專利名稱：鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜技術(shù)，尤其涉及一種鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
目前，許多工業(yè)產(chǎn)品表面都鍍有功能薄膜以改善產(chǎn)品表面的各種性能。如在光學(xué)鏡片的表面鍍上一層抗反射膜，以降低鏡片表面的反射率，降低入射光經(jīng)過鏡片的能量損耗。又如在某些濾光組件表面鍍上一層濾光膜制成濾光片，其可濾掉一預(yù)定波段的光。一般地，鍍膜方法主要包括蒸鍍法、離子鍍膜法、射頻磁控濺鍍、化學(xué)氣相沉積法等。蒸鍍裝置通常包括一蒸鍍腔體、一個(gè)用于承載待鍍膜工件的傘架及一位于該傘架正下方的用于承載膜料的坩堝。傳統(tǒng)的蒸鍍方法是將待鍍膜基材設(shè)置于傘架上，然后使氣態(tài)或離子態(tài)的膜料沉積于待鍍膜基材上表面形成薄膜。惟，一般蒸鍍裝置內(nèi)用于承載膜料的坩堝距離該傘架每一個(gè)點(diǎn)的距離不完全相等，導(dǎo)致沉積速率不均等，故會(huì)產(chǎn)生膜厚不均勻的現(xiàn)象，影響鍍膜質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種使膜厚較均勻，鍍膜質(zhì)量較好的鍍膜裝置。一種鍍膜裝置，其包括一個(gè)鍍膜腔體、一個(gè)設(shè)置于該鍍膜腔體內(nèi)且呈放射狀的傘架及多個(gè)與該傘架相對(duì)設(shè)置的蒸鍍源。該鍍膜腔體包括一個(gè)底板。該蒸鍍源包括一個(gè)固設(shè)于該底板的套筒及一個(gè)設(shè)置于該套筒內(nèi)且可沿該套筒的軸向移動(dòng)的移動(dòng)件。該移動(dòng)件靠近該傘架的一端設(shè)置一個(gè)用于收容鍍膜原料的承載槽。通過移動(dòng)該移動(dòng)件使多個(gè)蒸鍍源的承載槽到該傘架的距離相等。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例的鍍膜裝置，使從該蒸鍍源噴出的氣體離子飛行幾乎相同的距離后到達(dá)該傘架的表面，使所形成的鍍膜厚度較為均勻，產(chǎn)品質(zhì)量較佳。


圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1的鍍膜裝置的蒸鍍源的分解圖。圖3為圖1的鍍膜裝置的蒸鍍源的組裝圖。主要元件符號(hào)說明鍍膜裝置10
鍍膜腔體11
頂板111
底板112
安裝孔112a
側(cè)板113
傘架12
蒸鍍源13
安裝件131
固定部1311
收容孔1311a
連接部1312
貫通孔1312a
套筒132
移動(dòng)件133
承載槽133a
噴頭134
笛一總弟 漸1341
噴口1341a
Λ-Λ- ~·上山弟一兄而1342
電漿離子源14
導(dǎo)氣管1具體實(shí)施例方式為了對(duì)本發(fā)明的鍍膜裝置做進(jìn)一步的說明，舉以下實(shí)施方式并配合附圖進(jìn)行詳細(xì)說明。請(qǐng)參閱圖1，為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種鍍膜裝置10，其包括一個(gè)鍍膜腔體11、一個(gè)傘架12、三個(gè)蒸鍍源13、一個(gè)電漿離子源14及一個(gè)導(dǎo)氣管15。該鍍膜腔體11為圓筒形，其包括一個(gè)頂板111、一個(gè)與該頂板111相對(duì)的底板112 及一個(gè)連接該頂板111及該底板112的側(cè)板113。該底板112上開設(shè)有三個(gè)用于設(shè)置該蒸鍍源13的安裝孔11加?？梢岳斫?，該蒸鍍源13的數(shù)量可以根據(jù)需要而定，該安裝孔11 的數(shù)量與該蒸鍍源13數(shù)量相同。該傘架12呈放射狀，其安裝于該鍍膜腔體11的頂板111，待鍍工件(圖未示)可安裝于該傘架12上。請(qǐng)一并結(jié)合圖2及圖3，該多個(gè)蒸鍍源13均設(shè)置于該鍍膜腔體11的底板112與該傘架12相對(duì)。