專利名稱：殼體及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種殼體及其制造方法。
背景技術(shù)：
真空鍍膜技術(shù)(PVD)是一種非常環(huán)保的成膜技術(shù)。以真空鍍膜的方式所形成的膜層具有高硬度、高防磨性的化學(xué)穩(wěn)定性、與基體結(jié)合牢固以及亮麗的金屬外觀等優(yōu)點，因此真空鍍膜在鋁、鋁合金及不銹鋼等金屬基材表面裝飾性處理領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣。然而，由于鋁或鋁合金的標(biāo)準(zhǔn)電極電位很低，與PVD鍍層，如TiN層、TiN層或CrN 層的電位差較大，且PVD鍍層本身不可避免的會存在微小的孔隙，如針孔、裂紋，致使鋁或鋁合金基體易于發(fā)生微電池腐蝕。因此，直接于鋁或鋁合金基體表面鍍覆所述TiN層、TiN 層或CrN層并不能有效提高所述鋁或鋁合金基體的耐腐蝕性能，同時該PVD鍍層本身也會發(fā)生異色、脫落等現(xiàn)象，難以維持良好的裝飾外觀。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于此，提供一種具有良好的耐腐蝕性及裝飾性外觀的殼體。另外，還提供一種上述殼體的制造方法。一種殼體，包括鋁或鋁合金基體，形成于該鋁或鋁合金基體表面的防腐蝕層，及形成于防腐蝕層表面的色彩層，所述防腐蝕層包括依次形成于鋁或鋁合金基體表面的Al層和氧化鋁層。一種殼體的制造方法，包括以下步驟提供鋁或鋁合金基體；在該鋁或鋁合金基體上磁控濺射防腐蝕層，所述防腐蝕層包括依次形成于鋁或鋁合金基體表面的Al層和氧化鋁層；在該防腐蝕層上磁控濺射色彩層。所述殼體的制造方法，通過磁控濺射法依次于鋁或鋁合金基體上形成防腐蝕層及具有裝飾性的色彩層。所述防腐蝕層包括依次形成于鋁或鋁合金基體表面的Al層和氧化鋁層，當(dāng)殼體處于腐蝕性介質(zhì)中時，由于所述利用鋁與鋁合金之間的電位差小，減緩了殼體發(fā)生微電池腐蝕的速率，從而提高了殼體的耐腐蝕性。在所述殼體防腐蝕性提高的同時，還可避免所述色彩層發(fā)生異色、脫落等失效現(xiàn)象，從而使該殼體經(jīng)長時間使用后仍具有較好的裝飾性外觀。


圖1為本發(fā)明較佳實施例的殼體的剖視圖。主要元件符號說明殼體10鋁或鋁合金基體11
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防腐蝕層13鋁層131氧化鋁層133色彩層1具體實施例方式請參閱圖1，本發(fā)明一較佳實施例的殼體10包括鋁或鋁合金基體11、依次形成于該鋁或鋁合金基體11上的防腐蝕層13及色彩層15。該殼體10可以為3C電子產(chǎn)品的殼體，也可為工業(yè)、建筑用件及汽車等交通工具的零部件等。所述防腐蝕層13包括鋁層131和氧化鋁層133，所述鋁層131形成于基體11的表面，所述氧化鋁層133形成于鋁層131的表面。所述鋁層131的厚度為1. 0 3. 0 μ m ；所述氧化鋁層133的厚度為0. 5 1. 0 μ m。所述色彩層15為Ti-N層，其厚度為1.0 3.0μπι?？梢岳斫?，所述色彩層15還可以為Cr-N層或其他具有裝飾性的膜層。所述防腐蝕層13及色彩層15均可通過磁控濺射法沉積形成。本發(fā)明一較佳實施例的制造所述殼體10的方法主要包括如下步驟提供鋁或鋁合金基體11，并對鋁或鋁合金基體11依次進(jìn)行研磨及電解拋光。電解拋光后，再依次用去離子水和無水乙醇對該鋁或鋁合金基體11表面進(jìn)行擦拭。再將擦拭后的鋁或鋁合金基體11放入盛裝有丙酮溶液的超聲波清洗器中進(jìn)行震動清洗，以除去鋁或鋁合金基體11表面的雜質(zhì)和油污等。清洗完畢后吹干備用。對經(jīng)上述處理后的鋁或鋁合金基體11的表面進(jìn)行氬氣等離子清洗，進(jìn)一步去除鋁或鋁合金基體11表面的油污，以改善鋁或鋁合金基體11表面與后續(xù)涂層的結(jié)合力。該等離子清洗的具體操作及工藝參數(shù)可為將鋁或鋁合金基體11放入一磁控濺射鍍膜機 (圖未示)的鍍膜室內(nèi)，對該鍍膜室進(jìn)行抽真空處理至真空度為1.0X10_3Pa，以250 500sCCm(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)毫升/分鐘)的流量向鍍膜室中通入純度為99. 999%的氬氣，于鋁或鋁合金基體11上施加-300 -800V的偏壓，對鋁或鋁合金基體11表面進(jìn)行等離子清洗，清洗時間為3 IOmin。在對鋁或鋁合金基體11進(jìn)行等離子清洗后，在該鋁或鋁合金基體11上形成防腐蝕層13。首先形成所述防腐蝕層13中的鋁層131。形成該鋁層131的具體操作及工藝參數(shù)如下以氬氣為工作氣體，調(diào)節(jié)氬氣流量為100 300SCCm，設(shè)置占空比為30 % 80 %， 于鋁或鋁合金基體11上施加-50 -200V的偏壓，并加熱鍍膜室至100 150°C (即濺射溫度為100 150)；選擇Al為靶材，設(shè)置其功率為8 13kw，沉積防腐蝕層13。