述傳感器位于所述閘口上方。


圖1是本發(fā)明真空蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，附圖中類似的元件標(biāo)號(hào)代表類似的元 件。如上所述，本發(fā)明旨在提供一種真空蒸鍍裝置，所述真空蒸鍍裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊，且能 夠有效提高鍍膜精密度，并適用于有機(jī)發(fā)光二極管行業(yè)中基板的蒸鍍工藝。下面結(jié)合附圖， 說(shuō)明本發(fā)明的結(jié)構(gòu)。圖1是本發(fā)明真空蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。參考圖1，所述真空蒸鍍裝置，為有機(jī) 發(fā)光二級(jí)管行業(yè)中在基板上蒸鍍膜之用，所述真空蒸鍍裝置1包括傳輸機(jī)構(gòu)、蒸鍍機(jī)構(gòu)、 傳感控制裝置以及真空機(jī)構(gòu)四部分結(jié)構(gòu)，整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊。參考圖1，所述傳輸機(jī)構(gòu)包括主腔體141、閘門，傳輸組件143以及驅(qū)動(dòng)器(圖未 示)。所述主腔體141呈中空結(jié)構(gòu)，所述主腔體兩側(cè)分別正對(duì)開(kāi)設(shè)有閘口(圖未示)，兩所 述閘門分別安裝于兩所述閘口處，所述主腔體141的底部還開(kāi)設(shè)有連接口 145，所述傳輸組 件143連接于兩所述閘口之間。兩個(gè)所述閘門安裝于所述主腔體141上，所述閘門包括進(jìn) 閘門1421和出閘門1422，其分別安裝于所述主腔體141相對(duì)的兩側(cè)。所述驅(qū)動(dòng)器與所述進(jìn) 閘門1421、出閘門1422、傳輸組件143以及所述動(dòng)力組件133相連接，并相應(yīng)地驅(qū)動(dòng)所述進(jìn) 閘門1421、出間門1422、傳輸組件以及所述動(dòng)力組件133。所述驅(qū)動(dòng)器與所述間門及所述傳 輸組件143連接，具體地，所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述進(jìn)間門1421和所述出間門1422相對(duì)于所述 主腔體141呈開(kāi)啟或者閉合的狀態(tài)；所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述傳輸組件傳送所述基板144 ；當(dāng)驅(qū) 動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述動(dòng)力組件133控制擋板132相對(duì)所述副腔體131呈開(kāi)啟狀態(tài)時(shí)，所述主腔體 141與所述副腔體131相連通。所述傳輸組件143包括磁流體(圖未示)、輸入部件1431、 傳動(dòng)部件以及齒條1432。所述傳動(dòng)部件包括第一傳動(dòng)軸1433、六個(gè)錐齒輪1434、六個(gè)第二 傳動(dòng)軸1435以及六個(gè)傳動(dòng)齒輪1436。所述磁流體連接所述驅(qū)動(dòng)器并受其控制，所述磁流體連接并控制所述輸入部件1431，所述輸入部件1431與所述第一傳動(dòng)軸1433相樞接，六 個(gè)所述錐齒輪1434樞接于所述第一傳動(dòng)軸1433上，具體地，六個(gè)錐齒輪1434分別呈均勻 間隔地樞接于所述第一傳動(dòng)軸1433上，每一所述錐齒輪1434與每一所述第二傳動(dòng)軸1435 的一端相連接，每一所述第二傳動(dòng)軸1435的另一端與所述傳動(dòng)齒輪1436相連接，所述傳動(dòng) 齒輪1436與所述齒條1432相樞接，且所述傳動(dòng)齒輪1436亦呈均勻間隔地樞接于所述齒條 1432上。所述齒條1432承載并傳送所述基板144。