專(zhuān)利名稱(chēng)：鍍膜設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)：
鍍膜是指通過(guò)物理或化學(xué)方法在光學(xué)元件表面鍍上單層或多層薄膜。現(xiàn)有的鍍膜設(shè)備通常包括兩種，一種是在大氣壓環(huán)境下工作的滾筒式鍍膜裝置，另一種是必須采用真空處理技術(shù)的真空鍍膜裝置，例如濺鍍裝置、蒸鍍裝置、化學(xué)氣相沉積裝置等。采用滾筒式鍍膜裝置鍍多層膜時(shí)，需要多次更換不同的鍍膜材料，容易造成鍍膜材料相互污染，降低鍍膜品質(zhì)；而且，對(duì)于容易被氧化的鍍膜材料，在大氣壓環(huán)境下會(huì)大大影響產(chǎn)品質(zhì)量。當(dāng)采用真空鍍膜裝置鍍多層膜時(shí)，通常需要多次打破真空以更換鍍膜材料，如此，不僅設(shè)備成本較高，而且當(dāng)需要更換鍍膜材料時(shí)，還需重新抽真空，使得鍍膜不連續(xù)，效率低下且鍍膜質(zhì)量難以保證。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能夠鍍多層膜且保證鍍膜質(zhì)量的鍍膜設(shè)備。一種鍍膜設(shè)備，用于在大氣壓環(huán)境以及真空環(huán)境下鍍膜。所述鍍膜設(shè)備包括承載裝置，形成有一開(kāi)放式的第一收容槽以及一封閉式的第二收容槽，第一收容槽與第二收容槽之間通過(guò)一間門(mén)隔開(kāi)；基座，設(shè)置在所述第一收容槽內(nèi)，用于支撐至少一待鍍膜基材，所述基座底面上設(shè)置有一個(gè)凹槽；清洗裝置和加熱裝置，設(shè)置在第一收容槽的中部并固定在承載裝置上；滾筒裝置，設(shè)置在清洗裝置與加熱裝置上方，其包括多個(gè)并排設(shè)置的滾筒，滾筒之間彼此間隔，相鄰滾筒間的間距等于待鍍膜基材的厚度；噴液裝置，設(shè)置在滾筒裝置上方，用于為所述待鍍膜基材提供待鍍液；驅(qū)動(dòng)裝置，與基座連接，用于驅(qū)動(dòng)所述基座相對(duì)所述第一收容槽旋轉(zhuǎn)以及上下運(yùn)動(dòng)，使得所述待鍍膜基材在經(jīng)過(guò)所述清洗裝置清洗之后，于滾筒之間穿過(guò)并由所述滾筒以及噴液裝置進(jìn)行鍍第一膜層，并在完成鍍膜之后由所述加熱裝置烘干；導(dǎo)軌裝置，設(shè)置在第二收容槽內(nèi)，其包括一與基座的凹槽相對(duì)應(yīng)且能夠相對(duì)第二收容槽運(yùn)動(dòng)的軌道，當(dāng)閘門(mén)打開(kāi)后，裝載有待鍍膜基材的凹槽與軌道相互卡合，基座跟隨軌道被移動(dòng)至所述第二收容槽；真空鍍膜裝置，收容在第二收容槽內(nèi)，用于當(dāng)基座收容至第二收容槽后，對(duì)待鍍膜基材鍍第二膜層；以及控制裝置，用于控制上述間門(mén)、清洗裝置、加熱裝置、滾筒裝置、噴液裝置、驅(qū)動(dòng)裝置、導(dǎo)軌裝置和真空鍍膜裝置根據(jù)預(yù)設(shè)程序或用戶操作完成鍍膜。本發(fā)明的鍍膜設(shè)備在大氣壓環(huán)境下對(duì)待鍍膜基材鍍第一膜層，在真空環(huán)境下鍍第二膜層，鍍多層膜的過(guò)程無(wú)需在第一收容槽內(nèi)多次更換鍍膜材料，或者對(duì)第二收容槽多次抽真空及破真空，使得鍍膜連續(xù)，提高了鍍膜效率且能夠保證鍍膜品質(zhì)。


圖1是本發(fā)明實(shí)施方式提供的鍍膜設(shè)備的立體分解圖。
圖2是圖1的鍍膜設(shè)備另一視角的組裝剖視圖。
圖3是圖2的鍍膜設(shè)備的第一狀態(tài)示意圖。
圖4是圖2的鍍膜設(shè)備的第二狀態(tài)正視圖。
圖5是圖4的鍍膜設(shè)備的立體圖。
圖6是圖2的鍍膜設(shè)備的第三狀態(tài)示意圖。
圖7是圖2的鍍膜設(shè)備的第四狀態(tài)示意圖。
圖8是圖2的鍍膜設(shè)備的第五狀態(tài)部分分解圖。
圖9是圖8的鍍膜設(shè)備的組裝剖視圖。
主要元件符號(hào)說(shuō)明
鍍膜設(shè)備100
承載裝置10
第一收容槽11
底面110
通孔115
頂面120
第一開(kāi)口121
第二收容槽13
側(cè)面130
第二開(kāi)口131
臺(tái)階133
閘門(mén)15