沉積該防腐蝕層13的時間為10 30min。形成鋁層131后，在該鋁層131上形成氧化鋁層133，以氬氣為濺射氣體，設(shè)置氬氣流量為100 200SCCm，以氧氣為反應(yīng)氣體，設(shè)置氧氣流量為150 200SCCm，設(shè)置占空比為 30 50 %，對鋁和鋁合金基體11施加-50 -100V的偏壓，并加熱鍍膜室至100 150 (即濺射溫度為100 150)；選擇Al為靶材，設(shè)置其功率為8 13kw，沉積氧化鋁層133。沉積氧化鋁層133的時間為30 60min?？刂蒲趸X層133的厚度為0. 5 1. 0 μ m。形成氧化鋁層133后，在該防腐蝕層13上形成色彩層15，該色彩層15為Ti-N膜層或Cr-N膜層。形成所述Ti-N膜層或Cr-N膜層的具體操作及工藝參數(shù)如下關(guān)閉所述Al 靶的電源，開啟已置于所述鍍膜機內(nèi)的一鈦靶或鉻靶的電源，設(shè)置其功率8 10kw，保持上述氬氣的流量不變，并向鍍膜室內(nèi)通入流量為20 150sCCm的反應(yīng)氣體氮氣，沉積色彩層 15。沉積該色彩層15的時間為20 30min。 本發(fā)明較佳實施方式的殼體10的制造方法，通過磁控濺射法依次于鋁或鋁合金基體11上形成防腐蝕層13及色彩層15。當(dāng)殼體10處于腐蝕性介質(zhì)中時，由于所述防腐蝕層13中的鋁及氧化鋁與鋁或鋁合金基體11之間的電位差小，減緩了殼體10發(fā)生微電池腐蝕的速率，從而提高了殼體10的耐腐蝕性。所述殼體10耐腐蝕性提高的同時，還可避免所述色彩層15發(fā)生異色、脫落等失效現(xiàn)象，從而使該殼體10經(jīng)長時間使用后仍具有較好的裝飾性外觀。
權(quán)利要求
1.一種殼體，包括鋁或鋁合金基體，形成于該鋁或鋁合金基體表面的防腐蝕層，及形成于防腐蝕層表面的色彩層，其特征在于所述防腐蝕層包括依次形成于鋁或鋁合金基體表面的Al層和氧化鋁層。
2.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述鋁層的厚度為1.0 3. 0 μ m。
3.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述氧化鋁層的厚度為0.5 1. 0 μ m。
4.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述色彩層為Ti-N層或Cr-N層。
5.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述防腐蝕層及色彩層以磁控濺射鍍膜法形成。
6.一種殼體的制造方法，包括以下步驟提供鋁或鋁合金基體；在該鋁或鋁合金基體上磁控濺射防腐蝕層，所述防腐蝕層包括依次形成于鋁或鋁合金基體表面的Al層和氧化鋁層；在該防腐蝕層上磁控濺射色彩層。
7.如權(quán)利要求6所述的殼體的制造方法，其特征在于磁控濺射所述鋁層的工藝參數(shù)為以氬氣為工作氣體，其流量為100 300SCCm，設(shè)置占空比為30 % 80 %，于鋁或鋁合金基體上施加-50 -200V的偏壓，以Al為靶材，設(shè)置其功率為8 13kw，濺射溫度為50 150°C，濺射時間為10 30min。
8.如權(quán)利要求6所述的殼體的制造方法，其特征在于磁控濺射所述氧化鋁層的工藝參數(shù)為設(shè)置氬氣流量為100 200sCCm，以氧氣為反應(yīng)氣體，設(shè)置氧氣流量為150 200SCCm，設(shè)置占空比為30 50%，對基體施加-50 -100V的偏壓，選擇Al為靶材，設(shè)置其功率為8 13kw，沉積氧化鋁層的時間為30 60min。
9.如權(quán)利要求6所述的殼體的制造方法，其特征在于磁控濺射所述色彩層的工藝參數(shù)為開啟一鈦靶或鉻靶的電源，設(shè)置其功率8 10kw，設(shè)置氮氣流量為20 150sCCm，濺射時間為20 30min。
全文摘要
一種殼體，包括鋁或鋁合金基體，形成于該鋁或鋁合金基體表面的防腐蝕層，及形成于防腐蝕層表面的色彩層，所述防腐蝕層包括依次形成于鋁或鋁合金基體表面的Al層和氧化鋁層。所述殼體具有良好的耐腐蝕性及裝飾性外觀。本發(fā)明還提供了所述殼體的制造方法，包括以下步驟提供鋁或鋁合金基體；在該鋁或鋁合金基體上磁控濺射防腐蝕層；所述防腐蝕層包括依次形成于鋁或鋁合金基體表面的Al層和氧化鋁層；在該防腐蝕層上磁控濺射具有裝飾性的色彩層。
文檔編號C23C14/35GK102465255SQ201010539909
公開日2012年5月23日 申請日期2010年11月11日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月11日
發(fā)明者張新倍, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳曉強, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司