專利名稱：低品位氧化金礦大規(guī)模生產(chǎn)堆浸排液系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及黃金堆浸提取，尤其是一種低品位氧化金礦大規(guī)模生產(chǎn)堆浸排液系 統(tǒng)。
背景技術(shù)：
黃金堆浸工藝是由有色金屬的堆浸提取技術(shù)發(fā)展而來，目前已經(jīng)成為重要的提金 方法，它促進(jìn)了低品位黃金資源的開發(fā)。氧化金礦的堆浸工藝涉及許多學(xué)科，包括礦床地質(zhì) 學(xué)、碎礦學(xué)、濕法浸取學(xué)、土建學(xué)和力學(xué)等，其中如何控制堆浸液的流向、流速及礦堆吸氧量 多少尤為重要，因此，堆浸排液系統(tǒng)的設(shè)計(jì)十分關(guān)鍵。傳統(tǒng)做法是將堆浸場底板做成傾斜度 3 5°的場地，水順地勢往低的一側(cè)匯集，然后直接進(jìn)入貴液池或先匯集到場地外的明溝 再流入貴液池，這種粗糙簡陋的溝系排液存在諸多缺點(diǎn)及不足<1>排液速度慢，噴淋強(qiáng)度小，浸淋礦石的水量少，造成堆浸時(shí)間長、成本增加；<2>礦堆內(nèi)含氧量少，金溶解時(shí)間延長，造成浸出時(shí)間長、回收率低；<3>由于水流緩慢，礦堆透水性不強(qiáng)，礦堆高度小，單位場地上的堆礦量少，增加了 土建費(fèi)用及底墊材料成本；<4>由于排液效率低，洗礦、調(diào)堿時(shí)間長，石灰用量大。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)構(gòu)簡單、適用性強(qiáng)、浸出效率高、堆浸時(shí)間 短的低品位氧化金礦大規(guī)模生產(chǎn)堆浸排液系統(tǒng)。為解決上述技術(shù)問題本發(fā)明采用如下技術(shù)方案低品位氧化金礦大規(guī)模生產(chǎn)堆浸 排液系統(tǒng)，該系統(tǒng)主要由集液溝和覆在其上的多孔排液裝置組成；集液溝分主溝和支溝，在 堆浸場地中央布主溝連接貴液池，主溝兩側(cè)呈樹枝狀分布支溝；多孔排液裝置有上、下兩層 竹墊，中間由圓木分隔，下層竹墊打有通孔并鋪設(shè)在集液溝上，上層竹墊上鋪有毛脊草(即 蕨草)。堆浸場地三面環(huán)山呈C形且兩側(cè)向中間傾斜3 5°，C形開口與貴液池相接，場 地底板鋪20 25公分的泥土，泥土上鋪有三層底墊，上層和下層為彩條布，中間層為薄膜， 集液溝處的底墊要緊貼溝底、溝壁。集液溝橫斷面呈梯形，深40公分；主溝上寬60 65公分、下寬40 45公分，支 溝上寬45 50公分、下寬30 40公分，支溝間距15米。竹墊厚4 6mm ；下層竹墊中部打兩排通孔，孔徑4公分、孔距10公分、行距20公 分；圓木長度小于竹墊寬度，直徑至少10公分，圓木間距5公分；上層竹墊上的毛脊草厚至 少30公分，其他底墊上的毛脊草厚25 30公分。本發(fā)明的低品位氧化金礦大規(guī)模生產(chǎn)堆浸排液系統(tǒng)，采用樹枝狀溝系布局和竹墊 及圓木營造的多孔排液裝置，前者加快了堆場各部的水溶液排出，后者阻擋泥漿進(jìn)入溝系， 并利用上下兩層竹墊的間隔空間及下層打孔竹墊形成無數(shù)個(gè)微型吸水、吸氣泵，有助于促進(jìn)水溶液從上往下流動(dòng)以及便于礦堆吸入空氣參與礦石上氰化鈉的溶金作用，達(dá)到透水、 增加礦堆溶氧量的目的。因此，應(yīng)用本發(fā)明的堆浸排液系統(tǒng)能夠增加單位場地堆礦量、提高 金的浸出率、縮短堆浸時(shí)間、減少氰化鈉用量、節(jié)約成本，從而提高了低品位氧化金礦堆浸 生產(chǎn)的經(jīng)濟(jì)效益。與傳統(tǒng)排液系統(tǒng)相比，應(yīng)用本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)具體如表1。表1新舊堆浸排液系統(tǒng)比較
權(quán)利要求
1.一種低品位氧化金礦大規(guī)模生產(chǎn)堆浸排液系統(tǒng)，其特征在于該系統(tǒng)主要由集液溝和 覆在其上的多孔排液裝置組成；所述集液溝分主溝和支溝，在堆浸場地中央布主溝連接貴 液池，主溝兩側(cè)呈樹枝狀分布支溝；所述多孔排液裝置有上、下兩層竹墊，中間由圓木分隔， 下層竹墊打有通孔并鋪設(shè)在集液溝上，上層竹墊上鋪有毛脊草。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低品位氧化金礦大規(guī)模生產(chǎn)堆浸排液系統(tǒng)，其特征在于所 述堆浸場地三面環(huán)山呈C形且兩側(cè)向中間傾斜3 5°，C形開口與貴液池相接，場地底板 鋪20 25公分的泥土，泥土上鋪有三層底墊，上層和下層為彩條布，中間層為薄膜，集液溝 處的底墊要緊貼溝底、溝壁。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低品位氧化金礦大規(guī)模生產(chǎn)堆浸排液系統(tǒng)，其特征在于所 述集液溝橫斷面呈梯形，深40公分；所述主溝上寬60 65公分、下寬40 45公分，支溝 上寬45 50公分、下寬30 40公分，支溝間距15米。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的低品位氧化金礦大規(guī)模生產(chǎn)堆浸排液系統(tǒng)，其特征在于所 述竹墊厚4 6mm ；所述下層竹墊中部打兩排通孔，孔徑4公分、孔距10公分、行距20公分； 所述圓木長度小于竹墊寬度，直徑至少10公分，圓木間距5公分；所述上層竹墊上的毛脊草 厚至少30公分，其他底墊上的毛脊草厚25 30公分。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種低品位氧化金礦大規(guī)模生產(chǎn)堆浸排液系統(tǒng)，該系統(tǒng)主要由集液溝和覆在其上的多孔排液裝置組成；集液溝分主溝和支溝，在堆浸場地中央布主溝連接貴液池，主溝兩側(cè)呈樹枝狀分布支溝；多孔排液裝置有上、下兩層竹墊，中間由圓木分隔，下層竹墊打有通孔并鋪設(shè)在集液溝上，上層竹墊上鋪有毛脊草。本發(fā)明采用樹枝狀溝系布局和竹墊及圓木營造的多孔排液裝置，能夠增加單位場地堆礦量、提高金的浸出率、縮短堆浸時(shí)間、減少氰化鈉用量、節(jié)約成本，從而提高了低品位氧化金礦堆浸生產(chǎn)的經(jīng)濟(jì)效益。
文檔編號(hào)C22B3/02GK102134651SQ20111009491
公開日2011年7月27日 申請(qǐng)日期2011年4月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月15日
發(fā)明者周若水, 孫文忠, 李玉保, 謝振開 申請(qǐng)人:廣西地博礦業(yè)集團(tuán)股份有限公司