專利名稱：具有通過多個涂層形成的基本上連續(xù)的阻擋層的絕緣傳導(dǎo)元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明主要涉及涂覆的傳導(dǎo)元件，并且更具體地涉及一種包括通過多個涂層形成的基本上連續(xù)的阻擋層的絕緣傳導(dǎo)元件。
背景技術(shù)：
使用醫(yī)療設(shè)備針對各種醫(yī)療疾病向個體提供治療已經(jīng)變得普及，因為這樣的設(shè)備的治療益處變得更廣受人們認(rèn)可和接受。例如助聽器、可植入起搏器、去纖顫器、功能電刺激設(shè)備、修復(fù)聽力設(shè)備、器官輔助和替換設(shè)備、傳感器、送藥設(shè)備和其它醫(yī)療設(shè)備已經(jīng)為許多個體成功實現(xiàn)生命挽救、生活方式改善或者其它治療功能。醫(yī)療設(shè)備的一種常見用途是治愈個體的聽力損失?？赡軞w因于許多不同原因的聽力損失一般為傳導(dǎo)和感覺神經(jīng)這兩個類型。在一些情形下，個人受這兩類的聽力損失困擾。當(dāng)用于聲音到達耳蝸的正常機械通路例如由于聽小骨損傷而受阻時，出現(xiàn)傳導(dǎo)聽力損失。受傳導(dǎo)聽力損失困擾的個體通常具有某一形式的殘余聽力，因為耳蝸中的聽毛細(xì)胞未受損。因而，受傳導(dǎo)聽力損失困擾的個體通常接收生成耳蝸流體的機械運動的聽力修復(fù)器。然而在深度耳聾的許多人中，他們耳聾的原因是感覺神經(jīng)聽力損失。當(dāng)內(nèi)耳或者從內(nèi)耳到腦部的神經(jīng)通路有損傷時，出現(xiàn)感覺神經(jīng)聽力損失。就此而言，受感覺神經(jīng)聽力損失困擾的許多個體因此不能從生成耳蝸流體的機械運動的聽力修復(fù)器得到適當(dāng)益處。因而，已經(jīng)開發(fā)向接收者的聽覺系統(tǒng)的神經(jīng)細(xì)胞遞送電刺激的聽力修復(fù)器。這樣的電刺激聽力修復(fù)器向接收者的聽覺系統(tǒng)的神經(jīng)細(xì)胞遞送電刺激、由此向接收者提供聽力感知。電刺激聽力修復(fù)器例如包括聽覺腦部刺激器和耳蝸修復(fù)器(常稱為耳蝸修復(fù)設(shè)備、耳蝸植入物、耳蝸設(shè)備等；這里簡稱為“耳蝸植入物”)。感覺神經(jīng)聽力損失經(jīng)常歸因于缺乏或者破壞將聲信號轉(zhuǎn)化成神經(jīng)沖動的耳蝸聽毛細(xì)胞。耳蝸植入物通過向聽覺神經(jīng)細(xì)胞直接遞送電刺激信號來向接收者提供聽力感知， 由此繞道缺乏或者有缺陷的、將聲振動正常轉(zhuǎn)化成神經(jīng)活動的聽毛細(xì)胞。這樣的設(shè)備一般使用耳蝸中植入的刺激組件，從而電極可以有差別地激活對聲音的差別音調(diào)正常編碼的聽覺神經(jīng)元。如本領(lǐng)域中所知，刺激組件包括多個電極接觸，每個電極接觸經(jīng)由伸長的傳導(dǎo)元件(比如接線)各自地電連接到刺激器單元。在實踐中，為了電和物理絕緣、鈍化、生物兼容性和固定微觀顆粒中的一項或者多項而向傳導(dǎo)元件的表面涂敷涂層。

發(fā)明內(nèi)容
在本發(fā)明的一個方面中，提供一種向伸長的、未涂覆的傳導(dǎo)元件涂覆基本上連續(xù)的阻擋層的方法。該方法包括在多個間隔桿的周圍纏繞未涂覆的傳導(dǎo)元件，從而傳導(dǎo)元件的每匝接觸該桿；在傳導(dǎo)元件上沉積阻擋材料以形成其中具有未涂覆的間隙的中間層；在沉積中間層之后相對于框移動涂覆的傳導(dǎo)元件，從而未涂覆的間隙不與桿接觸；在傳導(dǎo)元件上沉積阻擋材料以形成基本上連續(xù)的阻擋層；并且從框解開傳導(dǎo)元件。在本發(fā)明的另一方面中，提供一種向伸長的、未涂覆的傳導(dǎo)元件涂覆基本上連續(xù)的阻擋層的方法。該方法包括在多個間隔桿的周圍纏繞未涂覆的傳導(dǎo)元件，從而傳導(dǎo)元件的每匝接觸該桿；在傳導(dǎo)元件上沉積阻擋材料以形成其中具有未涂覆的間隙的中間層；從第一框向包括多個間隔桿的第二框傳送涂覆的傳導(dǎo)元件，從而未涂覆的間隙不與第二框的桿接觸；在傳導(dǎo)元件上沉積阻擋材料以形成基本上連續(xù)的阻擋層；并且從框解開涂覆的傳導(dǎo)元件。


下面參照所附附圖描述本發(fā)明的一些實施例，附圖中圖I是常規(guī)蒸汽沉積裝置的簡化示意圖；圖2A是常規(guī)涂覆框在常規(guī)化學(xué)沉積工藝期間的透視圖，該涂覆框具有用帶固著到它的接線；圖2B是圖2A的現(xiàn)有技術(shù)涂覆框和接線布置的分段的橫截面展開圖；圖2C是從圖2A和圖2B的涂覆框移除的兩個單獨的現(xiàn)有技術(shù)的涂覆的接線的橫截面?zhèn)纫晥D；圖3A是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框的透視圖；圖3B是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的圖3A的涂覆框的透視圖，該涂覆框具有纏繞于它周圍的接線；圖3C是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的圖3A和圖3B的涂敷框桿的橫截面圖，該桿具有與它接觸的接線；圖3D是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆的接線在從涂覆框移除之前的橫截面?zhèn)纫晥D；圖3E是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆的接線在從涂覆框移除接線之后的側(cè)視圖；圖3F是圖3E的涂覆的接線沿著橫截面線3F-3F得到的橫截面?zhèn)纫晥D；圖4是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的可以用來在涂敷框周圍纏繞接線的接線纏繞系統(tǒng)的示意框圖；圖5是圖示了根據(jù)本發(fā)明一些實施例的為了形成伸長的傳導(dǎo)元件而執(zhí)行的操作的流程圖；圖6A是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框的透視6B是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框的透視6C是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框的透視6D是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框的透視圖
圖6E是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框的透視圖；圖7A是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框桿的分段的透視圖；圖7B是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框桿的分段的透視圖；圖7C是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框桿的分段的透視圖；圖7D是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框桿的分段的透視圖；圖8是圖示了根據(jù)本發(fā)明一些實施例的為了形成伸長的傳導(dǎo)元件而執(zhí)行的操作 的流程圖；圖9A是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的連接到涂覆框驅(qū)動系統(tǒng)的涂覆框的透視圖；圖9B是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的連接到彈簧的圖9A的涂覆框的側(cè)視圖；圖9C是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的圖9A的一對支撐臂和涂覆框桿的側(cè)視圖；圖10是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的沉積室的剖視圖，該沉積室中具有圖9A的涂覆 框；圖11是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的可展開涂覆框的俯視圖；圖12是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框的一部分的局部透視圖，該部分具有凹
陷的接線支撐區(qū)域；圖13A是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框的透視圖；圖13B是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框的透視圖；圖13C是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框的透視圖；圖13D是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框的透視圖；圖14是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的涂覆框桿的側(cè)視圖；圖15A是包括多個獨立可旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的備選涂覆框的透視圖；圖15B是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的可旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的俯視圖；圖15C是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的可旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的俯視圖；圖16是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的連續(xù)蒸汽沉積裝置的示意框圖17是圖示了根據(jù)本發(fā)明一些實施例的圖16的連續(xù)化學(xué)沉積裝置的進一步細(xì)節(jié)