需要說(shuō)明的是，錐齒輪、第二傳動(dòng)軸以 及傳動(dòng)齒輪三者成匹配形式相對(duì)應(yīng)連接，三者的數(shù)量并不局限于本實(shí)施例中的數(shù)量，其視 所傳送的基板的形狀與大小而定。參考圖1，所述蒸鍍機(jī)構(gòu)包括副腔體131、擋板132、動(dòng)力組件133、蒸發(fā)舟135以及 蒸發(fā)源。在本實(shí)施例中，所述副腔體131呈中空結(jié)構(gòu)，所述蒸發(fā)舟135安裝于所述副腔體 131內(nèi)，所述蒸發(fā)源放置于所述蒸發(fā)舟135內(nèi)。所述蒸發(fā)源包括一個(gè)主蒸發(fā)源1341和兩個(gè) 副蒸發(fā)源1342，所述蒸發(fā)源和所述蒸發(fā)舟135均位于所述副腔體131的中央位置。兩個(gè)所 述副蒸發(fā)源1342位于所述主蒸發(fā)源1341的周邊區(qū)域，特定地，兩個(gè)所述副蒸發(fā)源1342位 于所述主蒸發(fā)源1341的兩邊，且相對(duì)稱設(shè)置。所述副腔體131正對(duì)所述主腔體141的所述 連接口 145處開(kāi)設(shè)有對(duì)接口 1311，所述擋板132安裝于所述連接145 口與所述對(duì)接口 1311 之間。所述擋板132與所述副腔體131的中空結(jié)構(gòu)形成副密封空腔，所述擋板132與所述 主腔體141的中空結(jié)構(gòu)形成主密封空腔。所述蒸發(fā)源位于所述副密封空腔內(nèi)，所述動(dòng)力組 件133與所述擋板132相連接，所述動(dòng)力組件133控制所述擋板132相對(duì)于所述副腔體131 呈開(kāi)啟或者關(guān)閉狀態(tài)。詳細(xì)地，所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述擋板132打開(kāi)或關(guān)閉；當(dāng)所述擋板132 打開(kāi)，所述主密封空腔與所述副密封空腔相互連通，所述主蒸發(fā)源1341和副蒸發(fā)源1342對(duì) 所述基板144實(shí)施蒸鍍工藝；當(dāng)所述擋板132關(guān)閉，所述主密封空腔與所述副密封空腔相互 獨(dú)立密封。需要說(shuō)明的是，所述副蒸發(fā)源可為三個(gè)或者三個(gè)以上的數(shù)量，視具體情況而定。參考圖1，本發(fā)明真空蒸鍍裝置1包括傳感控制裝置，在本實(shí)施例中，所述傳感控 制裝置包括傳感器12及與所述傳感器電連接的控制器(圖未示)。所述傳感器12是晶體 振蕩傳感器，并安裝于所述主腔體141內(nèi)。所述控制器電連接所述蒸發(fā)舟135以及所述傳 輸組件。傳感器12的設(shè)置可以自動(dòng)控制蒸發(fā)舟135的溫度，從而控制蒸發(fā)源的溫度以及控 制傳輸組件的運(yùn)行速度，進(jìn)而控制該真空蒸鍍裝置1對(duì)基板144的鍍膜程度，有效地控制基 板144的鍍膜厚度。本發(fā)明真空蒸鍍裝置1的工作環(huán)境為真空狀態(tài)，因此所述真空蒸鍍裝置1包括真 空機(jī)構(gòu)。參考圖1，所述真空蒸鍍裝置1包括粗抽管道151、真空泵152以及閘閥153。在本 實(shí)施例中，所述真空蒸鍍裝置1還包括減震機(jī)構(gòu)，所述減震機(jī)構(gòu)包括彈簧161和波紋管162， 所述減震機(jī)構(gòu)與所述真空泵152相連接。具體地，所述波紋管162正對(duì)所述真空泵152連 接并與所述真空泵152相連通，且所述波紋管162抵觸安裝在所述閘閥153與所述真空泵 152之間。彈簧161設(shè)置于所述真空泵152的周邊，且彈簧161 —端連接所述閘閥153，其 另一端連接所述真空泵152。所述粗抽管道151的一端與所述副腔體131連通，所述粗抽管 道151的另一端與所述真空泵152相連接，所述閘閥153安裝在所述真空泵152與所述副 腔體131之間。當(dāng)所述真空泵152與所述粗抽管道151工作時(shí)，具有彈簧161和波紋管162 的減震機(jī)構(gòu)的設(shè)置減少了真空機(jī)構(gòu)的震動(dòng)，有利于將所述真空蒸鍍裝置1置于一個(gè)穩(wěn)定的 工作環(huán)境，從而提高了蒸鍍膜層的質(zhì)量，并提高了整體真空蒸鍍裝置1的使用壽命。
