專利名稱：靶材坯料打磨裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型半導(dǎo)體制造行業(yè)中的機(jī)械加工領(lǐng)域，尤其涉及一種靶材坯料打磨裝置。
技術(shù)背景在靶材坯料生產(chǎn)過程中，通常需要對(duì)其進(jìn)行等靜壓處理。等靜壓處理是把被加工 物體放置于盛滿液體的密閉容器中，通過增壓系統(tǒng)進(jìn)行逐步加壓對(duì)被加工物體的各個(gè)表面 施加相等的壓力，使其在不改變外觀形狀的情況下縮小分子間的距離增大密度而改善物質(zhì) 的物理性質(zhì)。通常等靜壓處理之前，靶材坯料只經(jīng)過了粗略的加工，在靶材坯料表面會(huì)有一些 細(xì)小的裂痕，這些裂痕在等靜壓處理過程中，因受到強(qiáng)大的壓力會(huì)導(dǎo)致裂痕擴(kuò)大，致使靶材 坯料形成廢料，造成損失。為避免這種損失，在等靜壓處理前，需要將靶材坯料表面的細(xì)小 裂痕打磨去除，這樣等靜壓處理中，就可以減少靶材的損失。目前，現(xiàn)有的打磨方案是由操 作人員手持小型的電動(dòng)打磨機(jī)，將靶材坯料放在墻角的平臺(tái)上進(jìn)行手動(dòng)打磨。然而，現(xiàn)有的靶材坯料打磨方案中，電動(dòng)打磨機(jī)濺射出的細(xì)小顆粒在撞到墻角后 會(huì)無規(guī)律的反射，這樣會(huì)傷到操作人員和周圍工作的人員；此外濺射出的細(xì)小顆粒會(huì)散落 在周圍的地面，從而造成人員在走動(dòng)中摔傷，同時(shí)會(huì)造成對(duì)環(huán)境的污染。

實(shí)用新型內(nèi)容為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種靶材坯料打磨裝置，以避 免傷到操作人員和周圍工作的人員，并解決濺射出的細(xì)小顆粒會(huì)散落在周圍的地面的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了如下技術(shù)方案一種靶材坯料打磨裝置，包括進(jìn)料口為四邊形的漏斗，漏斗進(jìn)料口相對(duì)的兩邊之間連接有支撐平臺(tái)，漏斗進(jìn)料 口的三個(gè)邊上方分別設(shè)置有立板。優(yōu)選的，所述漏斗的進(jìn)料口為正方形。優(yōu)選的，所述正方形的邊長為1米。優(yōu)選的，所述支撐平臺(tái)由漏斗進(jìn)料口相對(duì)的兩邊之間連接的多個(gè)條形連接件組成；每兩個(gè)相鄰的條形連接件之間存在間隙。優(yōu)選的，所述間隙的寬度為1厘米。優(yōu)選的，[0019]所述立板的長度為1米，寬度為50厘米。優(yōu)選的， 所述漏斗進(jìn)料口的四個(gè)頂點(diǎn)下設(shè)置有支撐件。優(yōu)選的，所述靶材坯料打磨裝置，還包括容器，所述容器連接到漏斗的出料口。應(yīng)用本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的技術(shù)方案，所提供的靶材坯料打磨裝置，通過在 漏斗進(jìn)料口的三個(gè)邊上設(shè)置的立板，能夠有效的阻擋濺射出的顆粒，防止傷到操作人員；通 過設(shè)置的漏斗裝置，能夠及時(shí)的收集濺射出的顆粒，能夠解決濺射出的細(xì)小顆粒散落在周 圍的地面的問題，減小顆粒物對(duì)工作環(huán)境的污染。

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例 或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅 是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提 下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的靶材坯料打磨裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例二提供的支撐平臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例二提供的支撐平臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例三提供的靶材坯料打磨裝置的一種側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)有的靶材坯料打磨方案是由操作人員手持小型的電動(dòng)打磨機(jī)，將靶材坯料放在 墻角的平臺(tái)上進(jìn)行手動(dòng)打磨。在操作過程中，電動(dòng)打磨機(jī)濺射出的細(xì)小顆粒在撞到墻角后 會(huì)無規(guī)律的反射，這樣會(huì)傷到操作人員和周圍工作的人員；此外濺射出的細(xì)小顆粒會(huì)散落 在周圍的地面，從而造成人員在走動(dòng)中摔傷，同時(shí)會(huì)造成對(duì)環(huán)境的污染。為此本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種靶材坯料打磨裝置，包括進(jìn)料口為四邊形的 漏斗，漏斗進(jìn)料口相對(duì)的兩邊之間連接有支撐平臺(tái)，漏斗進(jìn)料口的三個(gè)邊上方分別設(shè)置有 立板。