專利名稱：一種中心導體加工模具的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及微波隔離器用中心導體的批量生產，具體涉及一種中心導體的加 工模具。
背景技術：
無線通信領域應用的微波隔離器的工作頻率一般在300-5000MHZ，高頻段的微波 隔離器對中心導體的精準度非常敏感，尺寸精度和表面光潔度會影響中心導體與微波鐵氧 體的對中?，F(xiàn)有技術的中心導體加工，多是通過機械加工方式進行，比如線切割或數控機床， 由于中心導體的材質為黃銅帶或鈹青銅帶，切割后的產品邊緣毛刺多，需增加打磨工序，通 過人工手動來去毛刺，導致生產效率相當低。

實用新型內容本實用新型的目的在于提供一種生產效率高、提高產品質量的中心導體加工模具 結構。本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是一種中心導體加工模具，包括 機臺，所述機臺上相連設置有清潔中心導體表面的清潔室、在中心導體表面設置防酸層的 絲印室、對中心導體酸蝕刻的蝕刻池以及去除防酸層的清洗池。本實用新型的有益效果是粗加工的中心導體在機臺上依次通過清潔室清潔、絲 印室絲印防酸層、蝕刻池酸蝕刻和清洗池去除防酸層后得到的成品邊緣無毛刺，各項性能 指標符合要求，在對中心導體進行批量生產時操作簡單，極大提高生產效率。

圖1是本實用新型的結構示意圖；圖2是本實用新型的加工后的中心導體示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型作進一步詳細說明。參照圖1、圖2所示，一種中心導體加工模具，包括機臺1，所述機臺1上相連設置 有清潔室2，用于清潔中心導體表面；絲印室3，用于在中心導體表面絲印防酸層；蝕刻池4， 用于對中心導體酸蝕刻；清洗池5，用于去除中心導體上的防酸層。粗加工的中心導體在機臺1上依次通過清潔室2清潔、絲印室3絲印防酸層、蝕刻 池4酸蝕刻和清洗池5去除防酸層后得到的成品邊緣無毛刺，各項性能指標符合要求，在對 中心導體進行批量生產時操作簡單，極大提高生產效率。上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效，以及部分運用的實施例， 對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型創(chuàng)造構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。
權利要求一種中心導體加工模具，包括機臺(1)，其特征在于所述機臺(1)上相連設置有清潔中心導體表面的清潔室(2)、在中心導體表面設置防酸層的絲印室(3)、對中心導體酸蝕刻的蝕刻池(4)以及去除防酸層的清洗池(5)。
專利摘要本實用新型公開了一種中心導體加工模具，包括機臺，所述機臺上相連設置有清潔室、絲印室、蝕刻池以及清洗池，粗加工的中心導體在機臺上依次通過清潔室清潔、絲印室絲印防酸層、蝕刻池酸蝕刻和清洗池去除防酸層后得到的成品邊緣無毛刺，各項性能指標符合要求，在對中心導體進行批量生產時操作簡單，極大提高生產效率。
文檔編號C23G3/00GK201663221SQ201020107618
公開日2010年12月1日 申請日期2010年1月29日 優(yōu)先權日2010年1月29日
發(fā)明者夏運海 申請人:東莞市亞馬電子有限公司