的不意圖；圖18A是圖17的連續(xù)蒸汽沉積裝置的傳導(dǎo)元件供應(yīng)系統(tǒng)的一個實施例的具體示 意圖；圖18B是圖17的連續(xù)蒸汽沉積裝置的傳導(dǎo)元件收集系統(tǒng)的一個實施例的具體示 意圖；圖19A是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的內(nèi)部沉積室的橫截面圖，該沉積室具有經(jīng)過它 延伸的接線；圖19B是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的內(nèi)部沉積室的橫截面圖，該沉積室具有經(jīng)過它 延伸的接線；圖19C是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的內(nèi)部沉積室的橫截面圖，該沉積室具有經(jīng)過它 延伸的接線；圖19D是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的內(nèi)部沉積室的橫截面圖，該沉積室具有經(jīng)過它 延伸的接線； 圖19E是在圖16的連續(xù)蒸汽沉積裝置的一些實施例中使用的桿和支撐臂的一個實施例的側(cè)視圖；圖20是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的連續(xù)蒸汽沉積裝置的更多實施例的示意圖；圖21是圖示了根據(jù)本發(fā)明一些實施例的為了使用連續(xù)蒸汽沉積裝置來形成伸長的傳導(dǎo)元件而執(zhí)行的操作的流程圖；圖22A是圖示了根據(jù)本發(fā)明一些實施例的為了使用接線相對于涂覆框的移動來形成伸長的傳導(dǎo)元件而執(zhí)行的操作的流程圖；圖22B是圖示了根據(jù)本發(fā)明一些實施例的為了使用接線從第一涂覆框到第二涂覆框的移動來形成伸長的傳導(dǎo)元件而執(zhí)行的操作的流程圖；圖23A是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的由中間層涂覆的接線的橫截面圖；圖23B是根據(jù)本發(fā)明一些實施例的由阻擋層涂覆的涂覆接線的側(cè)視圖；圖24A是用于從第一涂覆框向第二涂覆框傳送局部涂覆的接線的接線引導(dǎo)系統(tǒng)的透視圖；并且圖24B是用于從第一涂覆框向第二涂覆框傳送局部涂覆的接線的接線引導(dǎo)系統(tǒng)的透視圖。
具體實施例方式常規(guī)地，蒸汽沉積通常指代其中凝結(jié)處于蒸汽狀態(tài)的材料以形成固體材料的工藝。一般劃分為兩大類別(稱為物理蒸汽沉積(PVD)和化學(xué)蒸汽沉積(CVD))的蒸汽沉積常用來在物體上形成涂層。提供這樣的涂層以例如變更物體的機械、電、熱、光學(xué)、耐蝕和/ 或耐磨性質(zhì)。如下文具體描述的那樣，本發(fā)明的一些實施例主要涉及使用蒸汽沉積向伸長的傳導(dǎo)元件涂覆保護阻擋層?？梢猿鲇诙喾N原因(包括提供電絕緣、生物兼容性、固定微觀顆粒和確保傳導(dǎo)元件鈍化以及提供傳導(dǎo)元件對濕氣、化學(xué)物和其它物質(zhì)隔離)向傳導(dǎo)元件涂敷阻擋層。如這里使用的那樣，如下傳導(dǎo)元件稱為絕緣傳導(dǎo)元件該傳導(dǎo)元件具有根據(jù)本發(fā)明一些實施例的在其表面上設(shè)置的阻擋層。在本發(fā)明的一些具體實施例中，第一基本上連續(xù)的阻擋層形成于未涂覆的伸長的傳導(dǎo)元件上。該第一層稱為中間層并且具有由未涂覆的間隙分離的涂覆的分段。在沉積該中間層之后，相對于涂覆框移動傳導(dǎo)元件，從而暴露未涂覆的間隙。阻擋材料然后沉積于涂覆的傳導(dǎo)元件上以形成基本上連續(xù)的阻擋層。該第二阻擋材料涂層這里稱為副層。下文提供這一實施例的進一步細(xì)節(jié)。在某些實施例中，阻擋層為聚合材料。在一個具體實施例中，阻擋層為聚對二甲苯 (parylene)。聚對二甲苯是用于多種蒸汽沉積的聚對苯二甲基的通稱。這些材料形成可以涂敷為保形涂層和膜的高晶態(tài)聚合物。不同于其它聚合材料，聚對二甲苯不作為聚合物來制造或者銷售。實際上，通過氣相沉積和聚合對苯二甲基或者其衍生物來生產(chǎn)它。存在聚對二甲苯的多種衍生物和異構(gòu)體。最常見變體包括聚對二甲苯C、聚對二甲苯N和聚對二甲苯D。將理解其它聚對二甲苯變體也在商業(yè)上可用。圖I是常規(guī)蒸汽沉積裝置150的簡化示意圖。蒸汽沉積裝置150包括配置成向沉積室104供應(yīng)必需蒸汽材料的蒸汽供應(yīng)系統(tǒng)106。在圖I中所示的系統(tǒng)中，蒸汽供應(yīng)系統(tǒng) 106包括汽化室100，該汽化室100汽化經(jīng)由可閉合的孔110插入于其中的某一數(shù)量的二聚物。如本領(lǐng)域中所知，二聚物是由多個鍵合單體構(gòu)成的化學(xué)或者生物物質(zhì)。蒸汽供應(yīng)系統(tǒng)106也包括由供應(yīng)線路154連接到汽化室100的熱解室102。線路 154具有閥112，該閥112控制汽化的二聚物從汽化室100流向熱解室102。一旦傳送到熱解室102，汽化的二聚物在近似400攝氏度至750攝氏度的溫度下熱解以形成所需單體蒸汽。經(jīng)由供應(yīng)線路156從熱解室102向沉積室104中傳送單體蒸汽。供應(yīng)線路156也包括控制蒸汽流入沉積室104中的控制閥114。在沉積和凝結(jié)之后，經(jīng)由退出線路158從沉積室104移除殘余的蒸汽。退出線路 158連接到用于迅速凝結(jié)和聚合任何殘留蒸汽的冷阱118。蒸汽泵108經(jīng)由真空線路152 連接到冷阱118并且在沉積室104和冷阱118內(nèi)維持連續(xù)的負(fù)壓。常規(guī)蒸汽沉積系統(tǒng)和裝置在本領(lǐng)域中已知。就此而言，這里將不提供蒸汽沉積裝置150的進一步細(xì)節(jié)。蒸汽沉積裝置可以用來涂覆各種不同類型的物體(包括可植入醫(yī)療設(shè)備(比如耳蝸植入物)的部件)。如本領(lǐng)域中所知的那樣，耳蝸植入物包括可植入于接收者的耳蝸中的刺激電極組件。刺激電極組件包括經(jīng)由伸長的傳導(dǎo)元件(比如接線)單獨地電連接到刺激器單元的多個電極接觸。將電極接觸連接到刺激器單元的接線電絕緣，從而接線可以捆扎在一起用于植入而無電干擾。在一個具體例子中，蒸汽沉積工藝用來涂覆將電極連接到耳蝸植入物的刺激器單元的接線。圖2A-圖2B圖示了用于生產(chǎn)涂覆的接線的常規(guī)蒸汽沉積工藝，而圖2C圖示了作為圖2A和圖2B的常規(guī)工藝的結(jié)果而獲得的兩個單獨接線。在圖2A和圖2B的常規(guī)接線涂覆工藝期間，接線222纏繞于矩形涂覆框220的相對側(cè)的周圍。如圖2A中所示，涂覆框220包括焊接在一起以形成矩形形狀的四個條或者桿。 涂覆框220的相對側(cè)具有固著到其表面的雙面帶224。圖2B是圖2A的標(biāo)注為圖2B的分段的展開圖。如圖2B中所示，當(dāng)接線222纏繞于涂覆框220周圍時，接線與帶224的粘合表面接觸定位。因此，帶224將接線222粘附到涂覆框220的相對側(cè)、由此防止接線222的任何移動。在接線222固著到涂覆框220之后，涂覆框可以定位于用于沉積涂層的沉積室中， 該沉積室比如蒸汽沉積裝置150的沉積室104。在沉積涂層之后，從沉積室移除涂覆框220， 并且離散接線由接線222的涂覆部分形成。更具體而言，由于接線222使用帶224來固著到涂覆框220，所以不損壞接線就不能從帶移除接線，或者由于涂層越過帶/接線邊界225 延伸，所以移除帶也移除涂層的在接線222上的部分。因此僅可以利用接線的在兩個相鄰帶分段之間的那些部分。這需要從接線222的、在涂覆框220的相對側(cè)之間延伸的部分切割圖2C中所示的涂覆的接線222的離散的物理上分離的分段。在某些境況中，在每個帶/ 接線邊界225處或其附近切割纏繞的接線222，并且纏繞的接線的每匝形成兩個分離的涂覆的分段。如圖2C中的橫截面圖中所示，涂覆的接線222的分離分段具有由一層涂層226基本上包圍的傳導(dǎo)芯?？梢栽谏a(chǎn)常規(guī)耳蝸植入物和其它醫(yī)療設(shè)備時使用以上述工藝生產(chǎn)的涂覆的接線的離散分段本發(fā)明的某些實施例主要涉及生產(chǎn)鄰接長度的涂覆的傳導(dǎo)元件(這里稱為絕緣傳導(dǎo)元件)，該傳導(dǎo)元件包括由未涂覆的間隙分離的基本上連續(xù)涂覆的分段。未涂覆的間隙形成于基本上可預(yù)測或者可確定位置，并且具有相對于涂覆的分段的長度而言明顯小的長度。本發(fā)明的某些實施例涉及使用蒸汽沉積以形成伸長的絕緣傳導(dǎo)元件。圖3A和圖3B圖示了可以用來形成這樣的絕緣傳導(dǎo)元件的涂覆框330。涂覆框330可以由如下的任何材料形成，該材料具有用于在受到下文描述的操作時維持所需形狀的充分強度。在一些具體實施例中，涂覆框330由不銹鋼材料形成?？梢栽诒景l(fā)明的一些實施例中利用的伸長的傳導(dǎo)元件包括但不限于單或者多股接線、傳導(dǎo)帶、墊片或者碳納米管(CNT)紗線等。