專利名稱：鍍膜件的制備方法及由該方法制得的鍍膜件的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜件的制備方法及由該方法制得的鍍膜件，尤其涉及一種白色的鍍膜件的制備方法及由該方法制得的白色的鍍膜件。
背景技術：
為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，目前主要通過陽極氧化、烤漆、烤瓷等工藝制備裝飾涂層。相比這些傳統(tǒng)工藝，PVD鍍膜技術更加綠色環(huán)保，且采用PVD鍍膜技術可在產品外殼表面形成具有金屬質感的裝飾色彩層。然而現有技術中，利用PVD鍍膜技術于外殼表面形成的膜層的色彩非常有限，目前能夠廣泛制備和使用的PVD膜層主要為金黃色、黑色、藍色等色系。白色作為一種經典的顏色，目前業(yè)界較難通過PVD鍍膜技術獲得，因而利用PVD鍍膜技術獲得穩(wěn)定的白色膜層一 直是業(yè)界研究的焦點。

發(fā)明內容
有鑒于此，有必要提供一種工藝穩(wěn)定可靠的白色的鍍膜件的制備方法。另外，還有必要提供一種由上述方法所制得的鍍膜件。一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟
提供基材；
采用濺射法在該基材的表面形成一預制層，該預制層為含A金屬的金屬層，或為含A金屬與M金屬的不飽和氧化物層；其中A金屬為鈦、鋁及鋅中的一種或一種以上，M金屬為鈣及鋇中的一種或兩種；
對預制層進行熱氧化處理以形成色彩層，該色彩層為含A金屬的氧化物層，或為含A金屬與M金屬的氧化物層；該色彩層呈現白色，其于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標介于91至98之間，a*坐標介于-I至I之間，b*坐標介于_2至2之間?！N鍍膜件，其包括基材及形成于基材表面的色彩層，其特征在于該色彩層為含A金屬的氧化物層，或為含A金屬與M金屬的氧化物層，其中A金屬為鈦、鋁及鋅中的一種或一種以上，M金屬為鈣及鋇中的一種或兩種，該色彩層呈現白色，其于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標介于91至98之間，a*坐標介于-I至I之間，b*坐標介于_2至2之間。本發(fā)明所述白色的鍍膜件的制備方法在形成色彩層時，通過對靶材的選取和對濺射溫度的控制，并在鍍膜后進行熱氧化處理，從而在透明的基材上制備獲得穩(wěn)定的白色的色彩層，該色彩層性能穩(wěn)定，透過透明的基材也能觀察到白色。該方法工藝簡單，易于操作，綠色環(huán)保。以該方法所制得的鍍膜件呈現出具有吸引力的白色的外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，極大地提高了產品的外觀競爭力。


圖I為本發(fā)明一較佳實施例鍍膜件的剖視圖；圖2為本發(fā)明一較佳實施例真空鍍膜機的俯視示意圖。主要元件符號說明
權利要求
1.一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟 提供基材； 采用濺射法在該基材的表面形成一預制層，該預制層為含A金屬的金屬層，或為含A金屬與M金屬的不飽和氧化物層；其中A金屬為鈦、鋁及鋅中的一種或一種以上，M金屬為鈣及鋇中的一種或兩種； 對預制層進行熱氧化處理以形成色彩層，該色彩層為含A金屬的氧化物層，或為含A金屬與M金屬的氧化物層；該色彩層呈現白色，其于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標介于91至98之間，a*坐標介于-I至I之間，b*坐標介于_2至2之間。
2.如權利要求I所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于所述基材為透明的玻璃。
3.如權利要求I所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于形成所述預制層的步驟的具體工藝參數為使用金屬靶，金屬靶的材質為鈦、鋁及鋅中的一種或一種以上，金屬靶 的功率為2. 5^4. 5kW，施加于基材的偏壓為(T-200V，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為30(T500sccm，鍍膜溫度為10(T30(TC，鍍膜時間為I 4h。
4.如權利要求I所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于形成所述預制層的步驟的具體工藝參數為使用金屬靶和陶瓷靶，金屬靶的材質為鈦、鋁及鋅中的一種或一種以上，陶瓷靶的材質為氧化鈣及氧化鋇中的一種或兩種；金屬靶的功率為2. 5^4. 5kW，陶瓷靶的功率為3 4. 5kff ;施加于基材的偏壓為(T-200V，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為30(T500sccm，鍍膜溫度為10(T30(TC，鍍膜時間為I 4h。
5.如權利要求I所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于所述熱氧化處理的具體工藝參數為溫度為30(T60(TC，通入氧氣的流量為8(Tl50sccm，處理時間為2(T60min。
6.如權利要求I所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于所述色彩層的厚度為I 2 μ m0
7.如權利要求I所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于將所述色彩層透過所述基材測試色差值的結果為于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標介于85至90之間，a*坐標介于_2至I之間，b*坐標介于-2至2之間。
8.—種鍍膜件,其包括基材及形成于基材表面的色彩層,其特征在于該色彩層為含A金屬的氧化物層，或為含A金屬與M金屬的氧化物層，其中A金屬為鈦、鋁及鋅中的一種或一種以上，M金屬為鈣及鋇中的一種或兩種，該色彩層呈現白色，其于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標介于91至98之間，a*坐標介于-I至I之間，b*坐標介于_2至2之間。
9.如權利要求8所述的鍍膜件，其特征在于所述基材為透明的玻璃。
10.如權利要求8所述的鍍膜件，其特征在于將所述色彩層透過所述基材測試色差值的結果為于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標介于85至90之間，a*坐標介于_2至I之間，b*坐標介于-2至2之間。
11.如權利要求8所述的鍍膜件，其特征在于所述色彩層的厚度為I 2μπι。
全文摘要
本發(fā)明提供一種白色的鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟提供基材；采用濺射法在該基材的表面形成一預制層，該預制層為含A金屬的金屬層，或為含A金屬與M金屬的不飽和氧化物層；其中A金屬為鈦、鋁及鋅中的一種或一種以上，M金屬為鈣及鋇中的一種或兩種；對預制層進行熱氧化處理以形成色彩層，該色彩層呈現白色。所述鍍膜件的制備方法穩(wěn)定可靠且環(huán)保。本發(fā)明還提供一種由上述方法制得的白色的鍍膜件。
文檔編號C23C14/34GK102732825SQ20111008482
公開日2012年10月17日 申請日期2011年4月6日 優(yōu)先權日2011年4月6日
發(fā)明者張新倍, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士, 黃嘉 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司