該蒸鍍源13包括一個(gè)安裝件131、一個(gè)套筒132、一個(gè)移動(dòng)件133及一個(gè)噴頭 134。該安裝件131包括一個(gè)固定部1311及一個(gè)與該固定部1311垂直連接的連接部 1312。該固定部1311為圓盤狀，其固設(shè)于該安裝孔11 內(nèi)，使該連接部1312位于該鍍膜腔體11內(nèi)。該固定部1311開設(shè)有一個(gè)收容孔1311a。該連接部1312為中空柱狀，其內(nèi)開設(shè)有一個(gè)貫通孔1312a。優(yōu)選地，該固定部1311與該連接部1312為一體成型結(jié)構(gòu)，如此，可避免該固定部1311與該連接部1312之間產(chǎn)生漏氣的現(xiàn)象。該套筒132為中空柱狀，其內(nèi)壁上設(shè)置有內(nèi)螺紋，該套筒132緊密設(shè)置于該貫通孔 1312a 內(nèi)。該移動(dòng)件133為柱狀，其外壁上設(shè)置有與該內(nèi)螺紋配合的外螺紋，該移動(dòng)件133通過該內(nèi)螺紋與該外螺紋配合來實(shí)現(xiàn)沿該套筒132的軸向移動(dòng)。如此，可以使該移動(dòng)件133沿該套筒132的軸向移動(dòng)，同時(shí)也可以保證該移動(dòng)件133與該套筒132之間以簡單方便的結(jié)構(gòu)保持緊密配合。可以理解，該移動(dòng)件133沿該套筒132的軸向移動(dòng)也可以采用其它結(jié)構(gòu)，如該移動(dòng)件133為伸縮桿結(jié)構(gòu)，其設(shè)置于該套筒132內(nèi)可沿該套筒132的軸向伸縮。該移動(dòng)件133靠近該傘架12的一端設(shè)置一個(gè)用于收容鍍膜原料的承載槽133a。 采用一個(gè)電子槍等加熱裝置(圖未示)加熱位于該承載槽133a內(nèi)的鍍膜原料形成氣態(tài)的分子。其中，該收容孔1311a及該貫通孔1312a的軸向長度大于該移動(dòng)件133的軸向長度。如此，可給移動(dòng)件133提供移動(dòng)時(shí)所需要的空間。該噴頭134為圓臺(tái)形腔體，其包括一個(gè)具有較小直徑的第一端1341及與該第一端 1341相對(duì)且具有較大直徑的第二端1342。該第一端1341開設(shè)有一個(gè)噴口 1341a。該第二端1342固接于該固定部1311，使該噴頭134與該固定部1311之間形成一個(gè)收容空間，在加熱加熱位于該承載槽133a內(nèi)的鍍膜原料揮發(fā)成氣態(tài)分子時(shí)，其于收容空間內(nèi)達(dá)到一定濃度后向上噴發(fā)，以提高氣態(tài)分子的運(yùn)動(dòng)速度。然后使氣態(tài)的分子從該噴頭134噴出。電漿離子源14通過該導(dǎo)氣管15與該鍍膜腔體11連通，用于給該鍍膜裝置10提供助鍍。其中，由于該鍍膜原料置于該承載槽133a內(nèi)，而該承載槽133a位于該收容空間內(nèi)，該鍍膜原料與該鍍膜腔體11通過具有較小直徑的噴口連通，故該鍍膜原料不容易受到該電漿離子源14通入的離子及其它外來雜質(zhì)的污染。在蒸鍍時(shí)，通過移動(dòng)該移動(dòng)件133使與該傘架12邊緣對(duì)應(yīng)的蒸鍍源13的承載槽 133a向靠近該傘架12的方向移動(dòng)的距離大些，而與該傘架12中心位置對(duì)應(yīng)的蒸鍍源13的承載槽133a向靠近該傘架12的方向移動(dòng)的距離小些，或著使與該傘架12邊緣對(duì)應(yīng)的蒸鍍源13的承載槽133a向靠近該傘架12的方向移動(dòng)，而與該傘架12中心位置對(duì)應(yīng)的蒸鍍源 13的承載槽133a保持不動(dòng)。即保證使該三個(gè)蒸鍍源13的承載槽133a到該傘架12的距離大致相等即可。如此，從該噴頭134噴出的氣體離子飛行幾乎相同的距離后到達(dá)該傘架12 的表面，使所形成的鍍膜厚度較為均勻，產(chǎn)品質(zhì)量較佳。另外，通過調(diào)整該承載槽133a與設(shè)置于該傘架12上的待鍍工件的距離，可以控制鍍膜原料的蒸發(fā)速率，進(jìn)一步調(diào)整鍍膜的膜厚?？