在某些實施例中，伸長的傳導(dǎo)元件具有所需數(shù)量的延展度。另外，在本發(fā)明的一些實施例中利用的伸長的傳導(dǎo)元件可以具有變化的長度。在本發(fā)明的一些實施例中，傳導(dǎo)元件具有近似1-100米的長度，并且在一些具體實施例中，傳導(dǎo)元件具有近似5-10米的長度。將理解也可以利用其它長度。為了易于說明，這里將主要參照單股接線332描述本發(fā)明的一些實施例。在圖3A和圖3B的實施例中，涂覆框330包括兩個基本上平行的基部320和在基部之間延伸的多個基本上平行的間隔桿334。在圖3A和圖3B的示例實施例中，基部320的形狀均為六邊形并且基部320包括相互接合以形成頂點341的六個構(gòu)件318。桿334在基部320的相對的頂點341之間延伸。因此，由圖3A中的尺度線301所示的、在相鄰桿334 之間的距離等于在相鄰桿334所附著到的相鄰的頂點341之間的基部構(gòu)件318的長度。如圖3B中所示，未涂覆的接線332在桿334周圍纏繞成多個匝331。如下文更具體描述的那樣，接線332在張力之下纏繞，從而纏繞的接線并不相對于涂覆框330移動并且在后續(xù)沉積期間保持基本上靜止。圖3C是與桿334之一接觸定位的接線332的分段的俯視圖。如圖所示，每個匝331 接觸每個桿334持續(xù)這里稱為接線/桿接觸長度353或者簡稱為接觸長度353的長度。由于桿334具有圓柱體形狀，所以在桿334與接線332之間的接觸長度353遵循與桿334的表面的部分對應(yīng)的角度316限定的弧。如下文描述的那樣，在桿334與接線332之間的接觸長度353可以例如根據(jù)桿334的形狀而變化。將理解在桿334與接線332之間的接觸長度也可以例如根據(jù)周圍纏繞有該接線的涂覆框330內(nèi)的桿334的數(shù)目、在桿334之間的距離等而變化。無論桿334的數(shù)目等如何， 在接線332與桿334之間的接觸長度相對于在涂覆框332的相鄰桿334之間的距離而言明實質(zhì)上小。如上文所言，在接線332穩(wěn)固地纏繞于涂覆框320周圍并且經(jīng)由接線張力固著到涂覆框320之后，涂覆框330定位于用于在接線332上沉積阻擋材料的沉積室(比如蒸汽沉積裝置150的沉積室104(圖I))中。圖3D是圖3C中所示的桿334和接線332的分段側(cè)視圖。在圖3D的實施例中，在橫截面中示出了接線332和阻擋層336。為了易于圖示，在圖3D的實施例中，未按比例示出接線332和阻擋層336。將理解阻擋層336的厚度可以變化。在某些實施例中，接線332可以具有近似 5-100微米的直徑，并且阻擋層336可以具有近似3-10微米的厚度。在一些具體實施例中， 接線可以具有10-30微米的直徑，并且阻擋層336可以具有近似5-7微米的厚度。如圖3D中所示，在接線332上沉積阻擋材料形成阻擋層336，該阻擋層336基本上覆蓋接線332的不與桿334直接接觸的表面。由于接線332在張力之下纏繞而無需附加固定元件，所以張力的釋放允許將接線322作為單一鄰接元件(稱為絕緣傳導(dǎo)元件360)從涂覆框332解開。在圖3E中示出了絕緣傳導(dǎo)元件360的分段的側(cè)視圖，并且在圖3F中示出了絕緣傳導(dǎo)元件360的沿著圖3E中所示橫截面線3F-3F得到的橫截面圖。如圖3E中所示，解開的絕緣傳導(dǎo)元件360包括由未涂覆的間隙338分離的多個涂覆的分段339。為了易于圖示，已經(jīng)從圖3F省略每個涂覆的分段339的一些部分。涂覆的分段339的長度近似等于在上文參照圖3C描述的相鄰桿334之間的距離301，并且未涂覆的間隙的長度近似等于在桿334與接線332之間的接觸長度。將理解這些長度可以變化， 但是未涂覆的間隙339的長度實質(zhì)上小于涂覆的分段339的長度。也如上文所言，涂覆的分段339的長度一般對應(yīng)于在相鄰桿334之間的距離301。 因此，間隙338 —般形成于可預(yù)測或者可確定的位置。由于間隙338形成于可預(yù)測或者可確定的位置，所以可以在后續(xù)加工期間管理間隙。將理解尚未按比例繪制圖3A-圖3F的實施例。也將理解可以在本發(fā)明的一些實施例中實施傳導(dǎo)元件的各種尺寸和形狀、阻擋層336的厚度以及各種間隙338和涂覆的分段339。在一個示例實施例中，具有25微米直徑的接線由平均厚度近似為3-10微米的阻擋層覆蓋。在這樣的實施例中，未涂覆的間隙可以具有近似2-5毫米的長度，并且涂覆的分段可以具有200-300微米的長度。在一些具體實施例中，未涂覆的間隙可以具有2. 5毫米的長度，并且涂覆的分段可以具有近似250毫米的長度。如上文所言，接線332在張力之下纏繞于涂覆框330周圍。在某些實施例中，接線 332可以人工纏繞于涂覆框332周圍。如這里使用的那樣，接線332的人工纏繞包括使用有助于纏繞的一個或者多個工具(跳汰(jigging)等)。在一些備選實施例中，接線332可以使用纏繞系統(tǒng)(比如圖4中所示的纏繞系統(tǒng)490)來纏繞于涂覆框330周圍。如圖4中所示，纏繞系統(tǒng)490包括從線軸476向涂覆框330傳送接線332的節(jié)距控制系統(tǒng)478和張力器480。將理解纏繞系統(tǒng)490也可以用來從涂覆框330向線軸476傳送接線332。在圖4的實施例中，節(jié)距控制系統(tǒng)478將來自線軸476的接線的節(jié)距轉(zhuǎn)換成用于向涂覆框330上纏繞的節(jié)距。張力器480控制接線332在它纏繞于涂覆框330周圍時的張力。張力器330被配置成確保不在將損壞或者斷裂接線332的張力之下放置接線332，而是以使得接線在沉積期間保持基本上靜止的充分張力來放置接線332。如圖4中所示，纏繞系統(tǒng)490包括系統(tǒng)驅(qū)動部件474，其包括分別電和/或機械控制線軸476、節(jié)距控制系統(tǒng)478和涂覆框330的移動或操作的線軸驅(qū)動474A、節(jié)距控制474B 和涂覆框驅(qū)動474C。線軸驅(qū)動474A、節(jié)距控制474B和涂覆框驅(qū)動474C從控制模塊470接收控制信號。張力器480機械控制接線332的張力并且從控制模塊470直接接收控制信號。 如圖所示，控制模塊470包括用戶接口 472。圖5是圖示了本發(fā)明的用于向伸長的、未涂覆的傳導(dǎo)元件涂覆阻擋層以形成本發(fā)明的絕緣傳導(dǎo)元件的過程500的流程圖。絕緣傳導(dǎo)元件包括由相對于涂覆的分段的長度而言實質(zhì)上小的未涂覆的間隙分離的基本上連續(xù)涂覆的伸長的分段。過程500始于塊502，其中未涂覆的伸長的傳導(dǎo)元件在張力之下纏繞于多個間隔的、基本上平行的桿，從而傳導(dǎo)元件的每個匝接觸涂覆框的至少兩個桿。過程500在塊504 處繼續(xù)，其中阻擋材料沉積于傳導(dǎo)元件上以在傳導(dǎo)元件的不與桿接觸的表面上形成阻擋層。在塊506處，從涂覆框解開傳導(dǎo)元件。傳導(dǎo)元件的、在沉積期間不與桿接觸的表面形成未涂覆的間隙，而傳導(dǎo)元件的、在桿之間的分段形成絕緣傳導(dǎo)元件的涂覆的分段。如上文描述的那樣，已經(jīng)主要參照涂覆框330描述圖3A-圖3F的實施例，該涂覆框330包括在基本上平行基部320之間延伸的多個間隔桿334。將理解，也可以在本發(fā)明的實施例中實施備選的涂覆框。圖6A-圖6E圖示了一些備選的具體實施例。在圖6A的實施例中，涂覆框630A具有分別包括單個伸長的構(gòu)件的相對基部620A。 兩個基本上平行的桿634在基部620A的相對邊之間延伸。因此，在這一實施例中，涂覆框 630A具有基本上平面的形狀。圖6B圖示了本發(fā)明的涂覆框的另一實施例，其中涂覆框630B具有相對的基部 620B,每個基部包括布置成三角形配置的三個伸長的構(gòu)件。三個基本上平行的桿634在基部620B的相對的頂點641之間延伸。另外，在圖6C的實施例中，涂覆框630C具有相對的基部620C，每個基部包括在矩形配置中布置的四個伸長的構(gòu)件。四個基本上平行的桿634在基部620C的相對的頂點643 之間延伸。圖6D圖示了更多的實施例，其中涂覆框630D具有相對的基部620D，每個基部包括在五邊形配置中布置的五個伸長的構(gòu)件。五個基本上平行的桿634在基部620D的相反頂點645之間延伸。在圖6E的實施例中，涂覆框630E具有相對的基部620E，每個基部包括在八邊形配置中布置的八個伸長的構(gòu)件。八個基本上平行的桿634在基部620E的相對的頂點647之間延伸。如上文所言，圖6A-圖6E圖示了一些實施例，其中涂覆框630分別包括兩個、三個、四個、五個和八個基本上平行的桿634。將理解可以在本發(fā)明的實施例中實施在多種位置布置的更大數(shù)目的桿。因此，上述實施例將視為示例而未限制本發(fā)明。也將理解基部620 不限于使用布置的伸長的構(gòu)件而可以例如由諸如金屬片、塑料片等平面元件形成。已經(jīng)主要參照具有基本上圓形橫截面形狀的管形桿說明本發(fā)明的上述方面。具有備選橫截面形狀的桿也可以用來維持桿的強度而又使在接線與桿之間的接觸長度最小。 如上文描述的那樣，使在接線與桿之間的接觸長度最小使形成于阻擋層中的間隙最小。圖 7A-圖7D圖示了具有不同橫截面形狀的具體備選桿。具體而言，圖7A圖示了具有橢圓形橫截面形狀的桿734A。在這樣的實施例中，桿734將定位于涂覆框內(nèi)，從而在它周圍纏繞的接線與定位于橢圓形的長軸上的末端735之一接觸。圖7B圖示了另一備選實施例，其中桿734B具有大體上矩形的橫截面形狀。在這樣的實施例中，桿734B定位于涂覆框中，從而接線在桿734B的圓化頂點737處接觸桿734B。 頂點737具有如下曲率半徑，該曲率半徑確保頂點737沒有可能潛在損壞與之接觸的接線的銳邊。圖7C圖示了又一實施例，其中桿734C具有從長圓狀部分742延伸的三角形部分 744。