6
參考圖1，所述真空蒸鍍裝置1還包括真空規(guī)17，在本實(shí)施例中，所述真空規(guī)17設(shè) 置于所述傳感器12上，所述真空規(guī)17適用于檢測(cè)所述真空蒸鍍裝置1的真空狀態(tài)。所述 真空規(guī)17可依在任何時(shí)間檢測(cè)真空蒸鍍裝置1的真空狀態(tài)，將其轉(zhuǎn)換為實(shí)時(shí)的真空相關(guān)數(shù) 據(jù)，以便即時(shí)調(diào)整真空蒸鍍裝置1的真空參數(shù)以調(diào)節(jié)適當(dāng)?shù)恼婵諣顟B(tài)。以下將結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明真空蒸鍍裝置的工作原理做詳細(xì)的說(shuō)明參考圖1，首先所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)進(jìn)閘門1421相對(duì)于主腔體141開(kāi)啟狀態(tài)同時(shí)，動(dòng) 力主件133在驅(qū)動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)下，帶動(dòng)安裝于副腔體131上的擋板132亦相對(duì)于所述副腔體 131處于開(kāi)啟狀態(tài)，此時(shí)，主腔體141與副腔體131通過(guò)連接口 145和對(duì)接口 1311相連通， 且主蒸發(fā)源1341和副蒸發(fā)源1342在具有一定熱度的蒸發(fā)舟135內(nèi)一直處于蒸發(fā)狀態(tài)。繼 而，驅(qū)動(dòng)器通過(guò)磁流體外部動(dòng)力傳輸至輸入部件1431，該輸入部件1431帶動(dòng)連接其上的第 一傳動(dòng)軸1433轉(zhuǎn)動(dòng)，而后，該第一傳動(dòng)軸1433帶動(dòng)分布連接其上的六個(gè)錐齒輪1434同時(shí) 轉(zhuǎn)動(dòng)，錐齒輪1434分別同步地帶動(dòng)相對(duì)應(yīng)的第二傳動(dòng)軸1435轉(zhuǎn)動(dòng)，接著，該第二轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪 1435帶動(dòng)齒條1432移動(dòng)，該齒條1432最后帶動(dòng)承載其上的用于蒸鍍的基板144移動(dòng)。在 基板144移動(dòng)的過(guò)程中，主蒸發(fā)源1341和副蒸發(fā)源1342將有機(jī)材料蒸鍍于基本144上。在 此過(guò)程中，真空機(jī)構(gòu)將主腔體141與副腔體131維持在合適的真空狀態(tài)，并通過(guò)所述真空規(guī) 17在任何時(shí)間檢測(cè)真空蒸鍍裝置1的真空狀態(tài)，將其轉(zhuǎn)換為實(shí)時(shí)的真空相關(guān)數(shù)據(jù)，即時(shí)調(diào) 整真空蒸鍍裝置1的真空參數(shù)以調(diào)節(jié)適當(dāng)?shù)恼婵諣顟B(tài)。并且，本發(fā)明真空蒸鍍裝置1還設(shè) 置有傳感器12，傳感器12在蒸鍍過(guò)程中可自動(dòng)控制主蒸發(fā)源1341和副蒸發(fā)源1342的溫度 以及控制傳輸組件的運(yùn)行速度，從而控制該真空蒸鍍裝置1對(duì)基板144的鍍膜程度，有效地 控制基板144的所蒸鍍的鍍膜厚度。最后，當(dāng)基板144達(dá)到鍍膜預(yù)定的鍍膜程度，驅(qū)動(dòng)器驅(qū) 動(dòng)出閘門1422相對(duì)于主腔體141處于開(kāi)啟狀態(tài)，齒條1432承載基板144離開(kāi)主腔體141。 