專(zhuān)利名稱(chēng)：一種用于大尺寸基板鍍膜的氣體分配裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種氣體分配裝置，尤其涉及一種用于大尺寸玻璃基板鍍膜的氣 體分配裝置。
背景技術(shù)：
目前，鍍膜領(lǐng)域常用的方法是利用化學(xué)氣相沉積的方法，在大尺寸基板上鍍膜，尤 其是在大尺寸玻璃基板上鍍膜。膜層厚度不均勻性，會(huì)降低鍍膜產(chǎn)品的光學(xué)、電學(xué)等性能 指標(biāo)，要得到均勻的表面膜層，必須使鍍膜前驅(qū)物在整個(gè)基板寬度方向上的分布是均勻的。 為了在大尺寸基板上均勻成膜，有很多的方法被采用，1.采取在氣體通道內(nèi)設(shè)置許多連續(xù) 的擋板，增加氣體的行程和阻力來(lái)達(dá)到氣體在玻璃基板寬度方向上分布均勻，對(duì)鍍膜前質(zhì) 氣體的混合和寬度方向上分布均勻都起到很好的作用，但是增加了氣體在分配裝置內(nèi)的行 程，對(duì)于具有熱敏性的鍍膜前質(zhì)氣體無(wú)疑增加了發(fā)生預(yù)反應(yīng)的可能性。2.采取內(nèi)部設(shè)置多 進(jìn)氣通道和多排氣通道鍍膜裝置，但由于單個(gè)進(jìn)氣通道和排氣通道的鍍膜裝置的均勻性都 很難保證，個(gè)數(shù)越多出現(xiàn)不均勻的可能性越大。3.為了能夠達(dá)到玻璃基板寬度方向上氣體 分布均勻，采用分段補(bǔ)氣的方式，但是這樣的鍍膜氣體分配裝置本身結(jié)構(gòu)過(guò)于復(fù)雜而難以 控制。4.采取的是單根管路單側(cè)進(jìn)氣，通道內(nèi)設(shè)置有氣體分布裝置，這種裝置采取單根管的 單側(cè)進(jìn)氣，很難保證氣體在基板寬度方向上分布均勻。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的就是為了克服現(xiàn)有裝置氣體分布不均勻，預(yù)反應(yīng)不易控制的缺 陷，而提供一種用于大尺寸基板鍍膜的氣體分配裝置。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種用于大尺寸基板鍍膜的氣體分配裝置，其特征在于包括一個(gè)主進(jìn)氣管，主進(jìn) 氣管的兩端通過(guò)相應(yīng)的氣體通道分別與一個(gè)氣體分配管的一端連接，兩個(gè)氣體分配管分別 與Y形匯合通道的兩對(duì)稱(chēng)型腔相連接形成兩上端封閉結(jié)構(gòu)，在Y形匯合通道內(nèi)部的每個(gè)氣 體分配管壁上設(shè)有一組通氣孔與Y形匯合通道的下端型腔相通。主進(jìn)氣管從兩端各分出一根氣體分配管，形成一分為二的結(jié)構(gòu)，兩根氣體分配管 之間具有互補(bǔ)的功能，兩根氣體分配管上均設(shè)有經(jīng)過(guò)優(yōu)化的線性分布通氣孔，使氣體在基 板寬度方向上流量分配均勻，兩根氣體分配管上的通氣孔均斜向下一定的角度，形成相互 交叉的方式，使氣體經(jīng)過(guò)通氣孔出來(lái)在Y形匯合通道內(nèi)匯合。在上述的主要技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，可以增加以下進(jìn)一步完善的技術(shù)方案另設(shè)有一個(gè)溫度控制腔，溫度控制腔與Y形匯合通道下端連接形成封閉空腔，溫 度控制腔上設(shè)有空腔的進(jìn)、出氣管，溫度控制腔內(nèi)可根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)的需要通入不同的循環(huán) 介質(zhì)，使通道內(nèi)的溫度可調(diào)，可有效控制鍍膜前驅(qū)物在到達(dá)基板前發(fā)生預(yù)反應(yīng)。所述的通氣孔的軸線平行于Y形匯合通道相應(yīng)的上端型腔。所述氣體通道具有圓弧過(guò)渡并向相應(yīng)的氣體分配管的遠(yuǎn)端方向延伸。[0011]主進(jìn)氣管平行位于兩氣體分配管的上方。兩氣體分配管的另一端各設(shè)有可拆卸堵頭，可以方便地對(duì)管內(nèi)部進(jìn)行清理。本實(shí)用新型的有益效果是兩根氣體分配管從同一進(jìn)氣管的不同端引入氣體，在分 配上可起到互補(bǔ)的作用，氣體分配管上優(yōu)化的線性分布通氣孔，保證了單根氣體分配管在 基板寬度方向上氣體的均勻分配，使氣體經(jīng)過(guò)通氣孔出來(lái)之后形成Y形匯合，保證了鍍膜 前驅(qū)物成分的均勻性；溫度控制腔內(nèi)可根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)的需要通入不同的循環(huán)介質(zhì)，使Y形 匯氣通道內(nèi)的溫度可調(diào)，可有效控制鍍膜前驅(qū)物在到達(dá)基板前發(fā)生預(yù)反應(yīng)。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。

