專利名稱：殼體及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種殼體及其制造方法。
背景技術(shù)：
真空鍍膜技術(shù)(PVD)是一個非常環(huán)保的成膜技術(shù)。以真空鍍膜的方式所形成的膜層具有高硬度、高耐磨性、良好的化學(xué)穩(wěn)定性、與基體結(jié)合牢固以及亮麗的金屬外觀等優(yōu)點(diǎn)，因此真空鍍膜在鋁、鋁合金、鎂、鎂合金及不銹鋼等金屬基材表面裝飾性處理領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣。然而，由于鋁或鋁合金的標(biāo)準(zhǔn)電極電位很低，且PVD裝飾性涂層本身不可避免的會存在微小的孔隙，因此，直接于鋁或鋁合金基體表面鍍覆諸如TiN層、TiNO層、TiCN層、 CrN層、CrNO層、CrCN層或其他具有耐腐蝕性的PVD裝飾性涂層，不能有效防止所述鋁或鋁合金基體發(fā)生電化學(xué)腐蝕，同時該P(yáng)VD裝飾性涂層本身也會發(fā)生異色、脫落等現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于此，提供一種具有良好的耐腐蝕性及裝飾性外觀的殼體。另外，還提供一種上述殼體的制造方法。一種殼體，包括鋁或鋁合金基體、依次形成于該鋁或鋁合金基體上的電絕緣層及具有耐腐蝕性的顏色層。一種殼體的制造方法，包括以下步驟提供鋁或鋁合金基體；于該鋁或鋁合金基體上磁控濺射形成電絕緣層；于該電絕緣層上磁控濺射形成具有耐腐蝕性的顏色層。所述殼體的制造方法，通過磁控濺射法依次于鋁或鋁合金基體上形成氧化硅或氧化鋁的電絕緣層及具有耐腐蝕性的顏色層。當(dāng)殼體處于腐蝕性介質(zhì)中時，由于所述電絕緣層隔絕了鋁或鋁合金基體與顏色層，使殼體無法形成發(fā)生電化學(xué)腐蝕所需要的陰極與陽極，從而提高了殼體的耐腐蝕性。所述殼體耐腐蝕性提高的同時，還可避免所述顏色層發(fā)生異色、脫落等失效現(xiàn)象，從而使該殼體經(jīng)長時間使用后仍具有較好的裝飾性外觀。


圖1為本發(fā)明較佳實(shí)施例的殼體的剖視圖。主要元件符號說明殼體10鋁或鋁合金基體11電絕緣層13顏色層1具體實(shí)施例方式請參閱圖1，本發(fā)明一較佳實(shí)施例的殼體10包括鋁或鋁合金基體11、依次形成于該鋁或鋁合金基體11上的電絕緣層13及顏色層15。該殼體10可以為3C電子產(chǎn)品的殼體，也可為眼鏡邊框、建筑用件及汽車等交通工具的零部件等。所述電絕緣層13為二氧化硅(SiO2)層或氧化鋁(Al2O3)層，其厚度為2.0 3.0μπι。可以理解的，所述電絕緣層13還可以為聚四氟乙烯層或其他絕緣層。所述電絕緣層13的顏色以不影響顏色層15的色調(diào)為佳，比如可為銀色、白色及灰白色等淺色調(diào)。所述顏色層15為TiN層，其厚度為0. 5 3. 0 μ m?？梢岳斫?，所述顏色層15還可以為TiNO層、TiCN層、CrN層、CrNO層、CrCN層或其他具有耐腐蝕性的裝飾性膜層。所述電絕緣層13及顏色層15均可通過磁控濺射法沉積形成?？梢岳斫獾?，所述電絕緣層13及顏色層15也可以通過化學(xué)氣相沉積、噴涂等方式形成。本發(fā)明一較佳實(shí)施例的制造所述殼體10的方法主要包括如下步驟提供鋁或鋁合金基體11，并對鋁或鋁合金基體11依次進(jìn)行研磨及電解拋光。電解拋光后，再依次用去離子水和無水乙醇對該鋁或鋁合金基體11表面進(jìn)行擦拭。再將擦拭后的鋁或鋁合金基體11放入盛裝有丙酮溶液的超聲波清洗器中進(jìn)行震動清洗，以除去鋁或鋁合金基體11表面的雜質(zhì)和油污等。清洗完畢后吹干備用。對經(jīng)上述處理后的鋁或鋁合金基體11的表面進(jìn)行氬氣等離子清洗，進(jìn)一步去除鋁或鋁合金基體11表面的油污，以改善鋁或鋁合金基體11表面與后續(xù)涂層的結(jié)合力。該等離子清洗的具體操作及工藝參數(shù)可為將鋁或鋁合金基體11放入一磁控濺射鍍膜機(jī) (圖未示)的鍍膜室內(nèi)，對該鍍膜室進(jìn)行抽真空處理至真空度為1.0X10_3Pa，以250 500sCCm(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)毫升/分鐘)的流量向鍍膜室中通入純度為99. 999%的氬氣，于鋁或鋁合金基體11上施加-300 -800V的偏壓，對鋁或鋁合金基體11表面進(jìn)行等離子清洗，清洗時間為3 IOmin。在對鋁或鋁合金基體11進(jìn)行等離子清洗后，于該鋁或鋁合金基體11上形成電絕緣層13。