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的靶材坯料打磨裝置，通過在漏斗進(jìn)料口的三個(gè)邊上設(shè)置 的立板，能夠有效的阻擋濺射出的顆粒，防止傷到操作人員；通過設(shè)置的漏斗裝置，能夠及 時(shí)的收集濺射出的顆粒，能夠解決濺射出的細(xì)小顆粒散落在周圍的地面的問題，減小顆粒 物對(duì)工作環(huán)境的污染。下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行 清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的 實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下 所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。實(shí)施例一參見圖1所示，為本實(shí)施例提供的靶材坯料打磨裝置的一種立體結(jié)構(gòu)示意圖，該 裝置具體包括[0036]進(jìn)料口為四邊形的漏斗，漏斗進(jìn)料口相對(duì)的兩邊之間連接有支撐平臺(tái)，漏斗進(jìn)料 口的三個(gè)邊上方分別設(shè)置有立板。如圖1所示，圖標(biāo)101、102、103、和104分別為漏斗進(jìn)料口的四個(gè)邊，圖標(biāo)20所示 為支撐平臺(tái)，圖標(biāo)301、302和303所示為漏斗進(jìn)料口的三個(gè)邊上設(shè)置的立板。其中，漏斗進(jìn)料口上沒有設(shè)置立板的一面為該打磨裝置的操作面，操作人員可以 將靶材坯料固定放置在支撐平臺(tái)20上，支撐平臺(tái)20可以由漏斗進(jìn)料口相對(duì)的兩邊之間連 接的多個(gè)條形連接件201、202、203、204和205組成。操作人員可以通過操作面操作電動(dòng)打 磨機(jī)打磨靶材坯料，這樣打磨過程中濺射出的顆粒，會(huì)被漏斗進(jìn)料口的三個(gè)邊上設(shè)置的立 板所阻擋，能夠有效的保護(hù)操作人員的安全，通過設(shè)置的漏斗主體能夠收集濺射的顆粒，解 決濺射出的細(xì)小顆粒散落在周圍的地面的問題，減小顆粒物對(duì)工作環(huán)境的污染。具體的，所述漏斗的進(jìn)料口為正方形。即圖1中，圖標(biāo)101、102、103、和104所示的 漏斗進(jìn)料口的四個(gè)邊的長度相同，本實(shí)施例提供的打磨裝置中，漏斗的進(jìn)料口的四個(gè)邊的 長度可以為1米。相應(yīng)于所述進(jìn)料口四個(gè)邊的長度，本實(shí)施例中，在進(jìn)料口的三個(gè)邊上設(shè)置的立板 的長度可以為1米。所述立板的高度可以為50厘米。實(shí)施例二如實(shí)施例1中所述的靶材坯料打磨裝置，其中支撐平臺(tái)的主要作用為固定靶材 坯料的位置，方便操作人員進(jìn)行加工，因此所述支撐平臺(tái)可有多種設(shè)置方式，既可以呈橫向 設(shè)置于漏斗的進(jìn)料口相對(duì)的兩個(gè)邊之間，也可以縱向的設(shè)置于漏斗的進(jìn)料口相對(duì)的兩個(gè)邊 之間。如圖2所示，為橫向設(shè)置的一種支撐平臺(tái)結(jié)構(gòu)示意圖，圖標(biāo)10為漏斗進(jìn)料口，圖標(biāo) 20為支撐平臺(tái)，具體可以由漏斗進(jìn)料口相對(duì)的兩邊之間連接的多個(gè)條形連接件201、202、 203,204和205組成，每兩個(gè)相鄰的條形連接件之間存在間隙。如圖3所示，為縱向設(shè)置的一種支撐平臺(tái)結(jié)構(gòu)示意圖，圖標(biāo)10為漏斗進(jìn)料口，圖標(biāo) 20為支撐平臺(tái)。所述支撐平臺(tái)包括兩個(gè)縱向連接于漏斗進(jìn)料口相對(duì)的兩邊之間的連接件 201和202，這兩個(gè)連接件的兩端通過橫向設(shè)置的連接件203和204互相連接，兩個(gè)橫向的 連接件之間縱向的連接有多個(gè)連接件(圖標(biāo)205、206和207)，構(gòu)成了支撐平臺(tái)20。為了使打磨過程中濺射出的顆粒能夠順利的進(jìn)入漏斗中，防止散落，本實(shí)施例提 供的支撐平臺(tái)中，組成支撐平臺(tái)的連接件之間存在間隙，具體的所述間隙的寬度可以為1 厘米。實(shí)施例三本實(shí)用新型實(shí)施例提供的靶材坯料打磨裝置中，為了進(jìn)一步的收集濺射出的細(xì)小 顆粒，解決顆粒散落在周圍的地面的問題，所述靶材坯料打磨裝置還可以包括一個(gè)容器，所 述容器可用于容納顆粒物，漏斗的出料口連接到所述容器中。如圖4所示，為靶材坯料打磨 裝置的一種側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖，圖標(biāo)301所示為漏斗的出料口上一側(cè)的立板，圖標(biāo)105所示為 漏斗的出料口，圖標(biāo)106所示為可容納顆粒物的容器。