桿734C定位于涂覆框中，從而接線在三角形部分744的圓化頂點737處接觸桿734C。圖7D圖示了又一實施例，其中桿734D具有波浪形表面746，該表面包括多個圓化突起748。當(dāng)定位于涂覆框內(nèi)時，纏繞的接線接觸一個或者多個圓化突起748。如上文所言， 本發(fā)明的實施例涉及形成絕緣的傳導(dǎo)元件，該元件包括由相對于涂覆的分段的長度而言實質(zhì)上小的未涂覆的間隙分離的基本上連續(xù)涂覆的伸長的分段。在圖7D的實施例中，當(dāng)接線接觸兩個或者多個圓化突起748時，間隙在接線與第一圓化突起748接觸的位置與接線在延伸到后續(xù)桿之前與最后圓化突起748接觸的點之間延伸。由于接線在圓化突起之間與桿 734D分離，所以涂層分段可以形成于間隙內(nèi)。如這里使用的那樣，其中具有涂覆的分段的間隙(比如使用桿734D來形成的間隙)稱為未涂覆的間隙。如上文所言，本發(fā)明的上述某些實施例主要涉及形成具有阻擋層的絕緣傳導(dǎo)元件，該阻擋層包括由未涂覆的間隙分離的基本上連續(xù)涂覆的分段。未涂覆的間隙具有相對于涂覆的分段的長度而言實質(zhì)上小的長度。在本發(fā)明的某些上述實施例中，未涂覆的間隙一般設(shè)置有已知長度，從而產(chǎn)生已知長度的涂覆的分段。另外如這里使用的那樣，基本上連續(xù)分段是指向不與涂覆框接觸的那些表面涂敷的連續(xù)涂層，該涂層可以包括由于蒸汽沉積工藝或者后續(xù)使用的可變性而造成的較小缺陷。下文描述的本發(fā)明的更多實施例主要涉及形成絕緣傳導(dǎo)元件，該元件具有沿著其長度延伸的基本上連續(xù)的阻擋層。與上文描述的實施例相似，基本上連續(xù)的阻擋層是指向傳導(dǎo)元件的長度涂敷的連續(xù)涂層，該涂層可以包括由于蒸汽沉積工藝或者后續(xù)使用的可變性而造成的較小缺陷。圖8圖示了向伸長的、未涂覆的傳導(dǎo)元件涂覆基本上連續(xù)的阻擋層的第一方法 800。該方法始于塊802，其中未涂覆的傳導(dǎo)元件纏繞于涂覆框周圍。涂覆框包括多個間隔支撐件，并且傳導(dǎo)元件纏繞于涂覆框周圍，從而傳導(dǎo)元件的分段與支撐件接觸定位。該方法始于塊804，其中阻擋材料沉積于傳導(dǎo)元件上。在塊806處，在沉積阻擋材料期間，調(diào)節(jié)傳導(dǎo)元件相對于涂覆框的位置，從而傳導(dǎo)元件的基本上所有分段與支撐件物理上分離持續(xù)足以形成基本上連續(xù)的阻擋層的時間。換言之，傳導(dǎo)元件和涂覆框中的至少一個在沉積期間相對于另一個移動。這一相對移動造成暴露傳導(dǎo)元件的每個分段用于由阻擋材料涂覆。在塊808處，從涂覆框解開絕緣傳導(dǎo)元件。圖9A-圖15圖示了可以用來在圖8的方法期間相對于涂覆框移動傳導(dǎo)元件的各種裝置。為了易于描述，將參照形式為單股接線的傳導(dǎo)元件描述圖9A-圖15。將理解也可以在本發(fā)明的這些實施例中利用諸如多股接線、傳導(dǎo)帶、墊片或者碳納米管(CNT)紗線等其它類型的傳導(dǎo)元件。圖9A是可以在本發(fā)明的一些實施例中實施的涂覆框930的透視圖。如圖所示，涂覆框930包括相對的基部920，基部920具有在它們之間延伸的基本上平行的桿934。多個伸長的間隔徑向支撐臂938從桿934延伸。接線932可以松弛地纏繞于涂覆框930周圍， 從而接線由支撐臂938的伸長的表面支撐。如上文所言，阻擋層沉積于接線932上以形成絕緣傳導(dǎo)元件。阻擋層可以通過使用蒸汽沉積裝置(比如圖I的裝置150)來沉積于接線932上。圖9A圖示了涂覆框930的具體實施例，該涂覆框一旦定位于沉積室(比如沉積室104)中就經(jīng)由耦合構(gòu)件944連接到涂覆框驅(qū)動系統(tǒng)946。在圖9A的實施例中，涂覆框驅(qū)動系統(tǒng)946包括在涂覆工藝期間旋轉(zhuǎn)耦合構(gòu)件944和涂覆框930的馬達940。在某些實施例中，涂覆框驅(qū)動系統(tǒng)946也包括偏移凸輪942。偏移凸輪942產(chǎn)生構(gòu)件944的非循環(huán)旋轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)引起涂覆框930在旋轉(zhuǎn)期間振動。由于接線932松弛地纏繞于涂覆框930周圍，偏移凸輪942引起的振動引起接線相對于涂覆框移動。更具體而言，由于振動，接線932的基本上所有分段與支撐件物理上分離持續(xù)足以形成基本上連續(xù)的阻擋層的時間。換言之，振動造成暴露接線932的每個分段用于由阻擋材料涂覆。另外由于振動隨機，所以大體上均勻的阻擋層形成于接線上。如上文所言，涂覆框930包括從桿934延伸的多個支撐臂938。每個支撐臂938與相鄰支撐臂938分離水平距離982和豎直距離980。由于在相鄰支撐臂938之間的連續(xù)豎直改變，因此纏繞的接線932在涂覆框930周圍遵循傾斜的螺旋路徑。在相鄰支撐臂938 之間的接線932所遵循的傾斜通路稱為接線的節(jié)距或者斜度。當(dāng)涂覆接線932時，接線的匝在沉積期間保持相互物理上分離。因此控制接線932 的節(jié)距比對支撐臂938的數(shù)目以減少相鄰匝在沉積期間變得相互接觸的概率。接線的節(jié)距 (也就是在相鄰支撐件之間的節(jié)距)也是用于確保有用于纏繞接線、在沉積之后清潔涂覆框等的充分間距的因素。另外，支撐臂938具有如下長度該長度在接線932定位于其上時充分大，以致使得涂覆框930的振動可能不使接線930接觸桿934。例如在某些實施例中， 為了在25微米接線上形成厚度為5-7微米的阻擋層而使用25mm長度的支撐臂。在這樣的實施例中，接線932與桿934相距基本上IOmm定位。支撐臂從接線932的位置延伸15mm 以確保接線932不由于振動而與支撐臂完全分離。如上文所言，在圖9A的實施例中，涂覆框930耦合到引起涂覆框930振動的涂覆框驅(qū)動系統(tǒng)946、由此造成接線932相對于涂覆框930移動。在圖9B的實施例中，一旦定位于沉積室中，涂覆框930耦合到有助于涂覆框930振動的彈簧950。在某些實施例中，彈簧 950可以由馬達驅(qū)動以引起振動。在一些備選實施例中，彈簧950向涂覆框930傳遞和/或放大沉積裝置的固有振動。取而代之，可以通過移除一些現(xiàn)有的阻尼元件或者變更真空泵的位置使得泵的振動使室振動來增加沉積裝置中的固有振動。圖9C是從桿934延伸的兩個支撐臂938的側(cè)視圖。在這一示例實施例中，支撐臂各自以向下的角度990從桿934延伸。相對于在每個支撐臂938的基部經(jīng)過桿934延伸的水平軸950測量的向下角度990幫助防止接線930由于振動而朝著桿934遷移。將理解角度990在一些備選實施例中變化。將理解用于涂覆框930的各種配置在本發(fā)明的范圍內(nèi)。在一種示例配置中，涂覆框具有長度為400mm的桿。每個桿包括以30度的向下角度從桿延伸的、25mm長度的支撐臂。當(dāng)在上支撐臂的遠端與下支撐臂的基部之間的間距為3. 5mm時，可以在每個桿上提供共計20個支撐臂。使用這些示例尺度，涂覆框可以支撐近似25m的接線。將理解可以通過減少支撐臂的向下角度、減少在支撐臂之間的豎直間距、增加桿長度等來增加支撐的接線的長度等。例如如下400mm桿可以支撐近似160m的接線該桿具有長度為2. 5mm、角度為O 度并且間距為O. 5mm而接線節(jié)距為3mm的支撐臂。圖10是沉積室1004的剖視圖，該沉積室具有定位于其中的上文描述的涂覆框930 的一個實施例。在這些實施例中，涂覆框930連接至基板1052。與圖9A的實施例相似，基板1052經(jīng)由耦合構(gòu)件944連接到定位于室1004以外的涂覆框驅(qū)動系統(tǒng)946。如上文描述的那樣，馬達940旋轉(zhuǎn)涂覆框930，并且偏移凸輪942在旋轉(zhuǎn)期間引起涂覆框的振動。已經(jīng)參照支撐臂938描述圖9A-圖10A，這些支撐臂具有在遠端中終結(jié)的大體上的圓柱體形狀。將理解可以在本發(fā)明的一些備選實施例中使用其它形狀的支撐臂。例如本發(fā)明的支撐臂可以具有上文參照圖7A-圖7D描述的橫截面形狀中的任何橫截面形狀。另外，圖9A-圖10圖示了本發(fā)明的使用特定涂覆框930的一些實施例。圖11_圖 15C圖示了可以在本發(fā)明的一些實施例中實施的附加涂覆框。