圖1為本實(shí)用新型的主視圖；圖2為本實(shí)用新型的A-A剖視圖；圖3為本實(shí)用新型的局部俯視圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，一種用于大尺寸基板鍍膜的氣體分配裝置，包括一個(gè)主進(jìn)氣管3，主 進(jìn)氣管3的一端通過(guò)相應(yīng)的圓弧過(guò)渡的氣體通道3a與一個(gè)氣體分配管4的一端連接，主進(jìn) 氣管3的另一端通過(guò)相應(yīng)的圓弧過(guò)渡的氣體通道3b與一個(gè)氣體分配管5的一端連接，兩根 氣體分配管的另一端各設(shè)有可拆卸堵頭，主進(jìn)氣管3平行位于兩氣體分配管的上方，如圖3 所示，兩氣體分配管對(duì)稱(chēng)設(shè)置在主進(jìn)氣管的兩側(cè)，主進(jìn)氣管從兩端各分出一根氣體分配管， 形成一分為二的結(jié)構(gòu)，兩根氣體分配管之間具有互補(bǔ)的功能，每個(gè)氣體分配管與Y形匯合 通道6的兩對(duì)稱(chēng)型腔中任意一個(gè)相連接形成上端封閉結(jié)構(gòu)，在軸向方向上，氣體分配管整 個(gè)管壁與Y形匯合通道6相連接，如圖2所示，在Y形匯合通道6內(nèi)部的每個(gè)氣體分配管壁 上設(shè)有一組通氣孔4a、5a與Y形匯合通道的下端型腔相通，氣體分配管上均設(shè)有經(jīng)過(guò)優(yōu)化 的線性分布通氣孔，通氣孔的軸線平行于Y形匯合通道相應(yīng)的上端型腔，另設(shè)有一個(gè)溫度 控制腔1，溫度控制腔的截面形狀與Y形匯合通道相配合，溫度控制腔下端與Y形匯合通道 下端連接形成封閉空腔并將主進(jìn)氣管與兩氣體分配管固定在空腔內(nèi)，溫度控制腔上設(shè)有空 腔的進(jìn)氣管2a、出氣管2，溫度控制腔內(nèi)可根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)的需要通入不同的循環(huán)介質(zhì)，使通 道內(nèi)的溫度可調(diào)，可有效控制鍍膜前驅(qū)物在到達(dá)基板前發(fā)生預(yù)反應(yīng)。
權(quán)利要求一種用于大尺寸基板鍍膜的氣體分配裝置，其特征在于包括一個(gè)主進(jìn)氣管(3)，主進(jìn)氣管(3)的兩端通過(guò)相應(yīng)的氣體通道(3a、3b)分別與一個(gè)氣體分配管(4、5)的一端連接，兩個(gè)氣體分配管分別與Y形匯合通道(6)的兩對(duì)稱(chēng)型腔相連接形成兩上端封閉結(jié)構(gòu)，在Y形匯合通道(6)內(nèi)部的每個(gè)氣體分配管壁上設(shè)有一組通氣孔(4a、5a)與Y形匯合通道的下端型腔相通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于大尺寸基板鍍膜的氣體分配裝置，其特征在于另 設(shè)有一個(gè)溫度控制腔(1)，溫度控制腔(1)與Y形匯合通道(6)下端連接形成封閉空腔，溫 度控制腔上設(shè)有空腔的進(jìn)氣管(2a)和出氣管(2)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于大尺寸基板鍍膜的氣體分配裝置，其特征在于 所述的通氣孔(4a、5a)的軸線平行于Y形匯合通道相應(yīng)的上端型腔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于大尺寸基板鍍膜的氣體分配裝置，其特征在于所 述氣體通道(3a、3b)具有圓弧過(guò)渡并向相應(yīng)的氣體分配管遠(yuǎn)端方向延伸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于大尺寸基板鍍膜的氣體分配裝置，其特征在于主 進(jìn)氣管(3)平行位于兩氣體分配管(4、5)的上方。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于大尺寸基板鍍膜的氣體分配裝置，其特征在于兩 氣體分配管(4、5)的另一端各設(shè)有可拆卸堵頭。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于大尺寸基板鍍膜的氣體分配裝置，其特征在于包括一個(gè)主進(jìn)氣管(3)，主進(jìn)氣管(3)的兩端通過(guò)相應(yīng)的氣體通道(3a、3b)分別與一個(gè)氣體分配管(4、5)的一端連接，兩個(gè)氣體分配管分別與Y形匯合通道(6)的兩對(duì)稱(chēng)型腔相連接形成兩上端封閉結(jié)構(gòu)，在Y形匯合通道(6)內(nèi)部的每個(gè)氣體分配管壁上設(shè)有一組通氣孔(4a、5a)與Y形匯合通道的下端型腔相通。本實(shí)用新型的有益效果是兩根氣體分配管從同一進(jìn)氣管的不同端引入氣體，在氣體分配上可起到互補(bǔ)的作用，氣體分配管上優(yōu)化的線性分布通氣孔，保證了單根氣體分配管在基板寬度方向上氣體的均勻分配，使氣體經(jīng)過(guò)通氣孔出來(lái)之后形成Y形匯合，保證了鍍膜前驅(qū)物成分的均勻性。
文檔編號(hào)C23C16/455GK201770773SQ201020237298
公開(kāi)日2011年3月23日 申請(qǐng)日期2010年6月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月25日
發(fā)明者張家林, 彭壽, 王東, 王友樂(lè), 甘治平, 石麗芬, 金良茂, 陳凱 申請(qǐng)人:蚌埠玻璃工業(yè)設(shè)計(jì)研究院;中國(guó)建材國(guó)際工程集團(tuán)有限公司