至此，本發(fā)明真空蒸鍍裝置1的蒸鍍工藝結(jié)束。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的真空蒸鍍裝置包括蒸鍍機(jī)構(gòu)、傳輸機(jī)構(gòu)、傳感器 以及真空機(jī)構(gòu)4部分，整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊，一定程度上降低了真空蒸鍍裝置的制造與運(yùn)行 成本。此外，所述真空蒸鍍裝置由于采用了傳感器，可以自動(dòng)控制蒸發(fā)舟的溫度以及控制傳 輸組件的運(yùn)行速度，從而控制該真空蒸鍍裝置對(duì)基板的鍍膜程度，有效地控制基板的膜厚。 因此，本發(fā)明適用于有機(jī)發(fā)光二極管行業(yè)中基板的蒸鍍工藝的真空蒸鍍裝置，其不僅結(jié)構(gòu) 簡(jiǎn)單緊湊，而且能夠?qū)崿F(xiàn)全自動(dòng)監(jiān)控基板的蒸鍍膜厚，從而有效提高鍍膜精密度、提高真空 蒸鍍工藝的效率以及鍍膜質(zhì)量。以上所揭露的僅為本發(fā)明的較佳實(shí)例而已，當(dāng)然不能以此來(lái)限定本發(fā)明之權(quán)利范 圍，因此依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所作的等同變化，仍屬于本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
一種真空蒸鍍裝置，適用于有機(jī)發(fā)光二極管行業(yè)中基板的蒸鍍工藝，其特征在于，所述真空蒸鍍裝置包括傳輸機(jī)構(gòu)，所述傳輸機(jī)構(gòu)包括主腔體、閘門，傳輸組件以及驅(qū)動(dòng)器，所述主腔體呈中空結(jié)構(gòu)，所述主腔體兩側(cè)分別正對(duì)開(kāi)設(shè)有閘口，兩閘門分別安裝于兩所述閘口處，所述主腔體的底部還開(kāi)設(shè)有連接口，所述傳輸組件連接于兩所述閘口之間，所述驅(qū)動(dòng)器與所述閘門及所述傳輸組件連接，所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述閘門相對(duì)所述閘口的打開(kāi)或關(guān)閉，所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述基板在所述傳輸組件上移動(dòng)；蒸鍍機(jī)構(gòu)，所述蒸鍍機(jī)構(gòu)包括副腔體、擋板、動(dòng)力組件、蒸發(fā)舟以及至少一個(gè)蒸發(fā)源，所述副腔體呈中空結(jié)構(gòu)，所述蒸發(fā)舟安裝于所述副腔體內(nèi)，所述蒸發(fā)源放置于所述蒸發(fā)舟內(nèi)，所述副腔體正對(duì)所述主腔體的所述連接口處開(kāi)設(shè)有對(duì)接口，所述擋板安裝于所述連接口與所述對(duì)接口之間，且所述擋板與所述動(dòng)力組件連接，所述擋板與所述副腔體的中空結(jié)構(gòu)形成副密封空腔，所述擋板與所述主腔體的中空結(jié)構(gòu)形成主密封空腔，所述驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述擋板打開(kāi)或關(guān)閉；當(dāng)所述擋板打開(kāi)，所述主密封空腔與所述副密封空腔相互連通；當(dāng)所述擋板關(guān)閉，所述主密封空腔與所述副密封空腔相互獨(dú)立密封；傳感控制裝置，所述傳感控制裝置包括傳感器及與所述傳感器電連接的控制器，所述傳感器安裝于所述主腔體內(nèi)，所述控制器與所述傳輸組件及蒸發(fā)舟電連接；以及真空機(jī)構(gòu)，所述真空機(jī)構(gòu)包括粗抽管道、真空泵以及閘閥，所述粗抽管道的一端與所述副腔體連通，所述粗抽管道的另一端與所述真空泵相連接，所述閘閥安裝在所述真空泵與所述副腔體之間。
2.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，還包括減震機(jī)構(gòu)，所述減震機(jī)構(gòu)與 所述真空泵相連接。