圖11是稱為可展開涂覆框1130的一個備選涂覆框的俯視圖。如圖11中所示，涂覆框1130包括附著到展開器1162的桿1160，該展開器1162允許桿從折疊位置向打開或者展開位置移動。當(dāng)展開器1162處于在圖11中所示的打開位置時，接線1132在張力下纏繞于涂覆框1130周圍，從而接線與支撐臂1138和展開器桿1160相鄰定位。如圖所示，圖11是可展開的涂覆框1130的俯視圖。這樣，示出了在所示支撐臂 1138下面穿過的接線1132，并且接線在移除展開器1162之后由圖11中不可見的臂1132 支撐。一旦完成接線1132的纏繞，展開器1162朝著中心折疊從而允許接線1132減少或者減輕接線中的張力，并且可以移除展開器。也就是說，接線1132然后松弛地纏繞于折疊的涂覆框1132周圍，并且接線1138與桿1160隔開而不是與桿1160相抵緊密保持。在這一位置，接線1132在沉積期間相對于涂覆框1130自由移動。圖12是圖示為涂覆框1230的備選涂覆框的局部透視圖。在這一實施例中，涂覆框1230包括圓柱體構(gòu)件，該構(gòu)件具有形成于其中的凹陷1266。凹陷1266繞涂覆框1230的圓周螺旋并且在這一示例實施例中具有波浪形或者波形表面1264。接線1232松弛地纏繞于涂覆框1230周圍并且由波浪形表面1264支撐。與上文描述的一些實施例相似，涂覆框 1230在沉積期間振動，從而接線1232相對于涂覆框1230移動。另外，由于在任何時間僅接線1232的離散分段與波浪形表面1264接觸，所以接線1232相對于涂覆框1230的移動在接線的表面上產(chǎn)生基本上連續(xù)的阻擋層。圖13A是圖示為涂覆框1330A的另一涂覆框的透視圖。涂覆框1330A包括相對的基部1320和在基部之間延伸的多個基本上平行的桿1334。在圖13A的示例實施例中，涂覆框1330A可水平定位于沉積室中。也就是說，桿1334被配置成與沉積室的底部平行定位。 在這樣的實施例中，可以利用具有水平沉積室的蒸汽沉積裝置。在沉積期間，涂覆框1330A和接線1332均相對于沉積室旋轉(zhuǎn)。然而，接線1332在如下張力之下纏繞于桿1334周圍該張力使涂覆框1330A以與接線1332的速度不同的速度旋轉(zhuǎn)。因此，在旋轉(zhuǎn)期間，涂覆框1330A相對于接線1332移動。由于涂覆框1330A在沉積期間相對于接線1332移動，所以接線1332的與桿1334接觸的分段變成與桿物理上分離。 那些分段保持與桿分離持續(xù)足以向分段涂覆所需厚度的阻擋材料的時間段。因此，基本上連續(xù)的阻擋層形成于接線1332上。在本發(fā)明的一些備選實施例中，桿1334可以是柔性的并且具有充分小的直徑，從而桿堅固到足以支撐接線1332，但是該桿具有充分柔的韌性，從而桿1334在涂覆期間彎曲和/或相對于接線1332移動。由于接線1332并不遵循個別柔性桿1334的移動，所以桿 1334在涂覆期間的彎曲/移動提供在桿與接線1332的先前與桿1334接觸的那些分段之間的附加物理間隔。因此，桿1334的彎曲/移動幫助確保在沉積期間暴露接線1332的所有部分，從而形成所需阻擋層。取而代之，桿1334可以由在基部1320之間伸展的細(xì)接線或者串(例如聚亞安酯)形成。在這些實施例中，個別串/接線由于振動而彎曲或者改變位置。 如上文所言，接線1332并不遵循個別串或者接線的移動，從而接線1332的所有表面由阻擋層涂覆。圖13B是圖示為涂覆框1330B的另一涂覆框的透視圖，該涂覆框1330B可水平定位于沉積室中。涂覆框1330B包括相對的基部1320和在基部之間延伸的多個基本上水平桿1324。桿1324具有大體上矩形形狀并且具有形成于其中的多個切除體或者凹口 1370。 對準(zhǔn)凹口 1370以產(chǎn)生繞框1330C的圓周延伸的通道。在這些實施例中，接線1332松弛地在桿1324周圍，從而接線1332經(jīng)過凹口 1370形成的通道延伸。與上文描述的實施例相似，涂覆框1330B在沉積期間繞基本上水平的軸旋轉(zhuǎn)。在涂覆框1330B旋轉(zhuǎn)并且桿1324朝著室的底部移動時，松弛纏繞的接線1332的與通道1370 接觸的分段將與桿分離。在接線1332的這些分段變成與通道1370隔開時，阻擋材料將涂覆的接線1332的、先前與通道接觸的分段，由此在接線上產(chǎn)生所需阻擋層。圖13C是圖示為涂覆框1330C的又一涂覆框的透視圖，該涂覆框1330C配置成水平定位于沉積室中。對準(zhǔn)凹口 1372以產(chǎn)生繞框1330D的圓周延伸的通道。在這些實施例中，涂覆框1330C包括管形構(gòu)件，該構(gòu)件具有沿著其長度延伸的脊。脊1310中包括多個凹口 1372。在這些實施例中，接線1332松弛地在框1330C周圍，從而接線1332經(jīng)過凹口 1372 形成的通道延伸。與上文描述的實施例相似，涂覆框1330C在沉積期間旋轉(zhuǎn)。在涂覆框1330C旋轉(zhuǎn)并且脊1310朝著室的底部移動時，松弛纏繞的接線1332的、與凹口 1372接觸的分段將與通道分離。在接線1332的這些分段變成與通道1372分離時，阻擋材料將涂覆接線的、先前與通道接觸的分段，由此在接線上產(chǎn)生所需阻擋層。在圖13C的一個備選實施例中，涂覆框1330C可以包括螺紋軸桿。在這樣的實施例中，通道1372在軸桿的圓周周圍延伸。因此，在旋轉(zhuǎn)期間，接線的朝著沉積室的底部旋轉(zhuǎn)的分段在室的底部附近與軸桿的部分連續(xù)分離。圖13D是圖示為涂覆框1330D的又一涂覆框的透視圖，該涂覆框1330D配置成水平定位于沉積室中。涂覆框1330D包括相對的基部1312和在基部之間延伸的多個基本上水平的桿1334。如圖所示，基部1312也包括桿導(dǎo)件1374。在涂覆框1330D旋轉(zhuǎn)時，桿1334的重量使桿在導(dǎo)件1374內(nèi)移動，因此使桿1334相對于接線1332的位置交替。將理解桿1334也可以在它們的移動期間旋轉(zhuǎn)，從而有助于在接線1332上的最少拖拉。由于桿在沉積期間相對于接線1332移動，所以接線1332的、與桿1334接觸的分段變成與桿物理上分離。那些分段保持與桿分離持續(xù)足以向分段涂覆所需厚度的阻擋材料的時間段。因此，基本上連續(xù)的阻擋層形成于接線1332上。已經(jīng)用具有大體上圓形橫截面形狀的桿1334描述圖13A和圖13D實施例。將理解桿1334可以在本發(fā)明的一些備選實施例中具有其它橫截面形狀。例如，可以在其它一些實施例中實施具有圖7A-圖7D中所示橫截面形狀中的任何橫截面形狀的桿。圖14圖示了具有波浪形或者波形形狀的桿1434的又一實施例。更具體而言，在圖14的實施例中，桿 1434是柔性的并且包括一系列間隔突起1421。相鄰?fù)黄?421由凹入?yún)^(qū)域1423分離以形成伸長的波浪形表面。在突起1421的末端與相鄰凹入?yún)^(qū)域1423的中心之間的豎直間距相對于纏繞于周圍的接線的厚度而言實質(zhì)上小，以便在旋轉(zhuǎn)期間賦予在接線上的最小張力改變。在實施桿1434的一個實施例的沉積期間，桿可以相對于涂覆框基部旋轉(zhuǎn)，由此提供在桿與纏繞于涂覆框周圍的接線之間的相對移動。將理解未按比例示出桿1434并且波浪可以小于圖14中所示波浪。在某些實施例中，波浪將在按比例的圖示中不可見。這樣，圖14 的實施例僅為示例而不限制本發(fā)明的范圍。
如上文所言，在某些蒸汽沉積系統(tǒng)中，各種元件的機械移動在操作期間出現(xiàn)，由此造成涂覆框的固有水平的振動。在圖13A-圖13D的實施例中，這一固有振動增強涂覆框 1330相對于接線1332的移動。在一些備選實施例中，可以例如使用彈簧來放大固有振動。 在其它一些實施例中，可以例如使用上文參照圖9A描述的涂覆框驅(qū)動系統(tǒng)或者通過施加高頻(例如超聲)振動來添加附加振動。圖15A是可以在本發(fā)明的一些實施例中用來向伸長的傳導(dǎo)元件涂覆基本上連續(xù)的阻擋層的備選涂覆框1530的透視圖。如圖所示，涂覆框1530包括多個獨立可旋轉(zhuǎn)的盤 1580。每個盤1580包括從其邊緣延伸的多個支撐臂1538。在圖15A的示例實施例中，每個盤1580連接到機械旋轉(zhuǎn)盤的一個或者多個驅(qū)動馬達。將理解可以實施多種方法以獨立旋轉(zhuǎn)盤1580。也將理解在某些實施例中，盤1580可以相對于經(jīng)過盤延伸的中心軸側(cè)向和/或前后移動。這樣的側(cè)向和/或前后移動可以輔助使接線中的張力最小。在圖15A的實施例中，接線松弛地纏繞于盤1580的周圍，從而接線以與上文參照圖9A和圖9B描述的方式基本上相同的方式由支撐臂1538支撐。涂覆框1530定位于沉積室中，從而可以向接線涂敷阻擋層。在沉積期間，一個或者多個盤1580旋轉(zhuǎn)，由此變更纏繞的接線相對于涂覆框1530的位置。這確保纏繞的接線的部分在整個沉積過程中均不與支撐臂1538接觸，由此在接線上提供基本上連續(xù)的阻擋層。圖15A圖示了本發(fā)明的一些實施例，其中盤1538具有八邊形橫截面形狀并且具有從邊緣延伸以支撐纏繞的接線的支撐臂1538。圖15B圖示了一個備選實施例，其中稱為盤 1580B的盤具有星形形狀。在這些實施例中，將在盤1580B的點1539附近支撐纏繞的接線。 圖15C圖示了又一其它實施例，其中盤1580C為圓形橫截面形狀并且支撐臂1538從其邊緣徑向延伸。將理解圖15A-圖15C中所示盤形僅為示例并且也可以實施其它形狀。如上文所言，本發(fā)明的一些實施例主要涉及向伸長的傳導(dǎo)元件涂覆基本上連續(xù)的阻擋層。圖16是圖示了稱為連續(xù)蒸汽沉積裝置1650的蒸汽沉積裝置的實施例的示意框圖， 該蒸汽沉積裝置配置成向伸長的傳導(dǎo)元件涂敷基本上連續(xù)的阻擋層。如圖16中所示，連續(xù)蒸汽沉積裝置1650包括配置成向內(nèi)部沉積室1604供應(yīng)蒸汽材料的蒸汽供應(yīng)系統(tǒng)1606。蒸汽供應(yīng)系統(tǒng)1606包括汽化插入于其中的某一數(shù)量的二聚體的汽化室1600和連接到汽化室 1600的熱解室1602。一旦傳送到熱解室1602，在近似400攝氏度至750攝氏度的溫度熱解汽化二聚體以形成所需單體蒸汽。在熱解之后，向內(nèi)部沉積室1604傳送單體蒸汽，其中如下文描述的那樣使用如下蒸汽，該蒸汽在定位于室中的傳導(dǎo)元件的表面上形成基本上連續(xù)的阻擋層。在本發(fā)明的一些具體實施例中，蒸汽沉積裝置汽化聚對二甲苯單體并且在內(nèi)部沉積室1604內(nèi)的傳導(dǎo)元件上形成聚對二甲苯涂層。在沉積和凝結(jié)之后，從沉積室1604移除殘留蒸汽并且向冷阱1618傳送殘留蒸汽。 冷阱1618用于迅速凝結(jié)和聚合任何殘留蒸汽。真空泵1608連接到冷阱1618并且在內(nèi)部沉積室1604和冷阱1618內(nèi)維持連續(xù)的負(fù)壓。如圖16中所示，連續(xù)蒸汽沉積裝置1650還包括與內(nèi)部沉積室1604相鄰定位的引導(dǎo)系統(tǒng)1660。