專利名稱：一種底注式澆包的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及砂型鑄件熔煉澆注制造領(lǐng)域，具體涉及一種底注式澆包。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中，普遍的底注式澆包在澆注過程中需要對齊澆口杯，目前是靠操作工 人目測對齊的。如圖1所示，因底注式澆包主體1底部的水口 2被邊緣的保護(hù)圈3遮擋，難 以直接觀測帶水口與澆口杯4中心是否對齊，如果不對齊，金屬液就會(huì)對澆口杯4的側(cè)壁進(jìn) 行沖擊，產(chǎn)生紊流、卷氣，帶來安全隱患，為了對齊水口 2與澆口杯4中心，工作人員需彎腰 并反身仰視水口 2，對齊澆口杯4中心后再進(jìn)行澆注，非常不方便。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于提供一種底注式澆包，能夠方便工作人員快 捷地對齊水口與澆口杯中心，避免紊流、卷氣等現(xiàn)象的發(fā)生，提高鑄件的內(nèi)在質(zhì)量，消除安
^^^ 急 ^^ ο為解決上述現(xiàn)有的技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用如下方案一種底注式澆包，包括澆 包主體、設(shè)在澆包主體底部的水口，所述澆包主體的底部還設(shè)有與水口對應(yīng)的保護(hù)圈，所述 澆包主體底部設(shè)有與水口對應(yīng)的標(biāo)記裝置。作為優(yōu)選，所述標(biāo)記裝置包括設(shè)在澆包主體底部并環(huán)設(shè)在水口周邊的若干細(xì)線， 所述細(xì)線的長度大于保護(hù)圈的高度。細(xì)線自然下垂，水口被細(xì)線明顯的指出，標(biāo)記效果好。有益效果本實(shí)用新型采用上述技術(shù)方案提供一種底注式澆包，在澆包主體底部設(shè)有與水口 對應(yīng)的標(biāo)記裝置，利用標(biāo)記裝置工作人員能夠方便快捷地對齊水口與澆口杯中心，避免了 紊流、卷氣等現(xiàn)象的發(fā)生，提高了鑄件的內(nèi)在質(zhì)量，消除了安全隱患。

圖1為現(xiàn)有底注式澆包的使用示意圖；圖2為本實(shí)用新型的使用示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖2所示，一種底注式澆包，包括澆包主體1、設(shè)在澆包主體1底部的水口 2，所 述澆包主體1的底部還設(shè)有與水口 2對應(yīng)的保護(hù)圈3，所述澆包主體1底部設(shè)有與水口 2對 應(yīng)的標(biāo)記裝置。所述標(biāo)記裝置包括設(shè)在澆包主體1底部并環(huán)設(shè)在水口 2周邊的若干細(xì)線5， 所述細(xì)線5的長度大于保護(hù)圈3的高度。由于細(xì)線5的長度大于保護(hù)圈3的高度，可直接 觀測到。所述的細(xì)線5為耐火材料細(xì)線，使用壽命長。在澆包被吊起時(shí)，細(xì)線5自然下垂，此時(shí)無論澆包主體1底部的水口 2轉(zhuǎn)到哪個(gè)方 向，都會(huì)被細(xì)線5明顯的標(biāo)出。在對齊澆口杯4時(shí)，只需將環(huán)設(shè)的細(xì)線5的中心部位與澆口杯4的中心對齊即可，防止了對不齊水口 2與澆口杯4造成的金屬液紊流、卷氣，避免了對 質(zhì)量帶來的影響，簡化了對齊水口 2與澆口杯4的步驟，提高了安全性以及工作效率。在使 用完畢后，因細(xì)線柔軟，澆包可直接放置到地面上，不會(huì)增加任何繁瑣的過程。
權(quán)利要求一種底注式澆包，包括澆包主體(1)、設(shè)在澆包主體(1)底部的水口(2)，所述澆包主體(1)的底部還設(shè)有與水口(2)對應(yīng)的保護(hù)圈(3)，其特征在于所述澆包主體(1)底部設(shè)有與水口(2)對應(yīng)的標(biāo)記裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種底注式澆包，其特征在于所述標(biāo)記裝置包括設(shè)在澆包 主體(1)底部并環(huán)設(shè)在水口(2)周邊的若干細(xì)線(5)，所述細(xì)線(5)的長度大于保護(hù)圈(3) 的高度。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種底注式澆包，包括澆包主體、設(shè)在澆包主體底部的水口，所述澆包主體的底部還設(shè)有與水口對應(yīng)的保護(hù)圈，所述澆包主體底部設(shè)有與水口對應(yīng)的標(biāo)記裝置。能夠方便工作人員快捷地對齊水口與澆口杯中心，避免紊流、卷氣等現(xiàn)象的發(fā)生，提高鑄件的內(nèi)在質(zhì)量，消除安全隱患。
文檔編號(hào)B22D41/08GK201711528SQ20102019865
公開日2011年1月19日 申請日期2010年5月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月20日
發(fā)明者于忠良, 王潤英 申請人:中核蘇閥橫店機(jī)械有限公司