專利名稱：可倒式真空基片表面測溫裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種可倒式真空基片測溫裝置。
背景技術(shù)：
目前，在用真空鍍膜設(shè)備進(jìn)行鍍膜時，為了加強(qiáng)被鍍工件(或稱基片)的膜層附著 強(qiáng)度，提高鍍膜質(zhì)量，經(jīng)常要對基片表面進(jìn)行烘烤加熱，而為了測量基片表面的溫度，掌握 其溫度分布狀況，以便調(diào)整加熱溫度，獲得更好的膜層質(zhì)量，就需要對基片表面的溫度進(jìn)行 精確測量。如圖1所示，在現(xiàn)有技術(shù)中，在真空狀態(tài)下用加熱裝置1對被測的基片3進(jìn)行加 熱時，在基片3表面附近放置一個或多個熱電偶溫度傳感器2，來測量基片3附近的空間溫 度，從而獲得基片3表面溫度及其溫度分布狀況。這種測量技術(shù)雖然簡單易行，但是所測的 溫度是空間溫度，不是基片表面的實(shí)際溫度，兩個溫度最大可相差50 %，存在較大誤差，它 只能近似地反映基片表面的溫度及其溫度分布狀況。
發(fā)明內(nèi)容(一)要解決的技術(shù)問題本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是測量基片表面的實(shí)際溫度，得到基片表面的溫度 分布狀況。( 二 )技術(shù)方案為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案。本實(shí)用新型提供了一種可倒式真空基片表面測溫裝置，包括基片、鎧裝鉬電阻溫 度傳感器、固定桿，其上固定有所述鎧裝鉬電阻溫度傳感器，用于控制所述鎧裝鉬電阻溫度 傳感器與基片接觸或分離以及引出電極，用于連接所述鎧裝鉬電阻溫度傳感器，將所測得 的結(jié)果傳輸?shù)絻x表進(jìn)行顯示。優(yōu)選地，所述可倒式真空基片表面測溫裝置還包括擺動臂，與所述固定桿相連接； 旋轉(zhuǎn)汽缸，與所述擺動臂相連接；以及旋轉(zhuǎn)軸，分別與所述擺動臂和所述旋轉(zhuǎn)汽缸相連接。優(yōu)選地，所述旋轉(zhuǎn)軸安裝在所述旋轉(zhuǎn)氣缸上。優(yōu)選地，所述擺動臂與所述旋轉(zhuǎn)軸連接。優(yōu)選地，所述鎧裝鉬溫度傳感器為多個，且以預(yù)設(shè)的間隔排列在所述固定桿上。優(yōu)選地，所述可倒式真空基片表面測溫裝置還包括箱體，其上固定所述擺動臂。(三)有益效果在本實(shí)用新型的可倒式真空基片表面測溫裝置中，由于鎧裝鉬溫度傳感器可接觸 待測基片表面因而能夠測量基片被加熱表面的實(shí)際溫度，真實(shí)地反映了基片表面的溫度及 溫度分布狀況。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)的一種基片測溫裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；[0016]圖2為依照本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的可倒式真空基片表面測溫裝置的結(jié)構(gòu)示 意圖及擺動臂的轉(zhuǎn)動角度示意。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型提出的可倒式真空基片表面測溫裝置，結(jié)合附圖和實(shí)施例詳細(xì)說明如 下。如圖2所示，依照本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的可倒式真空基片表面測溫裝置在真 空室內(nèi)使用，基片加熱裝置1安裝在基片2上方，通過熱輻射方式對整個基片2進(jìn)行加熱。 該測溫裝置主要由特制的鎧裝鉬電阻溫度傳感器3、固定桿4、擺動壁5、旋轉(zhuǎn)軸6、旋轉(zhuǎn)氣缸 7、引出電極8和箱體9等組成，各部件之間的關(guān)系是將若干個一端制成螺旋彈簧式的鎧裝 鉬電阻溫度傳感器3按一定間隔排列，用夾子分別將其另一端固定在固定桿4上，固定桿4 與擺動臂5連接，擺動臂5與安裝在旋轉(zhuǎn)氣缸7上的旋轉(zhuǎn)軸6連接，并通過螺栓固定在箱體 9上，整個測溫裝置通過密封件及螺栓被連接在真空室內(nèi)。鎧裝鉬電阻溫度傳感器3是一 種精確、靈敏、穩(wěn)定的溫度傳感器，一端設(shè)有一觸頭，可以接觸各種不同的熱源，主要由感溫 元件鉬電阻絲加絕緣體外包不銹鋼鎧套組成，其工作原理是在溫度的作用下，鉬絲的電阻 隨溫度變化而變化。