第一加強(qiáng)板17
第二加強(qiáng)板19
基座20
承載板21
插槽23
凹槽25
凸塊27
清洗裝置30
壓縮空氣氣槍31
加熱裝置40
控制電路板41
電加熱元件43
滾筒裝置50
滾筒51
滾動(dòng)馬達(dá)53
噴液裝置60
噴液端61
驅(qū)動(dòng)裝置70
旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71
電磁鐵711
升降馬達(dá)73
升降軸75
導(dǎo)軌裝置80
軌道81
底座83
滑動(dòng)馬達(dá)85
壓力傳感器87
卡鉤89
真空鍍膜裝置90
控制裝置300
旋轉(zhuǎn)開(kāi)關(guān)301
升降開(kāi)關(guān)302
清洗開(kāi)關(guān)303
噴液開(kāi)關(guān)304
滾筒開(kāi)關(guān)305
加熱開(kāi)關(guān)306
閘門(mén)開(kāi)關(guān)307
真空鍍膜開(kāi)關(guān)308
手動(dòng)開(kāi)關(guān)309
具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖1和圖2，本發(fā)明較佳實(shí)施方式提供一種鍍膜設(shè)備100，用于分別在大氣壓環(huán)境以及真空環(huán)境下對(duì)一待鍍膜基材200鍍多層膜。所述鍍膜設(shè)備100包括一承載裝置 10，所述承載裝置10形成有一開(kāi)放式的第一收容槽11以及一可活動(dòng)開(kāi)放的第二收容槽13， 第一收容槽11與第二收容槽13之間通過(guò)一閘門(mén)15隔開(kāi)。所述第二收容槽13與一抽真空裝置(圖未示)連通，用于將所述第二收容槽13抽為真空。所述鍍膜設(shè)備100還包括一活動(dòng)設(shè)置在第一收容槽11內(nèi)的基座20、設(shè)置在第一收容槽11中部的一清洗裝置30和一加熱裝置40、設(shè)置在第一收容槽11頂部的一滾筒裝置 50、設(shè)置在滾筒裝置50之上的一噴液裝置60、設(shè)置在承載裝置10底部的一驅(qū)動(dòng)裝置70、設(shè)置在第二收容槽13內(nèi)的導(dǎo)軌裝置80、收容在第二收容槽13內(nèi)的真空鍍膜裝置90以及用于控制鍍膜設(shè)備100鍍膜的控制裝置300。所述基座20用于支撐至少一個(gè)所述待鍍膜基材 200，所述驅(qū)動(dòng)裝置70驅(qū)動(dòng)所述基座20帶動(dòng)所述待鍍膜基材200在所述第一收容槽11內(nèi)上下運(yùn)動(dòng)，以供所述滾筒裝置50以及噴液裝置60共同對(duì)所述待鍍膜基材200進(jìn)行鍍第一膜層。且，當(dāng)鍍完第一膜層后，基座20以及待鍍膜基材200沿著所述導(dǎo)軌裝置80進(jìn)入第二收容槽13，以進(jìn)行鍍第二膜層。具體的，所述承載裝置10形成有一個(gè)底面110、一個(gè)與底面110相對(duì)的頂面120以及四個(gè)依次相連的側(cè)面130，并大致呈立方體。所述底面110上開(kāi)設(shè)有一個(gè)通孔115。頂面120上形成有一第一開(kāi)口 121，其中一個(gè)側(cè)面130上開(kāi)設(shè)有一第二開(kāi)口 131，所述第二開(kāi)口 131與第一開(kāi)口 121連通，且使得所述第一收容槽11與外界連通。所述第二開(kāi)口 131的邊緣形成有對(duì)稱(chēng)的臺(tái)階133。一第一加強(qiáng)板17以及一第二加強(qiáng)板19均固定在第二開(kāi)口 131 的邊緣，具體的，第二加強(qiáng)板19兩端固定設(shè)置在所述臺(tái)階133上。第一加強(qiáng)板17用于固定加熱裝置40，第二加強(qiáng)板19用于固定滾筒裝置50的端部?？梢岳斫猓龅谝患訌?qiáng)板17 以及第二加強(qiáng)板19兩端可分別通過(guò)螺釘或其他方便拆裝的方式固定于第二開(kāi)口 131的邊緣上。 可以理解，所述承載裝置10還可以設(shè)置為其他形狀，如U型體或是圓柱體等。