如下文更具體描述的那樣，引導(dǎo)系統(tǒng)1660被配置成向經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604 延伸的傳導(dǎo)元件施加張力并且控制傳導(dǎo)元件在沉積期間經(jīng)過內(nèi)部沉積室的移動。在圖16 的實施例中，引導(dǎo)系統(tǒng)1660包括傳導(dǎo)兀件供應(yīng)系統(tǒng)1624和傳導(dǎo)兀件收集系統(tǒng)1626。如下文更具體描述的那樣，供應(yīng)系統(tǒng)1624被配置成從線軸向內(nèi)部沉積室1604的內(nèi)部引導(dǎo)傳導(dǎo)元件。也如下文描述的那樣，收集系統(tǒng)1626被配置成從內(nèi)部沉積室1604移除傳導(dǎo)元件并且卷繞退出內(nèi)部沉積室的絕緣傳導(dǎo)元件。如上文所言，引導(dǎo)系統(tǒng)1660與內(nèi)部沉積室1604相鄰定位。在圖16的實施例中， 引導(dǎo)系統(tǒng)1660定位于這里稱為外部沉積室1620的密封室內(nèi)。外部沉積1620提供用于容納引導(dǎo)系統(tǒng)1660的基本上無污染環(huán)境。另外如圖16中所示，外部沉積室1620連接到在操作期間在外部室內(nèi)維持負(fù)壓的真空泵1622。在某些實施例中，真空泵1608和1622維持在內(nèi)部沉積室1604和外部沉積室 1620內(nèi)相同的壓強。在一些備選實施例中，真空泵1608和1622維持在內(nèi)部沉積室1604和外部沉積室1620內(nèi)不同的壓強。也將理解，在一些實施例中可以從外部沉積室1620移除真空而又維持在內(nèi)部沉積室1604中的沉積真空壓強。在這樣的實施例中，可以向外部沉積室1604中或者從外部沉積室1604移除接線的未涂覆的或者涂覆的線軸而不擾動內(nèi)部沉積室中的沉積條件(即壓強和溫度)。圖17是連續(xù)蒸汽沉積裝置1650的附加示意圖。如上文所言，連續(xù)蒸汽沉積裝置 1650包括用于控制接線1732經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604移動的引導(dǎo)系統(tǒng)1660。也如上文所言， 引導(dǎo)系統(tǒng)1660包括傳導(dǎo)元件供應(yīng)系統(tǒng)1624和傳導(dǎo)元件收集系統(tǒng)1626。供應(yīng)系統(tǒng)1624從線軸1740向內(nèi)部沉積室1604引導(dǎo)接線1732。如參照圖18A具體描述的那樣，接線1732經(jīng)過測量接線1732的直徑的測量裝置1742并且在進入內(nèi)部沉積室1604之前在一個或者多個接線導(dǎo)件1760周圍延伸。收集系統(tǒng)1626從內(nèi)部沉積室1604向線軸1752引導(dǎo)接線1732。具體而言，在退出內(nèi)部沉積室1604時，接線1732在一個或者多個接線導(dǎo)件1746周圍并且經(jīng)過第二測量裝置 1748延伸。測量裝置1748用來測量接線1732上的阻擋層的厚度。涂覆的接線1732纏繞于線軸1752周圍。如上文所言，在本發(fā)明的一些實施例中，內(nèi)部沉積室1604定位于外部沉積室1620 中。在本發(fā)明的一些實施例中，外部沉積室1620包括提供對內(nèi)部沉積室1604的通道的蓋 1707。類似地，內(nèi)部沉積室1604包括提供清潔室的通道的蓋1709。圖18A是傳導(dǎo)元件供應(yīng)系統(tǒng)1624的一個實施例的示意圖。如上文所言，供應(yīng)系統(tǒng) 1624包括未涂覆的接線1732的線軸1740。接線1732從線軸1740在第一接線導(dǎo)件1760A 之上經(jīng)過激光測量系統(tǒng)1742延伸。激光測量系統(tǒng)1742確定接線1732的預(yù)涂覆厚度。如下文描述的那樣，這一測量的厚度在測量涂覆厚度期間由收集系統(tǒng)1626使用。接線1732 分別在第二和第三接線導(dǎo)件1760B和1760C之上和之下向內(nèi)部沉積室1604中延伸。將理解可以在本發(fā)明的一些備選實施例中例如根據(jù)涂覆的傳導(dǎo)元件實施變化數(shù)目的接線導(dǎo)件、 位置和材料。接線1732經(jīng)過塞1768中的開口 1771進入內(nèi)部沉積室1604。塞1768中的開口 1771的尺寸足以適應(yīng)接線1372的穿過而對接線很少或者無干擾。例如在一個具體說示例中，開口 1771具有在IOmm的長度內(nèi)變細(xì)至35微米的5mm入口直徑并且在進入內(nèi)部沉積室 1604的出口展開至2mm的直徑。如下文更具體描述的那樣，接線1732的分段可以遵循經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604的多種行進路徑。接線1732經(jīng)過圖18B中所示的塞1769中的開口 1773延伸。塞1769和開口 1773分別與圖18A的塞1769和開口 1771基本上相同。圖18B是傳導(dǎo)元件收集系統(tǒng)1626的示意圖。如圖所示，在退出開口 1773時，涂覆的接線1732在第一接線導(dǎo)件1746A之下并且在第二引導(dǎo)接線1746B之上向激光測量系統(tǒng) 1748延伸。然后向線軸1752上纏繞涂覆的接線。將理解可以在本發(fā)明的備選實施例中例如根據(jù)涂覆的傳導(dǎo)元件實施可變數(shù)目的接線導(dǎo)件、位置和材料。激光測量系統(tǒng)1748被配置成測量接線1732上的阻擋層的厚度。在某些實施例中， 激光測量系統(tǒng)1748使用供應(yīng)系統(tǒng)1624中的激光測量系統(tǒng)1742獲得的數(shù)據(jù)來測量厚度。在某些實施例中，激光測量系統(tǒng)1742可以確定阻擋層在一個或者多個位置并不具有充分厚度。在這些境況中，引導(dǎo)系統(tǒng)1660被配置成倒轉(zhuǎn)接線1732的行進方向，并且將接線的那些未充分涂覆的分段定位于內(nèi)部沉積室1604內(nèi)用于進一步沉積。如上文所言，圖18A和圖18B圖示了供應(yīng)系統(tǒng)1624和收集系統(tǒng)1626的細(xì)節(jié)。將理解供應(yīng)系統(tǒng)1624和收集系統(tǒng)1626中的一個或者兩個系統(tǒng)用于控制接線1732上的張力。 例如在某些實施例中，收集系統(tǒng)1626經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604拉取接線1732，并且供應(yīng)系統(tǒng) 1624操作用于按照需要釋放接線，從而維持所需張力。也如上文所言，在某些境況中，引導(dǎo)系統(tǒng)1660被配置成倒轉(zhuǎn)接線1732的行進方向。在這樣的具體實施例中，供應(yīng)系統(tǒng)1624經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604拉取接線1732，并且收集系統(tǒng)1626操作用于按照需要釋放接線，從而維持所需張力。圖18A和圖18B圖示了使用塞1768和1769，接線1732穿過這些塞以分別進入和退出內(nèi)部沉積室1604。在本發(fā)明的一些實施例中，塞1768、1769可移除以有助于清潔內(nèi)部沉積室1604。在某些實施例中，塞1768、1769例如由聚四氟乙烯(PTFE)形成。如上文所言，接線1732可以遵循經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604的多種行進路徑。圖 19A-圖19D圖示了接線1732在本發(fā)明的一些實施例中遵循的若干不同路徑。在某些這樣的實施例中，將接線1732從傳導(dǎo)元件供應(yīng)系統(tǒng)1624手動穿過內(nèi)部沉積室1604到達傳導(dǎo)元件供應(yīng)系統(tǒng)1626。在其它一些實施例中，引導(dǎo)系統(tǒng)1660包括接線饋送模塊，該模塊將接線 1732從線軸1740穿向線軸1752。圖19A圖示了最簡單配置，在該配置中，接線1732經(jīng)過塞1768進入、經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604線性行進并且經(jīng)過塞1769退出。這一示例配置具有行進路徑簡單以及在室內(nèi)需要很少或者無需元件來支撐接線1732的優(yōu)點。將理解在某些實施例中，沉積的阻擋層的厚度可以對應(yīng)于在內(nèi)部沉積室1604內(nèi)花費的時間長度。圖19A可以通過進行接線1732經(jīng)過室1604的多次穿過來變更阻擋層厚度。在備選實施例中，內(nèi)部沉積室1604可以被設(shè)計成具有接線1732延伸經(jīng)過的較長長度(例如以米為單位)。圖19B圖示了一個備選配置，在該配置中，在內(nèi)部沉積室1604內(nèi)提供若干桿1934。 在這些實施例中，桿1934定位于兩個水平的、基本上平行的行1936中。接線1732經(jīng)過塞 1768進入內(nèi)部沉積室1604并且經(jīng)過桿1934的圖案纏繞。接線1732經(jīng)過塞1769退出。圖 19C圖示了與圖19B的實施例相似的實施例，在該實施例中桿1934設(shè)置于兩個豎直的、基本上平行的行1938中。圖19C圖示了另一實施例，在該實施例中，與上文參照圖3A和圖3B描述的涂覆框基本上相同的涂覆框1930定位于內(nèi)部沉積室1604中。在這些實施例中，接線1732在螺旋圖案中纏繞于桿1934周圍。在某些實施例中，接線1732可以在內(nèi)部沉積室1604內(nèi)直接接觸桿1934。