鎧裝鉬電阻溫度傳感器3直接用銅導(dǎo)線通過引出電極8和儀表(未示 出)相連接，可精確地將溫度的變化轉(zhuǎn)變成電信號的變化而顯示在儀表上。該測溫裝置的工作原理是當(dāng)基片2被加熱時，旋轉(zhuǎn)的基片2表面同一直徑上各 點(diǎn)的溫度是一致的，不同直徑上各點(diǎn)的溫度可能不一樣。當(dāng)要測量基片2表面各點(diǎn)的溫度 時，通過安裝在旋轉(zhuǎn)氣缸7上的旋轉(zhuǎn)軸6帶動擺動臂5向上轉(zhuǎn)動一定角度，這時按一定間隔 排列的測溫觸頭接觸基片2表面，根據(jù)鎧裝鉬電阻溫度傳感器3的上述工作原理，即可從 儀表準(zhǔn)確得知基片2表面各點(diǎn)的實(shí)際溫度值。根據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果，其誤差不超過所測定溫度的 士0.5%，通過計(jì)算可得到整個基片2表面的溫度分布狀況。當(dāng)不需要測量時，可向下轉(zhuǎn)動 擺動臂5以恢復(fù)到原位置。以上實(shí)施方式僅用于說明本實(shí)用新型，而并非對本實(shí)用新型的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng) 域的普通技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和 變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本實(shí)用新型的范疇，本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍應(yīng) 由權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求一種可倒式真空基片表面測溫裝置，包括基片(2)，其特征在于，還包括固定桿(4)，其上固定有鎧裝鉑溫度傳感器(3)，用于控制所述鎧裝鉑電阻溫度傳感器(3)與所述基片(2)的接觸或分離；以及引出電極(8)，與所述鎧裝鉑電阻溫度傳感器(3)相連接。
2.如權(quán)利要求1所述的可倒式真空基片表面測溫裝置，其特征在于，還包括 擺動臂(5)，與所述固定桿(4)相連接；旋轉(zhuǎn)汽缸(7)，與所述擺動臂(5)相連接；以及旋轉(zhuǎn)軸(6)，分別與所述擺動臂(5)和所述旋轉(zhuǎn)汽缸(7)相連接。
3.如權(quán)利要求1所述的可倒式真空基片表面測溫裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)軸(6)安 裝在所述旋轉(zhuǎn)氣缸(7)上。
4.如權(quán)利要求3所述的可倒式真空基片表面測溫裝置，其特征在于，所述擺動臂(5)與 所述旋轉(zhuǎn)軸(6)連接。
5.如權(quán)利要求1所述的可倒式真空基片表面測溫裝置，其特征在于，所述鎧裝鉬溫度 傳感器(3)為多個，且以預(yù)設(shè)的間隔排列在所述固定桿(4)上。
6.如權(quán)利要求1 5之任一項(xiàng)所述的可倒式真空基片表面測溫裝置，其特征在于，還包 括箱體(9)，所述擺動臂(5)固定于所述箱體(9)上。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種可倒式真空基片表面測溫裝置，包括基片(2)，鎧裝鉑電阻溫度傳感器(3)，固定桿(4)，其上固定有所述鎧裝鉑電阻溫度傳感器(3)，用于控制所述鎧裝鉑電阻溫度傳感器(3)與基片接觸或分離；以及引出電極(8)，用于連接所述鎧裝鉑電阻溫度傳感器(3)，將所測得的結(jié)果傳輸?shù)絻x表進(jìn)行顯示。本實(shí)用新型的可倒式真空基片表面測溫裝置能夠測量基片被加熱表面的實(shí)際溫度，真實(shí)地反映了基片表面的溫度及溫度分布狀況。
文檔編號C23C14/00GK201729868SQ20102021685
公開日2011年2月2日 申請日期2010年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月26日
發(fā)明者張鴻年, 李紅然, 謝鈞榮, 韓凌 申請人:北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司