所述基座20設(shè)置在所述第一收容槽11內(nèi)。所述基座20包括一承載板21，所述承載板21遠(yuǎn)離底面110的表面上形成有多個(gè)插槽23，用于分別收容多個(gè)待鍍膜基材200。插槽23彼此間距，相鄰插槽23間的距離為第一間距。當(dāng)所述待鍍膜基材200插設(shè)在承載板 21上時(shí)，每個(gè)待鍍膜基材200均大致垂直于承載板21，使得相鄰待鍍膜基材200之間的距離大致等于第一間距。本實(shí)施方式中，待鍍膜基材200為玻璃板。所述承載板21貼近底面 110的表面上設(shè)置有一個(gè)凹槽25(請(qǐng)參閱圖7)。本實(shí)施方式中，所述基座20貼近底面110 的表面上形成有一凸塊27，所述凹槽25形成在所述凸塊27中間。所述清洗裝置30固定于承載裝置10相對(duì)的兩個(gè)側(cè)面130內(nèi)壁上。本實(shí)施方式中， 所述清洗裝置30固定在未形成有第二開(kāi)口 131的兩個(gè)側(cè)面130上。具體的，所述清洗裝置 30包括兩個(gè)壓縮空氣氣槍31，用于對(duì)所述待鍍膜基材200進(jìn)行噴氣清洗。所述兩個(gè)壓縮空氣氣槍31相互對(duì)正設(shè)置?？梢岳斫?，所述壓縮空氣氣槍31可以通過(guò)粘膠或者磁鐵吸合的方式固定在側(cè)面130上，所述壓縮空氣氣槍31的氣源可以通過(guò)氣管(圖未示)從承載裝置 10外側(cè)面130通入。所述加熱裝置40于第一收容槽11的第二開(kāi)口 131處固定于承載裝置10的側(cè)面 130上，且與所述清洗裝置30大致設(shè)置在同一高度。本實(shí)施方式中，所述加熱裝置40的數(shù)量設(shè)置為兩個(gè)。每個(gè)加熱裝置40包括一控制電路板41以及多個(gè)設(shè)置在控制電路板41上的電加熱元件43。所述控制電路板41固定在第一加強(qiáng)板17上，所述電加熱元件43朝向第一收容槽11內(nèi)部設(shè)置，并能夠發(fā)射熱輻射源。所述控制電路板41上具有控制電路(圖未示)，所述控制電路用于對(duì)電加熱元件43電源的通斷和加熱溫度的高低進(jìn)行調(diào)節(jié)控制。所述滾筒裝置50設(shè)置在清洗裝置30與加熱裝置40上方，且與承載板21大致平行。所述滾筒裝置50包括多個(gè)并排設(shè)置的滾筒51，每個(gè)滾筒51通過(guò)其兩端固定在第二加強(qiáng)板19上，滾筒51可相對(duì)于第二加強(qiáng)板19旋轉(zhuǎn)。相鄰滾筒51的外表面之間的最小間距為第二間距，所述第二間距等于所述待鍍膜基材200的厚度。每個(gè)滾筒51的直徑與第二間距之和大致等于所述第一間距。每個(gè)滾筒51與一個(gè)滾動(dòng)馬達(dá)53固定連接，所述滾動(dòng)馬達(dá) 53用于驅(qū)動(dòng)每個(gè)滾筒51同時(shí)朝同一個(gè)方向連續(xù)滾動(dòng)或者朝相反方向來(lái)回滾動(dòng)?？梢岳斫?， 所述滾動(dòng)馬達(dá)53可以設(shè)置在第二加強(qiáng)板19的內(nèi)表面或者外表面。所述噴液裝置60設(shè)置在滾筒裝置50上方，并固定在承載裝置10的第一開(kāi)口 121 相對(duì)的邊緣上并朝向底面Iio設(shè)置，用于為所述滾筒裝置50以及待鍍膜基材200提供鍍膜材料。具體的，所述噴液裝置60具有多個(gè)與所述滾筒51 —一對(duì)應(yīng)的噴液端61，所述噴液端61朝向承載裝置10的底部，用于向滾筒裝置50以及待鍍膜基材200噴灑待鍍液，進(jìn)而可對(duì)所述待鍍膜基材200進(jìn)行單層鍍膜。
所述驅(qū)動(dòng)裝置70與基座20傳動(dòng)連接，用于驅(qū)動(dòng)所述基座20上的待鍍膜基材200 在所述第一收容槽11內(nèi)旋轉(zhuǎn)以及上下運(yùn)動(dòng)，使得待鍍膜基材200依次經(jīng)過(guò)所述清洗裝置30 清洗，于滾筒51之間卡設(shè)在所述滾筒裝置50中，并繼續(xù)由驅(qū)動(dòng)裝置70驅(qū)動(dòng)其相對(duì)所述滾筒51來(lái)回運(yùn)動(dòng)而進(jìn)行鍍膜，且在完成鍍膜之后由所述加熱裝置40烘干。