專利名稱：靶材基座及采用該靶材基座的鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種靶材基座及采用該靶材基座的鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的真空鍍膜技術(shù)一般是通過高壓電極發(fā)射Ar+粒子，Ar+粒子在真空室內(nèi)撞擊靶材，使得靶材分離出金屬原子，金屬原子被打到被鍍物體的表面上而形成膜層。然而，由于靶材原子向多個方向濺射，如果在同一個真空腔內(nèi)設(shè)置多個不同材料的靶材，將會使得靶材相互污染，從而影響鍍膜質(zhì)量。為了避免靶材之間的污染，在同一個真空腔中通常只設(shè)置一種靶材。然而，鍍多層膜時，每次需要打開真空腔更換靶材，效率低下，且容易使靶材被空氣氧化。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能夠避免靶材受污染的靶材基座及采用該靶材基座的鍍膜裝置。一種靶材基座，用于一鍍膜裝置。該靶材基座包括基臺，固定在該鍍膜裝置內(nèi)； 旋轉(zhuǎn)載臺，設(shè)置在基臺上且能夠相對該基臺旋轉(zhuǎn)；多個靶座，環(huán)設(shè)在該旋轉(zhuǎn)載臺周圍，每個靶座面向該旋轉(zhuǎn)載臺的一面開設(shè)有一收納空間；以及多個靶材部件，其分別通過一旋轉(zhuǎn)軸對應(yīng)設(shè)置在多個靶座上，所述旋轉(zhuǎn)軸與一旋轉(zhuǎn)馬達連接且均收容在收納空間內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)馬達用于控制該旋轉(zhuǎn)軸帶動該靶材部件收容在收納空間內(nèi)或從收納空間中伸出。一種鍍膜裝置，其包括屏蔽罩，其內(nèi)形成有一真空腔體；以及靶材基座，其設(shè)置在該真空腔體內(nèi)。該靶材基座包括基臺，固定在該真空腔體內(nèi)；旋轉(zhuǎn)載臺，設(shè)置在基臺上且能夠相對該基臺旋轉(zhuǎn)；多個靶座，環(huán)設(shè)在該旋轉(zhuǎn)載臺周圍，每個靶座面向該旋轉(zhuǎn)載臺的一面開設(shè)有一收納空間；以及多個靶材部件，其分別通過一旋轉(zhuǎn)軸對應(yīng)設(shè)置在多個靶座上，所述旋轉(zhuǎn)軸與一旋轉(zhuǎn)馬達連接且均收容在收納空間內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)馬達用于控制該旋轉(zhuǎn)軸帶動該靶材部件收容在收納空間內(nèi)或從收納空間中伸出。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的靶材基座以及使用該靶材基座的鍍膜裝置，通過在靶材基座上開設(shè)收納空間，并將靶材活動連接在靶材基座上，從而能夠控制靶材在鍍膜時從收納空間中伸出以進行鍍膜，且在鍍膜結(jié)束后重新收容在收納空間內(nèi)。在鍍多層膜時，該靶材基座能夠避免靶材之間的污染，且由于能夠同時裝設(shè)多個不同材料的靶材，避免鍍不同的膜層時均需要打開真空，從而能夠提高工作效率。


圖1為本發(fā)明實施方式提供的靶材基座的立體分解圖；圖2為圖1的靶材基座的立體組裝圖；圖3為圖1的靶材基座的工作狀態(tài)圖；圖4為本發(fā)明實施方式提供的的鍍膜裝置的平面剖示圖。
主要元件符號說明
靶材基座10
鍍膜裝置100
屏蔽罩101
底壁103
側(cè)壁105
腔體107
基臺110
收容槽111
階梯面115
旋轉(zhuǎn)載臺120
自轉(zhuǎn)載臺122
致動部124
靶座130
收納空間132
軸孔134
靶材部件140
靶材141
靶材基板142
旋轉(zhuǎn)軸144
旋轉(zhuǎn)馬達146
控制裝置148
操作開關(guān)148a