所述電絕緣層13為二氧化硅層或氧化鋁層。形成該電絕緣層13的具體操作及工藝參數(shù)如下以氬氣為工作氣體，調(diào)節(jié)氬氣流量為150 300sCCm，再向鍍膜室中通入流量為50 200SCCm的純度為99. 999 %的反應(yīng)氣體氧氣，設(shè)置占空比為30% 70%，于鋁或鋁合金基體11上施加-50 -300V的偏壓，并加熱鍍膜室至50 150°C (即濺射溫度為50 150)；選擇Si及Al中的任一種為靶材，設(shè)置其功率為5 13kw，沉積電絕緣層13。 沉積該電絕緣層13的時間為30 120min。形成所述電絕緣層13后，于該鋁或鋁合金基體11上形成顏色層15，該顏色層15 為TiN層。形成所述TiN層的的具體操作及工藝參數(shù)如下關(guān)閉所述Si靶或Al靶的電源， 開啟已置于所述鍍膜機(jī)內(nèi)的一鈦靶的電源，設(shè)置其功率5 10kw，保持上述氬氣的流量不變，并向鍍膜室內(nèi)通入流量為10 120sCCm的反應(yīng)氣體氮?dú)?，沉積顏色層15。沉積該顏色層15的時間為20 60min?？梢岳斫猓鲱伾珜?5還可以為TiNO層、TiCN層、CrN層、CrNO層、CrCN層或其他具有耐腐蝕性的裝飾性膜層。本發(fā)明較佳實(shí)施方式的殼體10的制造方法，通過磁控濺射法依次于鋁或鋁合金基體11上形成氧化硅或氧化鋁的電絕緣層13及顏色層15。當(dāng)殼體10處于腐蝕性介質(zhì)中時，由于所述電絕緣層13隔絕了鋁或鋁合金基體11與顏色層15，使殼體10無法形成發(fā)生電化學(xué)腐蝕所需要的陰極與陽極，從而提高了殼體10的耐腐蝕性。所述殼體10耐腐蝕性提高的同時，還可避免所述顏色層15發(fā)生異色、脫落等失效現(xiàn)象，從而使該殼體10經(jīng)長時間使用后仍具有較好的裝飾性外觀。
權(quán)利要求
1.一種殼體，包括鋁或鋁合金基體及形成于該鋁或鋁合金基體上的具有耐腐蝕性的顏色層，其特征在于該殼體還包括形成于所述鋁或鋁合金基體與顏色層之間的電絕緣層。
2.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于該電絕緣層為二氧化硅層或氧化鋁層。
3.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于該電絕緣層為聚四氟乙烯層。
4.如權(quán)利要求2或3所述的殼體，其特征在于該電絕緣層的厚度為2.0 3. 0 μ m。
5.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述顏色層為TiN層、TiNO層、TiCN層、CrN 層、CrNO層或CrCN層。
6.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述電絕緣層及顏色層以磁控濺射鍍膜法形成。
7.一種殼體的制造方法，包括以下步驟 提供鋁或鋁合金基體；于該鋁或鋁合金基體上磁控濺射形成電絕緣層； 于該電絕緣層上磁控濺射形成具有耐腐蝕性的顏色層。
8.如權(quán)利要求7所述的殼體的制造方法，其特征在于所述電絕緣層為氧化硅層或氧化鋁層。
9.如權(quán)利要求8所述的殼體的制造方法，其特征在于磁控濺射所述電絕緣層的工藝參數(shù)為以氬氣為工作氣體，其流量為150 300sCCm，以氧氣為反應(yīng)氣體，其流量為50 200SCCm，設(shè)置占空比為30% 70%，于鋁或鋁合金基體上施加-50 -300V的偏壓，選擇 Si及Al中的任一種為靶材，設(shè)置其功率為5 13kw，濺射溫度為50 150°C。
10.如權(quán)利要求9所述的殼體的制造方法，其特征在于所述電絕緣層的濺射時間為 30 120min。
全文摘要
本發(fā)明提供一種殼體，包括鋁或鋁合金基體、形成于該鋁或鋁合金基體上的電絕緣層及具有耐腐蝕性的顏色層。所述殼體具有良好的耐腐蝕性及裝飾性外觀。本發(fā)明還提供了所述殼體的制造方法，包括以下步驟提供鋁或鋁合金基體；于該鋁或鋁合金基體上磁控濺射形成電絕緣層；于該電絕緣層上磁控濺射形成具有耐腐蝕性的顏色層。
文檔編號C23C14/35GK102453855SQ20101052320
公開日2012年5月16日 申請日期2010年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月28日
發(fā)明者張新倍, 張滿喜, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司