具體的，所述驅(qū)動(dòng)裝置70包括一個(gè)旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71以及一個(gè)升降馬達(dá)73，所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71穿過(guò)所述通孔115與基座20活動(dòng)連接，并可驅(qū)動(dòng)所述基座20來(lái)回旋轉(zhuǎn)360度。本實(shí)施方式中，所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71 頂面設(shè)置有電磁鐵711，基座20底面對(duì)應(yīng)設(shè)置有可與電磁鐵相互吸合的磁鐵(圖未示)，當(dāng)所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71通電時(shí)，電磁鐵711與磁鐵吸合，使得旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71與基座20固定連接；當(dāng)所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71斷電時(shí)，電磁鐵711與磁鐵分離，使得旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71與基座20分離。所述升降馬達(dá)73具有一升降軸75，所述升降軸75 —端與旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71活動(dòng)連接，另一端與升降馬達(dá)73固定旋轉(zhuǎn)連接，所述升降馬達(dá)73可驅(qū)動(dòng)所述升降軸75 —邊旋轉(zhuǎn)一邊上下運(yùn)動(dòng)。本實(shí)施方式中，所述升降軸75為一螺紋軸。所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71通過(guò)所述升降軸75與所述升降馬達(dá)73相連，使得所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71可被所述升降馬達(dá)73驅(qū)動(dòng)上下移動(dòng)。所述導(dǎo)軌裝置80設(shè)置在第二收容槽13內(nèi)，其包括一與基座20的凹槽25可對(duì)應(yīng)卡合的軌道81，軌道81靠近第一收容槽11的一端突出設(shè)置有卡鉤89，基座20的凹槽25 內(nèi)對(duì)應(yīng)卡鉤89設(shè)置有卡孔(圖未示)，所述卡鉤89用于當(dāng)軌道81與凹槽25卡合時(shí)卡入卡孔內(nèi)，使得基座20在平行于軌道81延伸的方向上固定于軌道81上。所述導(dǎo)軌裝置80還包括一個(gè)底座83，所述軌道81突出形成在所述底座83上，所述軌道81突出底座83表面的高度大致等于所述凹槽25的深度。所述底座83與所述軌道81之間設(shè)置有一滑動(dòng)馬達(dá) 85，滑動(dòng)馬達(dá)85用于驅(qū)動(dòng)所述軌道81相對(duì)于底座83水平運(yùn)動(dòng)?？梢岳斫?，所述滑動(dòng)馬達(dá) 85可以為懸浮式驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，也可以為齒輪嚙合式旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，其具體結(jié)構(gòu)可以從現(xiàn)有的馬達(dá)中選擇。所述軌道81上設(shè)置有壓力傳感器87，當(dāng)基座20與軌道81完全卡合后，所述壓力傳感器87發(fā)出卡合信號(hào)至控制裝置300。所述真空鍍膜裝置90設(shè)置在第二收容槽13內(nèi)，當(dāng)所述閘門(mén)15關(guān)閉且第二收容槽 13抽為真空之后，通過(guò)控制裝置300開(kāi)啟所述真空鍍膜裝置90，以對(duì)待鍍膜基材200鍍第二膜層?？梢岳斫?，所述真空鍍膜裝置90的類(lèi)型可以為多種，例如，濺鍍裝置、蒸鍍裝置、化學(xué)氣相沉積裝置等等。