具體實施例方式下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步的詳細說明。如圖1、2所示，本發(fā)明實施方式提供一種靶材基座10，其用于一鍍膜裝置100(請參閱圖4)中。該靶材基座10包括收容在鍍膜裝置100內(nèi)的基臺110、旋轉(zhuǎn)載臺120、多個靶座130以及多個靶材部件140，所述旋轉(zhuǎn)載臺120以及多個靶座130設(shè)置在基臺110上， 旋轉(zhuǎn)載臺120可相對基臺110以及靶座130旋轉(zhuǎn)，多個靶材部件140分別設(shè)置在多個靶座 130 上。具體的，所述鍍膜裝置100包括一屏蔽罩101，所述屏蔽罩101具有一底壁103以及多個側(cè)壁105，所述底壁103以及多個側(cè)壁105之間形成一腔體107，所述基臺110固定在該底壁103上且收容于該腔體107內(nèi)。所述基臺110上開設(shè)有多個收容槽111，所述收容槽111的尺寸與所述靶座130的尺寸大致相同，其用于收容所述靶座130并將靶座130固定在基臺110上。所述旋轉(zhuǎn)載臺120通過一致動馬達(圖未示)與基臺110連接，以使該旋轉(zhuǎn)載臺 120能夠相對基臺110旋轉(zhuǎn)。本實施方式中，所述旋轉(zhuǎn)載臺120以及基臺110均為圓柱狀， 所述旋轉(zhuǎn)載臺120設(shè)置在所述基臺110的中心位置。所述旋轉(zhuǎn)載臺120的面積小于基臺110的面積，使得所述旋轉(zhuǎn)載臺120上表面與基臺110的上表面之間形成有一階梯面115。所述旋轉(zhuǎn)載臺120遠離基臺110的表面上設(shè)置有至少一個自轉(zhuǎn)載臺122，該自轉(zhuǎn)載臺122用于放置待鍍元件(圖未示)。當(dāng)旋轉(zhuǎn)載臺120轉(zhuǎn)動時，自轉(zhuǎn)載臺122相對旋轉(zhuǎn)載臺120自轉(zhuǎn)。具體的，所述自轉(zhuǎn)載臺122與旋轉(zhuǎn)載臺120之間連接有一個致動部124，致動部1 用于驅(qū)動自轉(zhuǎn)載臺122繞自身中心軸轉(zhuǎn)動。本實施方式中，該致動部124為一個旋轉(zhuǎn)馬達。本實施方式中，所述自轉(zhuǎn)載臺122的數(shù)量為3個?？梢岳斫?，所述自轉(zhuǎn)載臺122的數(shù)量可以根據(jù)具體需要進行設(shè)定，例如設(shè)定為2、4個或多于4個。由于所述待鍍元件能夠在自轉(zhuǎn)載臺122以及旋轉(zhuǎn)載臺120的帶動下進行自轉(zhuǎn)以及公轉(zhuǎn)(即繞旋轉(zhuǎn)載臺120中心軸轉(zhuǎn)動)，使得鍍膜更加均勻。所述多個靶座130環(huán)設(shè)在該旋轉(zhuǎn)載臺120周圍。本實施方式中，所述多個靶座130 的數(shù)量為四個，其等距固定設(shè)置在基臺110上?？梢岳斫?，所述多個靶座130的數(shù)量可以為兩個、三個或者多于四個。所述多個靶座130固定在基臺110寬于旋轉(zhuǎn)載臺120的表面位置上，且每個靶座130大致與所述階梯面115平行設(shè)置。本實施方式中，所述每個靶座130 的形狀為立體柱形。可以理解，所述靶座130的形狀還可以為圓柱形、六棱柱形等。每個靶座130面向該旋轉(zhuǎn)載臺120的一面開設(shè)有一收納空間132，所述收納空間132內(nèi)相對的兩側(cè)壁上開設(shè)有與所述收納空間132連通的軸孔134。本實施方式中，所述收納空間132的形狀為矩形，所述軸孔Π4為連通收納空間132內(nèi)側(cè)壁與靶座130外側(cè)壁的通孔。請結(jié)合圖3，每個靶材部件140包括一個靶材141以及一個靶材部件140，靶材141 固定在靶材部件140上。本實施方式中，所述靶材部件140的數(shù)量為4個，每個靶材部件 140對應(yīng)設(shè)置在靶座130遠離基臺110的一端。靶材141的材料有兩種，且相對設(shè)置的兩個靶材部件140上的靶材141相同。所述多個靶材部件140可分別活動收容在收納空間132內(nèi)。具體的，所述靶材部件140 —端固定設(shè)置有一旋轉(zhuǎn)軸144，所述旋轉(zhuǎn)軸144與一旋轉(zhuǎn)馬達146傳動連接。本實施方式中，所述旋轉(zhuǎn)軸144的端部以及旋轉(zhuǎn)馬達146均收容在該軸孔134內(nèi)，以防止鍍膜時損壞旋轉(zhuǎn)馬達146。當(dāng)旋轉(zhuǎn)馬達146被驅(qū)動時，所述旋轉(zhuǎn)軸144旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)軸144帶動所述靶材部件140相對收納空間132運動，使得靶材部件140可收容在該收納空間132內(nèi)或從收納空間132伸出。