在一些備選實施例中，桿1934具有配置成經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604引導(dǎo)接線的一個或者多個引導(dǎo)構(gòu)件1956。圖19E圖示了包括多個凹口 1958的引導(dǎo)構(gòu)件1956的一個示例布置。在這些實施例中，凹口 1958在其中接收接線1732并且基本上防止接線在除了行進方向之外的方向上的移動。如上文所言，引導(dǎo)系統(tǒng)1660被配置成經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604移動接線1732的分段。在本發(fā)明的某些實施例中，接線1732在沉積期間保持靜止。在這樣的實施例中，可以從內(nèi)部沉積室1604移除接線的涂覆的分段，并且未涂覆的分段可以同時定位于室中。這樣的移動可以出現(xiàn)于依序的沉積工藝之間。在其它一些實施例中，引導(dǎo)系統(tǒng)1660被配置成在這里有時稱為沉積的沉積工藝期間經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604連續(xù)移動接線1732的分段。在這樣的實施例中，在接線1732經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604移動時在接線1732上提供阻擋層。引導(dǎo)系統(tǒng)1660被配置成在如下速度移動接線1732的分段該速度不損壞接線并且確保連續(xù)元件的分段由所需厚度的阻擋
層涂覆。將理解可以通過變更接線1732的分段在內(nèi)部沉積室1604內(nèi)保持的時間來實現(xiàn)阻擋層的厚度變化。例如在某些實施例中，可以增加或者減少引導(dǎo)系統(tǒng)1660經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604移動接線1732的分段的速度以變更阻擋層厚度。取而代之，如上文所言，引導(dǎo)系統(tǒng) 1660被配置成倒轉(zhuǎn)接線1732的行進方向，從而可以向前以及向后移動分段以獲得所需厚度的阻擋層。圖20是圖示了根據(jù)本發(fā)明一些實施例的備選連續(xù)蒸汽沉積裝置2050的示意圖。與上文描述的實施例相似，連續(xù)蒸汽沉積裝置2050包括內(nèi)部沉積室1604、外部沉積室 1620、傳導(dǎo)元件供應(yīng)系統(tǒng)1624和傳導(dǎo)元件收集系統(tǒng)1626。涂覆框2032定位于內(nèi)部沉積室 1604中，該涂覆框2032具有纏繞于它周圍的接線2032。連續(xù)蒸汽沉積裝置2050還包括多個獨立可操作蒸汽供應(yīng)系統(tǒng)2006。每個蒸汽供應(yīng)系統(tǒng)2006單獨連接到內(nèi)部沉積室1604以便向室提供蒸汽材料。在每個蒸汽供應(yīng)系統(tǒng)與內(nèi)部沉積1604之間提供閉止閥2090以控制蒸汽向室中的流動。將理解用于常規(guī)蒸汽沉積裝置的操作時間段受汽化的材料數(shù)量限制。這是一項限制，因為在任何時間僅可以向汽化室中加載離散數(shù)量的二聚體。圖20的實施例增加用于涂覆傳導(dǎo)元件的操作時間段，因為可以獨立操作每個蒸汽供應(yīng)系統(tǒng)2006。因此可以向一個系統(tǒng)加載二聚體而另一系統(tǒng)提供蒸汽。因此可以向內(nèi)部沉積室1604提供連續(xù)蒸汽供應(yīng)而僅需非操作時間來激活附加供應(yīng)系統(tǒng)。圖20的多個蒸汽供應(yīng)系統(tǒng)2006可以在經(jīng)過內(nèi)部沉積室1604連續(xù)移動接線分段的實施例中特別有益。通過使用多個蒸汽供應(yīng)系統(tǒng)2006提供蒸汽的連續(xù)流動，基本上消除對停止接線1732經(jīng)過室的移動以添加附加二聚體的需要。因此長度范圍任意從若干米至數(shù)百米的接線可以由基本上連續(xù)的阻擋層涂覆。圖21是圖示了本發(fā)明的用于使用連續(xù)蒸汽沉積裝置向伸長的、未涂覆的傳導(dǎo)元件涂覆基本上連續(xù)的阻擋層的方法2100的高級流程圖。在這樣的實施例中，連續(xù)蒸汽沉積裝置包括內(nèi)部沉積室。
該方法始于塊2102，其中伸長的傳導(dǎo)元件的第一分段定位于內(nèi)部沉積室中。伸長的傳導(dǎo)元件的第一分段在定位于室外部的引導(dǎo)系統(tǒng)的相反分段之間經(jīng)過室延伸。該方法進行到塊2104處，其中阻擋層沉積于伸長的傳導(dǎo)元件的、在內(nèi)部沉積室中的分段。在塊2106處，引導(dǎo)系統(tǒng)從沉積室移除涂覆的第一分段。同時，引導(dǎo)系統(tǒng)將伸長的傳導(dǎo)元件的第二分段定位于內(nèi)部沉積室中用于沉積。如上文所言，在某些實施例中，可以從內(nèi)部沉積室移除傳導(dǎo)元件的涂覆的分段，并且未涂覆的分段可以在依序沉積工藝之間同時定位于室中。在其它一些實施例中，可以在沉積期間經(jīng)過內(nèi)部沉積連續(xù)移動傳導(dǎo)元件。如本文別處所言，本發(fā)明的一些實施例涉及向未涂覆的伸長的傳導(dǎo)元件涂覆基本上連續(xù)的阻擋層以形成絕緣傳導(dǎo)元件。下文具體描述的本發(fā)明某些實施例涉及通過接線在阻擋層的依序涂層之間相對于涂覆框的移動來形成基本上連續(xù)的阻擋層。圖22A和圖22B 示出了兩個這種示例實施例。圖22A是圖示了用于通過接線相對于在依序涂層之間的涂覆框的運動來向伸長的、未涂覆的傳導(dǎo)元件涂覆基本上連續(xù)的阻擋層的方法的2200A的流程圖。該方法2200A 始于塊2202，其中未涂覆的傳導(dǎo)元件纏繞于多個間隔桿的周圍。該方法在塊2204繼續(xù)，其中阻擋材料沉積于傳導(dǎo)元件上以形成其中具有未涂覆的間隙的中間層。圖23A圖示了表示為接線2332的示例傳導(dǎo)元件，該元件在其上具有中間層2344。中間層2344在其中具有間隙2338。將理解圖23A中所示層2344相對于間隙2338的尺寸而言的厚度未按比例示出而僅為示例。在塊2206處，在傳導(dǎo)元件上沉積中間層之后，相對于涂覆框移動涂覆的傳導(dǎo)元件，從而未涂覆的間隙與桿物理上間隔。換言之，傳導(dǎo)元件相對于框移動，從而間隙暴露并且可以接收阻擋材料涂層。在塊2208處，阻擋材料沉積于涂覆的傳導(dǎo)元件上。這一阻擋材料涂層這里稱為副層。如上文所言，由于在中間層中的間隙暴露而不與支撐件直接接觸，所以間隙接收副層的涂層以形成基本上連續(xù)的阻擋層。在塊2210處，從涂覆框解開絕緣傳導(dǎo)元件。圖23B圖示了絕緣傳導(dǎo)元件，該元件包括由中間層2344和副層2342形成的阻擋層2336。為了易于圖示，已經(jīng)使用不同交叉影線來示出副層2342和中間層2344。將理解層 2342和2344可以包括相同或者不同阻擋材料。在某些實施例中，中間層2344和副層2342 各自包括聚對二甲苯層。圖22A圖示了本發(fā)明的一些實施例，在這些實施例中，傳導(dǎo)元件接收兩個阻擋材料涂層。將理解每個涂層可以具有相同或者不同的厚度。也將理解在某些實施例中可以涂敷附加涂層。圖22B圖示了本發(fā)明的一個備選實施例，在該實施例中，通過在依序的阻擋材料涂層之間從第一涂覆框向第二涂覆框傳送傳導(dǎo)元件來形成基本上連續(xù)的阻擋層。圖22B的方法2200B始于塊2220，其中未涂覆的傳導(dǎo)元件纏繞于包括多個間隔桿的涂覆框周圍。該方法在塊2222處繼續(xù)，其中阻擋材料沉積于傳導(dǎo)元件上以形成其中具有未涂覆的間隙的中間層。如上文所言，圖23A圖示了表示為接線2332的示例傳導(dǎo)元件，該元件在其上具有中間層2344。中間層2344在其中具有間隙2338。在塊2224處，從第一涂覆框向包括多個間隔桿的第二涂覆框傳送其上具有中間層的傳導(dǎo)元件。涂覆的傳導(dǎo)元件纏繞于第二涂覆框周圍，從而在中間層中的未涂覆的間隙與桿物理上間隔。換言之，傳導(dǎo)元件纏繞于第二框周圍，從而間隙暴露并且可以接收阻擋材料涂層。在塊2226處，阻擋材料沉積于涂覆的傳導(dǎo)元件上。這一阻擋材料涂層這里稱為副層。如上文所言，由于涂覆的傳導(dǎo)元件纏繞于第二涂覆框周圍，從而暴露中間層中的間隙， 所以間隙接收副層的涂層以形成基本上連續(xù)的阻擋層。在塊2228處，從第二涂覆框解開絕緣傳導(dǎo)元件。如上文所言，圖23B圖示了絕緣傳導(dǎo)元件，該元件包括由中間層2344和副層2342 形成的阻擋層2336。為了易于圖示，已經(jīng)使用不同交叉陰影線來示出副層2342和中間層 2344。將理解層2342和2344可以包括相同或者不同阻擋材料。在某些實施例中，中間層 2344和負(fù)層2342包括聚對二甲苯層。如上文所言，圖22B圖示了本發(fā)明的一些實施例，在這些實施例中，在阻擋材料涂層之間從第一涂覆框向第二涂覆框傳送涂覆的傳導(dǎo)元件。圖24A是圖示了用于從第一涂覆框2472向第二涂覆框2476傳送涂覆的接線2342的一個示例機制的示意圖。在這些實施例中，傳送機制包括線性滑件2476和接線導(dǎo)件2478。在從涂覆框2472纏繞接線2342時， 接線穿過接線導(dǎo)件2478到達涂覆框2476。接線導(dǎo)件2478沿著滑件2474移動以控制接線 2342在它纏繞于涂覆框2476周圍的位置。圖24B圖示了本發(fā)明的一些用于從涂覆框2472向接線線軸2486傳送涂覆的接線 2432的實施例。在這些實施例中，傳送機制包括第一接線導(dǎo)件2482和第二接線導(dǎo)件2484。 在從涂覆框2472纏繞接線2432時，接線穿過接線導(dǎo)件2482到達接線導(dǎo)件2484，該接線導(dǎo)件對準(zhǔn)接線與線軸2486。