所述控制裝置300具備信號(hào)處理功能，其與所述閘門(mén)15、加熱裝置40的控制電路、 滾筒裝置50的滾動(dòng)馬達(dá)53、噴液裝置60、驅(qū)動(dòng)裝置70的旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71和升降馬達(dá)73、導(dǎo)軌裝置80的滑動(dòng)馬達(dá)85和壓力傳感器87、以及真空鍍膜裝置90電連接，并分別根據(jù)上述裝置的輸出信號(hào)來(lái)觸發(fā)對(duì)應(yīng)的操作?？梢岳斫?，上述控制裝置300可以根據(jù)預(yù)先設(shè)置的程序， 自動(dòng)控制鍍膜設(shè)備100完成鍍膜，也可以設(shè)置有多個(gè)開(kāi)關(guān)，由操作者操作不同的開(kāi)關(guān)來(lái)完成相應(yīng)的操作。本實(shí)施方式中，所述控制裝置300包括多個(gè)功能開(kāi)關(guān)，具體為用于供用戶手動(dòng)或自動(dòng)控制所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71以及升降馬達(dá)73在不同時(shí)間段內(nèi)運(yùn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)開(kāi)關(guān)301以及升降開(kāi)關(guān)302、用于控制清洗裝置30開(kāi)啟或關(guān)閉的清洗開(kāi)關(guān)303、用于控制噴液裝置60噴液的噴液開(kāi)關(guān)304、用于控制滾筒裝置50開(kāi)啟或關(guān)閉的滾筒開(kāi)關(guān)305、用于控制加熱裝置40開(kāi)啟或關(guān)閉的加熱開(kāi)關(guān)306、控制閘門(mén)15打開(kāi)或關(guān)閉的閘門(mén)開(kāi)關(guān)307、以及控制真空鍍膜裝置 90開(kāi)啟或關(guān)閉的真空鍍膜開(kāi)關(guān)308。另外，所述控制裝置300還具有一個(gè)手動(dòng)開(kāi)關(guān)309，用于供用戶手動(dòng)控制所述閘門(mén)15開(kāi)啟或關(guān)閉。所述控制裝置300的具體工作過(guò)程為需要開(kāi)始鍍膜時(shí)，用戶打開(kāi)旋轉(zhuǎn)開(kāi)關(guān)301，使得基座20旋轉(zhuǎn)預(yù)定的角度；當(dāng)旋轉(zhuǎn)預(yù)定角度后，控制清洗開(kāi)關(guān)303自動(dòng)打開(kāi)；清洗一段時(shí)間后，控制升降開(kāi)關(guān)302打開(kāi)，使得基座20上升預(yù)定的高度；之后，控制噴液開(kāi)關(guān)304打開(kāi)，以對(duì)基座20上的待鍍膜基材200噴液，同時(shí)，根據(jù)噴液開(kāi)關(guān)304的打開(kāi)信號(hào)，控制升降馬達(dá)73上下運(yùn)動(dòng)；噴液一定時(shí)間后，關(guān)閉噴液開(kāi)關(guān)304，并控制升降馬達(dá)73下降預(yù)定的高度，使得基座20回復(fù)到第一收容槽11的底部，關(guān)閉旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71 ；之后，手動(dòng)開(kāi)啟加熱開(kāi)關(guān)306，使得加熱裝置40對(duì)待鍍膜基材200進(jìn)行加熱；當(dāng)所述加熱裝置40加熱一段時(shí)間之后，加熱開(kāi)關(guān)306轉(zhuǎn)為關(guān)閉狀態(tài)時(shí)，加熱開(kāi)關(guān)306向所述控制裝置300發(fā)送觸發(fā)信號(hào)，所述控制裝置300根據(jù)所述觸發(fā)信號(hào)控制所述間門(mén)15打開(kāi)。當(dāng)閘門(mén)15打開(kāi)之后，控制裝置300控制滑動(dòng)馬達(dá)85驅(qū)動(dòng)軌道81朝向第一收容槽11移動(dòng)，直到基座20與壓力傳感器87抵觸，此時(shí)，壓力傳感器87輸出所述卡合信號(hào)至控制裝置300，所述控制裝置300控制所述滑動(dòng)馬達(dá)85帶動(dòng)軌道81、基座20以及待鍍膜基材200運(yùn)動(dòng)到第二收容槽13。