當(dāng)靶材部件140伸出收納空間132時，靶材141面向所述旋轉(zhuǎn)臺 120。本實施方式中，所述靶材部件140可相對該收納空間132旋轉(zhuǎn)90度。所述旋轉(zhuǎn)馬達146與一控制裝置148電性連接，該控制裝置148設(shè)置在鍍膜裝置 100外，該控制裝置148用于供用戶控制該旋轉(zhuǎn)馬達146帶動該靶材部件140收容在收納空間132內(nèi)或從收納空間132中伸出。例如，鍍雙層膜時，控制裝置148控制兩個相對設(shè)置的靶材部件140打開，以使靶材141面向旋轉(zhuǎn)臺120上的待鍍元件，鍍第一層膜，當(dāng)鍍完第一層膜后，控制裝置148控制另外兩個相對設(shè)置的靶材部件140打開，并使原先打開的兩個靶材部件140收容在收納空間132內(nèi)，鍍第二層膜，從而能夠防止不同的靶材之間產(chǎn)生污染。 另外，為了方便操作，所述控制裝置148上設(shè)置有多個操作開關(guān)148a，每個操作開關(guān)148a對應(yīng)控制一個旋轉(zhuǎn)馬達146的旋轉(zhuǎn)方向以及開閉，使得用戶可分別操作該操作開關(guān)148a控制相應(yīng)靶材部件140的狀態(tài)。本實施方式中，所述操作開關(guān)148a的數(shù)量對應(yīng)為4個。可以理解，所述靶材141的材料可以多于兩種，此時，通過所述控制裝置148控制具有不同靶材141材料的靶材部件140依次打開，以避免靶材141之間的污染。
使用該靶材基座10鍍膜時，通過抽氣裝置將腔體107抽為真空，然后往腔體107 內(nèi)輸送反應(yīng)氣體。開啟所述旋轉(zhuǎn)載臺120以及自轉(zhuǎn)載臺122，使得待鍍元件能夠進行公轉(zhuǎn)以及自轉(zhuǎn)。啟動該控制裝置148，使得需要使用的靶材部件140從收納空間132中伸出，從而進行鍍膜。當(dāng)鍍膜結(jié)束后，控制靶材部件140重新收容在收納空間132內(nèi)，從而避免被空氣氧化。本發(fā)明的靶材基座10以及使用該靶材基座10的鍍膜裝置，通過在靶材基座10上開設(shè)收納空間132，并將靶材部件140活動連接在靶材基座10上，從而能夠控制靶材部件 140在鍍膜時從收納空間132中伸出以進行鍍膜，且在鍍膜結(jié)束后重新收容在收納空間132 內(nèi)。在鍍多層膜時，該靶材基座10能夠避免靶材部件140之間的污染，且由于能夠同時裝設(shè)多個不同材料的靶材部件140，避免鍍不同的膜層時均需要打開真空，從而能夠提高工作效率。另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員可在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，但是，凡依據(jù)本發(fā)明精神實質(zhì)所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種靶材基座，用于一鍍膜裝置，該靶材基座包括基臺，固定在該鍍膜裝置內(nèi)；旋轉(zhuǎn)載臺，設(shè)置在基臺上且能夠相對該基臺旋轉(zhuǎn)；多個靶座，環(huán)設(shè)在該旋轉(zhuǎn)載臺周圍，每個靶座面向該旋轉(zhuǎn)載臺的一面開設(shè)有一收納空間；以及多個靶材部件，其分別通過一旋轉(zhuǎn)軸對應(yīng)設(shè)置在多個靶座上，所述旋轉(zhuǎn)軸與一旋轉(zhuǎn)馬達連接且均收容在收納空間內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)馬達用于控制該旋轉(zhuǎn)軸帶動該靶材部件收容在收納空間內(nèi)或從收納空間中伸出。
2.如權(quán)利要求1所述的靶材基座，其特征在于，該旋轉(zhuǎn)載臺上設(shè)置有自轉(zhuǎn)載臺，該自轉(zhuǎn)載臺用于放置待鍍元件，當(dāng)旋轉(zhuǎn)載臺轉(zhuǎn)動時，自轉(zhuǎn)載臺相對旋轉(zhuǎn)載臺自轉(zhuǎn)。
3.如權(quán)利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)載臺的面積小于基臺的面積， 所述靶座設(shè)置在基臺寬于旋轉(zhuǎn)載臺的表面位置。