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的靶材坯料打磨裝置中，所述漏斗進(jìn)料口的四個(gè)頂點(diǎn)下可 以分別設(shè)置有支撐件，如圖4所示，圖標(biāo)401和402所示為所述支撐件，所述支撐件的一端 支撐在地面上，用于支撐整個(gè)打磨裝置，使打磨裝置能夠穩(wěn)定的設(shè)置于工作環(huán)境中。[0049]所述靶材坯料打磨裝置中，三個(gè)立板的上方還可以設(shè)置透明的防護(hù)蓋，所述防護(hù) 蓋與每個(gè)立板均相接觸，以實(shí)現(xiàn)更好的防止顆粒的濺射。此外，還可以將多個(gè)靶材坯料打磨 裝置設(shè)置在一個(gè)平臺(tái)上，相鄰的兩個(gè)靶材坯料打磨裝置可以共用相鄰的立板或支撐件，這 樣能夠節(jié)省材料，并減少對(duì)工作空間的占用。所述靶材坯料打磨裝置中，所述漏斗、支撐平 臺(tái)、立板和支撐件的材質(zhì)都可以為金屬，所述靶材坯料打磨裝置中，可還以設(shè)置用于存放電 動(dòng)打磨機(jī)的組件，以上為本領(lǐng)域技術(shù)人員在本申請(qǐng)的基礎(chǔ)上容易想到的，在此不再贅述。本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的靶材坯料打磨裝置，通過在漏斗進(jìn)料口的三個(gè)邊上設(shè) 置立板，能夠有效的阻擋濺射出的顆粒，防止傷到操作人員；通過設(shè)置的漏斗裝置，能夠及 時(shí)的收集濺射出的顆粒，能夠解決濺射出的細(xì)小顆粒散落在周圍的地面的問題，減小顆粒 物對(duì)工作環(huán)境的污染。本說明書中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他 實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見即可。對(duì)所公開的實(shí)施例的上 述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本申請(qǐng)。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng) 域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本申請(qǐng)的 精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本申請(qǐng)將不會(huì)被限制于本文所示的這些 實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
權(quán)利要求1.一種靶材坯料打磨裝置，其特征在于，包括進(jìn)料口為四邊形的漏斗，漏斗進(jìn)料口相對(duì)的兩邊之間連接有支撐平臺(tái)，漏斗進(jìn)料口的 三個(gè)邊上方分別設(shè)置有立板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于 所述漏斗的進(jìn)料口為正方形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于 所述正方形的邊長為1米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于所述支撐平臺(tái)由漏斗進(jìn)料口相對(duì)的兩邊之間連接的多個(gè)條形連接件組成； 每兩個(gè)相鄰的條形連接件之間存在間隙。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于 所述間隙的寬度為1厘米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于 所述立板的長度為1米，寬度為50厘米。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于 所述漏斗進(jìn)料口的四個(gè)頂點(diǎn)下設(shè)置有支撐件。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括 容器，所述容器連接到漏斗的出料口。
專利摘要本實(shí)用新型實(shí)施例公開了一種靶材坯料打磨裝置，包括進(jìn)料口為四邊形的漏斗，漏斗進(jìn)料口相對(duì)的兩邊之間連接有支撐平臺(tái)，漏斗進(jìn)料口的三個(gè)邊上方分別設(shè)置有立板。本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的靶材坯料打磨裝置中，通過在漏斗進(jìn)料口的三個(gè)邊上設(shè)置的立板，能夠有效的阻擋濺射出的顆粒，防止傷到操作人員；通過設(shè)置的漏斗裝置，能夠及時(shí)的收集濺射出的顆粒，能夠解決濺射出的細(xì)小顆粒散落在周圍的地面的問題，減小顆粒物對(duì)工作環(huán)境的污染。
文檔編號(hào)B24B19/00GK201872049SQ20102058967
公開日2011年6月22日 申請(qǐng)日期2010年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月29日
發(fā)明者周偉君, 姚力軍, 潘杰, 王學(xué)澤 申請(qǐng)人:寧波江豐電子材料有限公司