當(dāng)滑動(dòng)馬達(dá)85運(yùn)動(dòng)一定距離后，所述控制裝置300控制所述閘門(mén)15關(guān)閉。請(qǐng)參閱圖3至圖9，為使用該鍍膜設(shè)備100時(shí)的多個(gè)狀態(tài)圖。第一狀態(tài)中，將所述鍍膜設(shè)備100放置在大氣壓環(huán)境下，基座20收容在第一收容槽11內(nèi)，基座20的承載板21與承載裝置10的底面110貼合，且待鍍膜基材200的端部均對(duì)正所述兩個(gè)相對(duì)設(shè)置的壓縮空氣氣槍31。打開(kāi)所述清洗裝置30以及驅(qū)動(dòng)裝置70的旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71，旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71在一定的角度范圍內(nèi)來(lái)回旋轉(zhuǎn)承載板21，從而帶動(dòng)待鍍膜基材200來(lái)回旋轉(zhuǎn)，使得清洗裝置30噴出壓縮空氣對(duì)旋轉(zhuǎn)的待鍍膜基材200進(jìn)行清洗，以確保壓縮空氣氣槍31氣槍吹氣至整個(gè)待鍍膜基材200表面。第二狀態(tài)為清潔一定時(shí)間后，通過(guò)控制裝置300關(guān)閉清洗裝置30，同時(shí)控制旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71使得基座20旋轉(zhuǎn)，直到基座20上的待鍍膜基材200均平行于滾筒51設(shè)置的方向?yàn)橹?。到達(dá)第三以及第四狀態(tài)時(shí)，打開(kāi)升降馬達(dá)73，使得待鍍膜基材200提升至與滾筒裝置50相對(duì)應(yīng)的位置，且每個(gè)待鍍膜基材200夾設(shè)在每?jī)蓚€(gè)滾筒51之間。啟動(dòng)滾筒裝置 50上的滾動(dòng)馬達(dá)53以及打開(kāi)噴液裝置60上的噴液端61，使得每個(gè)噴液端61將待鍍液噴灑至與其相對(duì)應(yīng)的滾筒51以及待鍍膜基材200上?？刂粕雕R達(dá)73使得基座20上的待鍍膜基材200相對(duì)于滾筒51在短距離內(nèi)上下運(yùn)動(dòng)。本實(shí)施方式中，所述短距離小于等于所述待鍍膜基材200的長(zhǎng)度。所述滾筒51在滾動(dòng)過(guò)程中，將待鍍液均勻涂布在待鍍膜基材 200上。在對(duì)所述待鍍膜基材200完成均勻涂布待鍍液后，通過(guò)升降馬達(dá)73帶動(dòng)所述待鍍膜基材200下降至與加熱裝置40齊平的位置，即基座20回復(fù)到第一收容槽11底部時(shí)的位置，開(kāi)啟所述加熱裝置40，對(duì)涂布了待鍍液的待鍍膜基材200及時(shí)進(jìn)行加熱以形成結(jié)晶相， 從而形成第一膜層。可以理解，在大氣壓環(huán)境下鍍的第一層膜的材料應(yīng)該是不易于氧化的材料。在完成加熱之后，進(jìn)入第五狀態(tài)，關(guān)閉加熱裝置40，并通過(guò)控制裝置300打開(kāi)閘門(mén) 15。當(dāng)閘門(mén)15打開(kāi)后，啟動(dòng)滑動(dòng)馬達(dá)85使得軌道81運(yùn)動(dòng)預(yù)定距離至第一收容槽11并靠近旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71，然后啟動(dòng)升降馬達(dá)73使得基座20下降并通過(guò)凹槽25與軌道81卡合。當(dāng)基座20與軌道81完全卡合后，所述軌道81裝置上的壓力傳感器87發(fā)出卡合信號(hào)至控制裝置300，控制裝置300控制旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71斷電，使得旋轉(zhuǎn)馬達(dá)71與基座20斷開(kāi)連接，控制裝置300控制滑動(dòng)馬達(dá)85使得軌道81回到第二收容槽13，使得底座83承載所述基座20， 所述控制裝置300并控制所述間門(mén)15關(guān)閉。之后，通過(guò)抽真空裝置將第二收容槽13抽為真空，并啟動(dòng)所述真空鍍膜裝置90，以對(duì)已鍍有第一膜層的待鍍膜基材200鍍第二膜層。