4.如權(quán)利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述收納空間相對的兩側(cè)壁上開設(shè)有軸孔，所述旋轉(zhuǎn)軸的端部以及所述旋轉(zhuǎn)馬達收容在該軸孔內(nèi)。
5.如權(quán)利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述靶材部件包括靶材以及靶材基板， 靶材固定在所述靶材基板上，當(dāng)靶材部件從收納空間中伸出時，靶材面向所述旋轉(zhuǎn)載臺。
6.如權(quán)利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)馬達與一控制裝置連接，該控制裝置設(shè)置在鍍膜裝置外，該控制裝置用于供用戶在鍍膜開始時控制至少一個靶材從該收納空間內(nèi)伸出，以及在鍍膜結(jié)束后控制該靶材收容在該收納空間內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6所述的靶材基座，其特征在于，所述控制裝置上設(shè)置有多個操作開關(guān)， 每個操作開關(guān)對應(yīng)控制一個旋轉(zhuǎn)馬達的旋轉(zhuǎn)方向以及開閉，用于供用戶分別操作該操作開關(guān)控制相應(yīng)靶材的狀態(tài)。
8.一種鍍膜裝置，其包括屏蔽罩，其內(nèi)形成有一真空腔體；以及靶材基座，其設(shè)置在該真空腔體內(nèi)，其特征在于，該靶材基座包括基臺，固定在該真空腔體內(nèi)；旋轉(zhuǎn)載臺，設(shè)置在基臺上且能夠相對該基臺旋轉(zhuǎn)；多個靶座，環(huán)設(shè)在該旋轉(zhuǎn)載臺周圍，每個靶座面向該旋轉(zhuǎn)載臺的一面開設(shè)有一收納空間；以及多個靶材部件，其分別通過一旋轉(zhuǎn)軸對應(yīng)設(shè)置在多個靶座上，所述旋轉(zhuǎn)軸與一旋轉(zhuǎn)馬達連接且均收容在收納空間內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)馬達用于控制該旋轉(zhuǎn)軸帶動該靶材部件收容在收納空間內(nèi)或從收納空間中伸出。
9.如權(quán)利要求8所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述收納空間相對的兩側(cè)壁上開設(shè)有軸孔，所述旋轉(zhuǎn)軸兩端以及所述旋轉(zhuǎn)馬達收容在該軸孔內(nèi)。
10.如權(quán)利要求8所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)馬達與一控制裝置連接，該控制裝置設(shè)置在鍍膜裝置外，該控制裝置用于供用戶在鍍膜開始時控制至少一個靶材打開，以及在鍍膜結(jié)束后控制該靶材收容在該收納空間內(nèi)。
全文摘要
一種靶材基座，用于一鍍膜裝置。該靶材基座包括基臺，固定在該鍍膜裝置內(nèi)；旋轉(zhuǎn)載臺，設(shè)置在基臺上且能夠相對該基臺旋轉(zhuǎn)；多個靶座，環(huán)設(shè)在該旋轉(zhuǎn)載臺周圍，每個靶座面向該旋轉(zhuǎn)載臺的一面開設(shè)有一收納空間；以及多個靶材部件，其分別通過一旋轉(zhuǎn)軸對應(yīng)設(shè)置在多個靶座上，所述旋轉(zhuǎn)軸與一旋轉(zhuǎn)馬達連接且均收容在收納空間內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)馬達用于控制該旋轉(zhuǎn)軸帶動該靶材部件收容在收納空間內(nèi)或從收納空間中伸出。該靶材基座能夠控制靶材部件在鍍膜過程中收容在收納空間內(nèi)或從收納空間中伸出，避免靶材之間的污染且提高工作效率。本發(fā)明還提供一種采用該靶材基座的鍍膜裝置。
文檔編號C23C14/34GK102234783SQ201010158840
公開日2011年11月9日 申請日期2010年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月28日
發(fā)明者裴紹凱 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司