梢岳斫獾氖牵瑢?duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做出其它各種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜裝置，其包括一個(gè)鍍膜腔體、一個(gè)設(shè)置于該鍍膜腔體內(nèi)且呈放射狀的傘架及多個(gè)與該傘架相對(duì)設(shè)置的蒸鍍源，該鍍膜腔體包括一個(gè)底板，其特征在于該蒸鍍源包括一個(gè)固設(shè)于該底板的套筒及一個(gè)設(shè)置于該套筒內(nèi)且可沿該套筒的軸向移動(dòng)的移動(dòng)件，該移動(dòng)件靠近該傘架的一端設(shè)置一個(gè)用于收容鍍膜原料的承載槽，通過移動(dòng)該移動(dòng)件使多個(gè)蒸鍍源的承載槽到該傘架的距離相等。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于該套筒內(nèi)壁上設(shè)置有內(nèi)螺紋，該移動(dòng)件的外壁上設(shè)置有與該內(nèi)螺紋配合的外螺紋，該移動(dòng)件通過該內(nèi)螺紋與該外螺紋配合來實(shí)現(xiàn)沿該套筒的軸向移動(dòng)。
3.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于該蒸鍍源還包括一個(gè)安裝件，該套筒通過該安裝件固設(shè)于該底板。
4.如權(quán)利要求3所述的鍍膜裝置，其特征在于該底板上開設(shè)有一安裝孔，該安裝件包括一個(gè)固設(shè)于該安裝孔內(nèi)的固定部及一個(gè)與該固定部垂直連接的連接部，該固定部開設(shè)有一個(gè)收容孔，該連接部開設(shè)有一個(gè)貫通孔，該套筒緊密設(shè)置于該貫通孔內(nèi)。
5.如權(quán)利要求4所述的鍍膜裝置，其特征在于該收容孔及該貫通孔的軸向長度大于該移動(dòng)件的軸向長度。
6.如權(quán)利要求4所述的鍍膜裝置，其特征在于該固定部與該連接部為一體成型結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于該蒸鍍源還包括一個(gè)噴頭，該噴頭為圓臺(tái)形腔體，該噴頭包括一個(gè)具有較小直徑的第一端及一個(gè)與該第一端相對(duì)且具有較大直徑的第二端，該第一端開設(shè)有一個(gè)噴口，該第二端固接于該固定部。
8.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于該鍍膜裝置還包括一個(gè)電漿離子源及一個(gè)與該電漿離子源相連的導(dǎo)氣管，該電漿離子源可經(jīng)過該導(dǎo)氣管通入該鍍膜腔體內(nèi)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種鍍膜裝置，其包括一個(gè)鍍膜腔體、一個(gè)設(shè)置于該鍍膜腔體內(nèi)且呈放射狀的傘架及多個(gè)與該傘架相對(duì)設(shè)置的蒸鍍源。該鍍膜腔體包括一個(gè)底板。每個(gè)蒸鍍源包括一個(gè)固設(shè)于該底板的套筒及一個(gè)設(shè)置于該套筒內(nèi)且可沿該套筒的軸向移動(dòng)的移動(dòng)件。該移動(dòng)件靠近該傘架的一端設(shè)置一個(gè)用于收容鍍膜原料的承載槽。通過移動(dòng)該移動(dòng)件使多個(gè)蒸鍍源的承載槽到該傘架的距離相等。使所形成的鍍膜厚度較為均勻，產(chǎn)品質(zhì)量較佳。
文檔編號(hào)C23C14/24GK102251218SQ20101017608
公開日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2010年5月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月18日
發(fā)明者裴紹凱 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司