完成鍍膜后，控制裝置300控制間門(mén)15打開(kāi)，將待鍍膜基材200從第二收容槽13內(nèi)取出，從而獲得具有多層膜的鍍膜產(chǎn)品。本發(fā)明的鍍膜設(shè)備100在大氣壓環(huán)境下對(duì)待鍍膜基材200鍍第一膜層，在真空環(huán)境下鍍第二膜層，鍍多層膜的過(guò)程無(wú)需在第一收容槽11內(nèi)多次更換鍍膜材料，或者對(duì)第二收容槽13多次抽真空及破真空，使得鍍膜連續(xù)，提高了鍍膜效率且能夠保證鍍膜品質(zhì)?？梢岳斫?，在使用上述鍍膜設(shè)備100進(jìn)行鍍膜時(shí)，也可先在第二收容槽13內(nèi)鍍第一膜層，然后在第一收容槽11內(nèi)鍍第二膜層?？梢岳斫獾氖?，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可于本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜設(shè)備，用于在大氣壓環(huán)境以及真空環(huán)境下鍍膜，所述鍍膜設(shè)備包括承載裝置，形成有一第一收容槽以及一第二收容槽，第一收容槽與第二收容槽之間通過(guò)一閘門(mén)隔開(kāi)；基座，設(shè)置在所述第一收容槽內(nèi)，用于支撐至少一待鍍膜基材，所述基座背對(duì)待鍍膜基材的表面上開(kāi)設(shè)有一個(gè)凹槽；清洗裝置和加熱裝置，設(shè)置在第一收容槽的中部并固定在承載裝置上；滾筒裝置，設(shè)置在清洗裝置與加熱裝置上方，其包括多個(gè)并排設(shè)置的滾筒，滾筒之間彼此間隔，相鄰滾筒間的間距等于待鍍膜基材的厚度；噴液裝置，設(shè)置在滾筒裝置上方，用于為所述待鍍膜基材提供待鍍液；驅(qū)動(dòng)裝置，與基座連接，用于驅(qū)動(dòng)所述基座相對(duì)所述第一收容槽旋轉(zhuǎn)以及上下運(yùn)動(dòng)，使得所述待鍍膜基材在經(jīng)過(guò)所述清洗裝置清洗之后，于滾筒之間穿過(guò)并由所述滾筒以及噴液裝置進(jìn)行鍍第一膜層，并在完成鍍膜之后由所述加熱裝置烘干；導(dǎo)軌裝置，設(shè)置在第二收容槽內(nèi)，其包括一與所述凹槽相對(duì)應(yīng)且能夠相對(duì)第二收容槽運(yùn)動(dòng)的軌道，當(dāng)間門(mén)打開(kāi)后，裝載有待鍍膜基材的基座的凹槽與軌道相互卡合，基座跟隨軌道被移動(dòng)至所述第二收容槽；真空鍍膜裝置，收容在第二收容槽內(nèi)，用于當(dāng)基座收容至第二收容槽后，對(duì)待鍍膜基材鍍第二膜層；以及控制裝置，用于控制上述間門(mén)、清洗裝置、加熱裝置、滾筒裝置、噴液裝置、驅(qū)動(dòng)裝置、導(dǎo)軌裝置和真空鍍膜裝置根據(jù)預(yù)設(shè)程序或用戶操作完成鍍膜。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述承載裝置形成有一個(gè)底面、一個(gè)與底面相對(duì)的頂面以及四個(gè)依次相連的側(cè)面，所述底面上開(kāi)設(shè)有一個(gè)通孔，所述驅(qū)動(dòng)裝置部分收容在所述通孔內(nèi)，并通過(guò)所述通孔與基座連接；頂面上形成有一第一開(kāi)口，噴液裝置固定在第一開(kāi)口邊緣并朝向底面設(shè)置；清洗裝置分別固定在相對(duì)的兩個(gè)側(cè)面上，加熱裝置分別固定在另外兩個(gè)相對(duì)的側(cè)面上，滾筒裝置兩端固定在另外兩個(gè)相對(duì)的側(cè)面上。
3.如權(quán)利要求2所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，其中一個(gè)側(cè)面上開(kāi)設(shè)有一第二開(kāi)口，所述第二開(kāi)口與第一開(kāi)口連通，一第一加強(qiáng)板以及一第二加強(qiáng)板固定在第二開(kāi)口的邊緣，第一加強(qiáng)板用于固定加熱裝置，第二加強(qiáng)板用于固定滾筒裝置端部。