如上文所言，本發(fā)明的一些實施例主要涉及使用蒸汽沉積來向伸長的傳導(dǎo)元件涂覆保護阻擋層?？梢猿鲇诙喾N原因(包括但不限于提供在相鄰傳導(dǎo)元件之間的電絕緣、提供生物兼容、固定微觀顆粒和確保傳導(dǎo)元件鈍化以及提供傳導(dǎo)元件與濕氣、化學(xué)物和其它物質(zhì)隔離)而向傳導(dǎo)元件涂敷阻擋層。在某些實施例中，在本發(fā)明的實施例中利用的阻擋層為聚合材料。在一個具體實施例中，阻擋層為聚對二甲苯。聚對二甲苯是用于多種蒸汽沉積的聚對苯二亞甲基的通稱。 這些材料形成可以涂敷為保形涂層和膜的高晶態(tài)聚合物。不同于其它聚合材料，聚對二甲苯不作為聚合物來制造或者銷售。而是通過氣相沉積和聚合對苯二亞甲基或者其衍生物來生產(chǎn)聚對二甲苯。存在聚對二甲苯的多種衍生物和異構(gòu)體。最常見變體包括聚對二甲苯C、聚對二甲苯N和聚對二甲苯D。將理解其它聚對二甲苯變體也在商業(yè)上可用。將理解可以在本發(fā)明的實施例中使用基本上任何聚對二甲苯變體。也將理解可以在本發(fā)明的一些實施例中利用備選阻擋材料。示例備選阻擋材料包括但不限于多晶硅、二氧化硅和氮化硅。如這里別處所言，上文描述的涂覆框、桿、支撐臂等可以由具有用于維持所需形狀的充分強度的任何生物兼容材料形成。在一些具體實施例中，涂覆框、桿、支撐臂等可以由不銹鋼形成。在某些實施例中，涂覆框、桿、支撐臂等可以例如由PTFE涂覆以減少在阻擋材料與涂覆框、桿、支撐臂等之間的鍵合。
這里已經(jīng)參照具有基本上連續(xù)的阻擋層或者基本上連續(xù)的分段的伸長的傳導(dǎo)元件描述本發(fā)明的一些實施例。將理解基本上連續(xù)涂覆的分段或者層的厚度無需在整個分段或者層內(nèi)一致。如上文所言，可以在可植入刺激組件中實施根據(jù)本發(fā)明一些實施例的絕緣傳導(dǎo)元件。這樣的刺激組件可以用于諸如短刺激組件、直刺激組件、近耳蝸軸刺激組件 (peri-modiolar)等多種耳蝸植入物。也可以在利用涂覆的傳導(dǎo)元件的任何可植入醫(yī)療設(shè)備中實施根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的絕緣傳導(dǎo)元件。例如可以在現(xiàn)在已知或者以后開發(fā)的諸如腦部刺激器、心臟起搏器/除顫器、功能性電刺激器(FES)、膀胱刺激器等任何神經(jīng)刺激器中實施本發(fā)明的一些實施例。在2009年9月9日提交的、第12/556，338號共同擁有和共同未決美國實用專利申請、2009年9月9日提交的第12/556，304號共同擁有和共同未決美國專利申請和2009 年9月9日提交的第12/556，281號共同擁有和共同未決美國實用專利申請中描述本發(fā)明的更多特征和優(yōu)點。這些申請的內(nèi)容通過這里的引用而結(jié)合于此。這里描述和要求保護的本發(fā)明將不受這里公開的具體優(yōu)選實施例的范圍限制，因為這些實施例旨在于舉例說明而非限制本發(fā)明的若干方面。任何等效實施例旨在于在本發(fā)明的范圍內(nèi)。實際上，本發(fā)明的各種修改除了這里示出和描述的修改之外也將根據(jù)前文描述而變得為本領(lǐng)域技術(shù)人員所清楚。這樣的修改也旨在于落入所附權(quán)利要求書的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種向伸長的、未涂覆的傳導(dǎo)元件涂覆基本上連續(xù)的阻擋層的方法，包括將所述未涂覆的傳導(dǎo)元件定位于多個間隔桿的周圍；在所述傳導(dǎo)元件上沉積阻擋材料以形成其中具有未涂覆的間隙的中間層，所述未涂覆的間隙位于所述傳導(dǎo)元件與所述桿接觸之處；在沉積所述中間層之后相對于所述框移動所述涂覆的傳導(dǎo)元件，從而所述未涂覆的間隙不與所述桿接觸；在所述傳導(dǎo)元件上沉積阻擋材料以形成所述基本上連續(xù)的阻擋層；以及從所述框移除所述傳導(dǎo)元件。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中所述桿基本上平行，并且其中在相鄰桿之間的間距基本上相同，并且其中將所述未涂覆的傳導(dǎo)元件定位于所述多個桿的周圍包括在所述桿的周圍纏繞所述未涂覆的傳導(dǎo)元件，從而所述纏繞的傳導(dǎo)元件的匝基本上平行。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中在所述傳導(dǎo)元件上沉積阻擋材料包括在所述傳導(dǎo)元件上沉積至少一個聚對二甲苯層。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中所述方法還包括向線軸上纏繞所述絕緣傳導(dǎo)元件，其中所述絕緣傳導(dǎo)元件的卷繞長度近似等于纏繞于所述桿的周圍的所述未涂覆的傳導(dǎo)元件的長度。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中將所述未涂覆的伸長的傳導(dǎo)元件定位于所述桿的周圍包括在所述桿的周圍手動地纏繞所述傳導(dǎo)元件。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中將所述未涂覆的伸長的傳導(dǎo)元件定位于所述桿的周圍包括用纏繞系統(tǒng)在所述桿的周圍纏繞所述傳導(dǎo)元件。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中在所述傳導(dǎo)元件上沉積所述阻擋材料之前，所述方法還包括將具有纏繞于其周圍的所述傳導(dǎo)元件的所述桿定位于在蒸汽沉積裝置的沉積室中。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中在將所述未涂覆的傳導(dǎo)元件定位于所述桿的周圍之前，所述方法還包括將所述桿定位于蒸汽沉積裝置的沉積室中。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中將所述未涂覆的伸長的傳導(dǎo)元件定位于所述桿的周圍包括將伸長的單股接線定位于所述桿的周圍。
10.一種通過權(quán)利要求I的過程形成的涂覆的傳導(dǎo)元件。
11.一種向伸長的、未涂覆的傳導(dǎo)元件涂覆基本上連續(xù)的阻擋層的方法，包括將所述未涂覆的傳導(dǎo)元件定位于多個間隔桿的周圍；在所述傳導(dǎo)元件上沉積阻擋材料以形成其中具有未涂覆的間隙的中間層，所述未涂覆的間隙位于所述傳導(dǎo)元件與所述桿接觸之處；從第一框向包括多個間隔桿的第二框傳送所述涂覆的傳導(dǎo)元件，從而所述未涂覆的間隙不與所述第二框的所述桿接觸；在所述傳導(dǎo)元件上沉積阻擋材料以形成所述基本上連續(xù)的阻擋層；以及從所述框移除所述涂覆的傳導(dǎo)元件。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述桿基本上平行，并且其中在相鄰桿之間的間距基本上相同，并且其中將所述未涂覆的傳導(dǎo)元件定位于所述多個桿的周圍包括在所述桿的周圍纏繞所述未涂覆的傳導(dǎo)元件，從而所述纏繞的傳導(dǎo)元件的匝基本上平行。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中在所述傳導(dǎo)元件上沉積阻擋材料包括在所述傳導(dǎo)元件上沉積至少一個聚對二甲苯層。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述方法還包括向線軸上纏繞所述絕緣傳導(dǎo)元件，其中所述絕緣傳導(dǎo)元件的卷繞長度近似等于纏繞于所述桿的周圍的所述未涂覆的傳導(dǎo)元件的長度。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中將所述未涂覆的伸長的傳導(dǎo)元件定位于所述桿的周圍包括在所述桿的周圍手動地纏繞所述傳導(dǎo)元件。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中將所述未涂覆的伸長的傳導(dǎo)元件定位于所述桿的周圍包括用纏繞系統(tǒng)在所述桿的周圍纏繞所述傳導(dǎo)元件。
17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中在所述傳導(dǎo)元件上沉積所述阻擋材料之前，所述方法還包括將具有纏繞于其周圍的所述傳導(dǎo)元件的所述多個桿定位于蒸汽沉積裝置的沉積室中。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中在將所述未涂覆的傳導(dǎo)元件定位于所述桿的周圍之前，所述方法還包括將所述多個桿定位于蒸汽沉積裝置的沉積室中。
19.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中將所述未涂覆的伸長的傳導(dǎo)元件定位于所述桿的周圍包括將伸長的單股接線定位于所述桿的周圍。
20.一種通過權(quán)利要求11所述的過程形成的涂覆的傳導(dǎo)元件。
全文摘要
向伸長的、未涂覆的傳導(dǎo)元件涂覆基本上連續(xù)的阻擋層。通過傳導(dǎo)元件相對于在阻擋材料的依序涂層之間的框的相對移動來形成基本上連續(xù)的阻擋層。
文檔編號C23C14/04GK102597298SQ201080048417
公開日2012年7月18日 申請日期2010年9月9日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月9日
發(fā)明者G·希爾, J·L·拉普塞, P·舒勒 申請人:耳蝸有限公司