專利名稱：一種不導電裝飾膜的應用工藝的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及裝飾膜技術領域，特別是一種不導電裝飾膜的應用工藝。
背景技術：
裝飾膜被廣泛應用于各種電子產(chǎn)品如手機、電子游戲機等和各種燈飾、首飾盒、裝飾品等上，以提高其的裝飾效果和視覺效果?，F(xiàn)有的裝飾膜的應用方法一般是在膠板上先鍍一層錫或鋁，再加顏色圖層，最近進行UV過膠。由于錫和鋁都是導電材料，易產(chǎn)生靜電；涂層顏色有限，顏色不夠豐富；UV過膠成本大，工藝復雜，而且裝飾膜容易脫落。因此，現(xiàn)有的裝飾膜的應用工藝已不能滿足現(xiàn)代社會生產(chǎn)對裝飾膜的要求。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是通過一種全新的應用工藝，利用該工藝可將裝飾膜以特有的次序排列應用于金屬、玻璃、PC、Pmma和PET等上，有豐富多彩的顏色變化和炫彩效果、而且裝飾膜具有不導電、不易脫落，色度豐富等特點。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采用的技術方案是一種不導電裝飾膜的應用工藝，其包括以下步驟
第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層80-120nm氧化硅； 第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；
第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層150-1800nm的氧化鎬；
第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；
第五，根據(jù)顏色或亮度的需要，重復步驟三和步驟四。與傳統(tǒng)的裝飾膜應用工藝相比較，本發(fā)明利用真空等離子鍍膜技術對不同類型材質(zhì)的基板上沉積氧化硅、氧化鈦及氧化鎬及其不同次序膜層排列以實現(xiàn)不導電膜的應用， 具有操作性強、靈活可靠、適應性強等特點。
具體實施例方式下面給出實例對本發(fā)明作進一步的詳細說明
實施例1 本發(fā)明一種不導電裝飾膜的應用工藝，其包括以下步驟
第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層80nm氧化硅；
第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500nm氧化鈦；
第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層500nm的氧化第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500nm氧化鈦。實施例2 本發(fā)明一種不導電裝飾膜的應用工藝，其包括以下步驟 第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層120nm氧化硅；
第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層600nm氧化鈦； 第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層700nm的氧化
鎬；
第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500nm氧化鈦； 第五、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層600nm的氧化
鎬；實施例3 本發(fā)明一種不導電裝飾膜的應用工藝，其包括以下步驟 第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層IOOnm氧化硅；
第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層IOOOnm氧化鈦； 第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層1200nm的氧化
鎬；
第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500nm氧化鈦； 第五、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層1500nm的氧化
鎬；
第六、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層IOOOnm氧化鈦； 第七、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層1700nm的氧化
鎬；如上述實施例的方法，采用與該實施例相同或相似方法所獲得的其他不導電裝飾膜的應用工藝，均在本發(fā)明保護范圍之內(nèi)。
權利要求
1. 一種不導電裝飾膜的應用工藝，其特征在于其包括以下步驟 第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層80-120nm氧化硅； 第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層150-1800nm的氧化鎬；第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；第五，根據(jù)顏色或亮度的需要，重復步驟三和步驟四。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種不導電裝飾膜的應用工藝，其包括以下步驟第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層80-120nm氧化硅；第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層150-1800nm的氧化鎬；第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；第五，根據(jù)顏色或亮度的需要，重復步驟三和步驟四。與傳統(tǒng)的裝飾膜應用工藝相比較，本發(fā)明利用真空等離子鍍膜技術對不同類型材質(zhì)的基板上沉積氧化硅、氧化鈦及氧化鎬及其不同次序膜層排列以實現(xiàn)不導電膜的應用，具有操作性強、靈活可靠、適應性強等特點。
文檔編號C23C14/08GK102173274SQ20101061697
公開日2011年9月7日 申請日期2010年12月31日 優(yōu)先權日2010年12月31日
發(fā)明者陳沛洪 申請人:東莞市東日光學科技有限公司