4.如權(quán)利要求1所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括一個(gè)旋轉(zhuǎn)馬達(dá)以及一個(gè)升降馬達(dá)，所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)穿過(guò)所述通孔與基座固定連接并用于驅(qū)動(dòng)所述基座旋轉(zhuǎn)，所述升降馬達(dá)具有一升降軸，所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)通過(guò)所述升降軸與所述升降馬達(dá)相連并被所述升降馬達(dá)驅(qū)動(dòng)上下移動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述基座包括一承載板，所述承載板上形成有多個(gè)插槽用于分別收容多個(gè)待鍍膜基材，插槽彼此間距，相鄰插槽間的距離等于所述滾筒的直徑與待鍍膜基材的厚度之和。
6.如權(quán)利要求1所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述滾筒裝置上設(shè)置有一個(gè)滾動(dòng)馬達(dá)， 用于驅(qū)動(dòng)每個(gè)滾筒朝同一個(gè)方向連續(xù)滾動(dòng)或者朝相反方向來(lái)回滾動(dòng)。
7.如權(quán)利要求1所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述控制裝置與所述加熱裝置電連接， 當(dāng)所述加熱裝置加熱完成之后，加熱裝置向所述控制裝置發(fā)送觸發(fā)信號(hào)，所述控制裝置控制所述閘門(mén)打開(kāi)。
8.如權(quán)利要求7所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述控制裝置還與所述閘門(mén)、滾筒裝置、噴液裝置、驅(qū)動(dòng)裝置、導(dǎo)軌裝置、以及真空鍍膜裝置電連接，并分別根據(jù)對(duì)應(yīng)裝置的輸出信號(hào)來(lái)觸發(fā)對(duì)應(yīng)的操作。
9.如權(quán)利要求1所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述導(dǎo)軌裝置包括一個(gè)底座，所述軌道突出形成在所述底座上，所述軌道相對(duì)于底座表面的高度等于所述凹槽的深度，所述底座與所述軌道之間設(shè)置有一滑動(dòng)馬達(dá)，滑動(dòng)馬達(dá)用于驅(qū)動(dòng)所述軌道相對(duì)于底座水平運(yùn)動(dòng)。
10.如權(quán)利要求1所述的鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述軌道上設(shè)置有壓力傳感器，當(dāng)基座與軌道完全卡合后，所述壓力傳感器發(fā)出卡合信號(hào)至控制裝置。
全文摘要
一種鍍膜設(shè)備，包括承載裝置，形成有通過(guò)一閘門(mén)隔開(kāi)的第一收容槽及第二收容槽；基座，設(shè)置在第一收容槽底部，用于支撐至少一基材，基座底面上設(shè)置有一個(gè)凹槽；清洗裝置和加熱裝置，固定在承載裝置上；滾筒裝置，設(shè)置在清洗裝置與加熱裝置上方；噴液裝置，設(shè)置在滾筒裝置上方，用于提供待鍍液；驅(qū)動(dòng)裝置，用于驅(qū)動(dòng)基座相對(duì)第一收容槽運(yùn)動(dòng)，使得基材經(jīng)過(guò)清洗裝置清洗之后，穿過(guò)滾筒裝置進(jìn)而由噴液裝置進(jìn)行鍍第一膜層，并由加熱裝置烘干；導(dǎo)軌裝置，設(shè)置在第二收容槽內(nèi)，用于當(dāng)閘門(mén)打開(kāi)后與凹槽相互卡合；真空鍍膜裝置，收容在第二收容槽內(nèi)，用于對(duì)基材鍍第二膜層；及控制裝置，用于控制對(duì)應(yīng)的上述裝置根據(jù)預(yù)設(shè)程序或用戶操作完成鍍膜。
文檔編號(hào)C23C14/56GK102373435SQ201010255449
公開(kāi)日2012年3月14日 申請(qǐng)日期2010年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月17日
發(fā)明者裴紹凱 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司