3.如權(quán)利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述減震機(jī)構(gòu)包括彈簧和波紋管， 所述彈簧和所述波紋管均安裝在所述間閥與所述真空泵之間。
4.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，還包括真空規(guī)，所述真空規(guī)適用于 檢測(cè)所述真空蒸鍍裝置的真空狀態(tài)。
5.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述傳輸組件包括輸入部件、傳動(dòng) 部件以及齒條，所述輸入部件連接所述傳動(dòng)部件，所述傳動(dòng)部件樞接于所述齒條，所述齒條 承載并傳送所述基板。
6.如權(quán)利要求5所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述傳動(dòng)部件包括第一傳動(dòng)軸、數(shù) 個(gè)錐齒輪、數(shù)個(gè)第二傳動(dòng)軸以及傳動(dòng)齒輪，所述第一傳動(dòng)軸樞接于所述輸入部件，所述錐齒 輪樞接于所述第一傳動(dòng)軸上，每一所述錐齒輪與每一所述第二傳動(dòng)軸的一端相連接，每一 所述第二傳動(dòng)軸的另一端與所述傳動(dòng)齒輪相連接，所述傳動(dòng)齒輪與所述齒條相樞接。
7.如權(quán)利要求5所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，還包括磁流體，所述磁流體連接所 述驅(qū)動(dòng)器與所述輸入部件。
8.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸發(fā)源包括一主蒸發(fā)源和數(shù) 個(gè)副蒸發(fā)源，所述副蒸發(fā)源位于所述主蒸發(fā)源的周邊。
9.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述傳感器是晶體振蕩傳感器。
10.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述傳感器位于所述閘口上方。
全文摘要
本發(fā)明提供一種真空蒸鍍裝置，其包括傳輸機(jī)構(gòu)、蒸鍍機(jī)構(gòu)、傳感控制裝置及真空機(jī)構(gòu)，傳輸機(jī)構(gòu)包括主腔體、閘門，傳輸組件及驅(qū)動(dòng)器，主腔體兩側(cè)開(kāi)設(shè)有閘口，閘門安裝于所述閘口處，主腔體底部開(kāi)設(shè)有連接口，驅(qū)動(dòng)器與閘門及傳輸組件連接，驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)基板在傳輸組件上移動(dòng)；蒸鍍機(jī)構(gòu)包括副腔體、擋板、動(dòng)力組件、蒸發(fā)舟及蒸發(fā)源，蒸發(fā)舟安裝于副腔體內(nèi)，蒸發(fā)源放置于蒸發(fā)舟內(nèi)，副腔體正對(duì)主腔體的連接口處開(kāi)設(shè)有對(duì)接口，擋板安裝于連接口與對(duì)接口之間；傳感控制裝置包括傳感器及與控制器，控制器與傳輸組件及蒸發(fā)舟電連接；真空機(jī)構(gòu)包括粗抽管道、真空泵以及閘閥，粗抽管道與副腔體連通，粗抽管道與真空泵相連接。
文檔編號(hào)C23C14/24GK101876058SQ20101013199
公開(kāi)日2010年11月3日 申請(qǐng)日期2010年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月23日
發(fā)明者劉惠森, 張華 , 楊明生, 王勇, 王曼媛, 范繼良 申請(qǐng)人:東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司