專利名稱：一種金屬標(biāo)牌的蝕刻工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種金屬標(biāo)牌的制作方法，特別是涉及一種金屬標(biāo)牌的蝕刻工藝。
背景技術(shù)：
目前，市場(chǎng)上一直采用電鑄工藝制作金屬標(biāo)牌，其工藝流程一般為雕刻芯?！?修正芯?！ㄟ^電鍍復(fù)制一級(jí)模具——修正一級(jí)模具——復(fù)制二級(jí)模具——修正二級(jí)模具——復(fù)制三級(jí)模具——聯(lián)?！纬闪磕！獩_床——噴涂——檢查包裝。然而，上述金屬標(biāo)牌的電鑄工藝存在以上問題1、面材的價(jià)格過高；2、開發(fā)周期過長(zhǎng)，大約需要一周左右；3、產(chǎn)能較低，工藝較復(fù)雜；4、良率較低，工序較復(fù)雜；5、面材容易變形。

發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種新的制作方法，采用蝕刻工藝制作金屬標(biāo)牌，可達(dá)到降低制作成本，縮短開發(fā)周期，提高產(chǎn)能良率，簡(jiǎn)化工藝工序，面材不易變形的目的。蝕刻是以往金屬腐蝕加工技術(shù)的進(jìn)步技術(shù)。需要加工的，設(shè)計(jì)被加工物形象后利用精密照片技術(shù)，在材料表面通過曝光機(jī)感光分層的干膜，沒有曝光的顯露部位使用化工藥品，如氯化鐵，進(jìn)行強(qiáng)行分解融化，去除，是加工生產(chǎn)超細(xì)微精密形象產(chǎn)品的技術(shù)，比起沖床，雕刻加工等具有很多優(yōu)點(diǎn)，適用于廣泛的高端技術(shù)，特別是半導(dǎo)體技術(shù)，在一次加工產(chǎn)品上蝕刻技術(shù)被認(rèn)為是最符合的技術(shù)。一種金屬標(biāo)牌的蝕刻工藝方法，具體包括以下步驟(1)檢查面材，可選用不銹鋼，鋁等面材，面材厚度優(yōu)選為0. 050-0. 500mm，原材料
以單張或整卷的方式入庫(kù)，并接受檢查。(2)表面脫脂前處理利用堿性藥品進(jìn)行表面處理，除去材料表面附著的油性成分以及異物；水洗；酸洗；再水洗后，進(jìn)行烘干，處理速度選用1. 5士0. 2M/min，可根據(jù)面材的不同，選擇相應(yīng)的堿處理藥品或酸處理藥品以及濃度條件。(3)貼層干膜在上述處理好的面材上下表面采用感光膠貼膜，貼膜機(jī)的貼膜速度為 1. 0-3. OM/min，貼膜溫度為 110_130°C。(4)曝光在面材的上下表面均貼上菲林進(jìn)行曝光，曝光量依據(jù)干膜的種類設(shè)定， 優(yōu)選為30-6-mj，生產(chǎn)性可優(yōu)選為70-80Sheet/時(shí)，其中，上表面和下表面的菲林尺寸是一致的，但其涂層面積相同。(5)顯像采用碳酸鈉溶液，顯像速度依據(jù)干膜的種類進(jìn)行設(shè)定，優(yōu)選為 1. 8士0. 5M/min,完成顯像的產(chǎn)品進(jìn)行高溫干燥，烘干時(shí)應(yīng)防止表面劃傷，干燥溫度為150°C，干燥時(shí)間為5-7分鐘。(6)蝕刻腐蝕液選用濃度為36% -43%的氯化鐵溶液，溫度為50士2°C。(7)脫模脫模速度為1. 5士 1. OM/min，脫模液為堿性的脫模劑配制。(8)回收產(chǎn)品并檢測(cè)。本發(fā)明可用于生產(chǎn)金屬鍵盤，IC及LED用引線框，線路板及功能件，各種電子精密部件，以及多端Kching-MASK類本發(fā)明中金屬標(biāo)牌的蝕刻工藝能獲得以下有益技術(shù)效果適用于寬幅度的材料加工，如不銹鋼，鐵，SK工具鋼，銅及其銅合金，鋁，無定形體， 鎳及其鎳合金等等；超細(xì)微復(fù)雜顯像加工可用于高清晰電視等μ m單位的超細(xì)微精密單位的加工；加工后全無變更因化學(xué)加工，沒有局部力或發(fā)熱，加工后沒有毛刺或扭曲等形態(tài)變化，不用為去除毛刺進(jìn)行后續(xù)處理；低廉的模具費(fèi)用在光刻機(jī)上模具一聯(lián)繪圖工序制作，對(duì)比其他的工序可維持低至1/50的模具費(fèi)和優(yōu)秀的精密度；納期開發(fā)周期較短，當(dāng)天即可完成開發(fā)，可在短時(shí)間內(nèi)納品；模具修理在光刻機(jī)上通過計(jì)算機(jī)一級(jí)繪圖作業(yè)，在短時(shí)間內(nèi)用最少的費(fèi)用進(jìn)行模具修理。


圖1為金屬標(biāo)牌的蝕刻工藝。
具體實(shí)施例方式一種金屬標(biāo)牌的蝕刻工藝方法，包括以下步驟(1)檢查面材，可選用不銹鋼，鋁等面材，面材厚度為0. 050-0. 500mm。(2)表面脫脂前處理利用堿性藥品進(jìn)行表面處理，除去材料表面附著的油性成分以及異物；水洗；酸洗；再水洗后，進(jìn)行烘干，處理速度選用1. 5士0. 2M/min。(3)貼層干膜在上述處理好的面材上下表面采用感光膠貼膜，貼膜機(jī)的貼膜速度為 1. 0-3. OM/min，貼膜溫度為 110_130°C。(4)曝光在面材的上下表面均貼上菲林進(jìn)行曝光，曝光量為30_60mj，生產(chǎn)性為 70-80Sheet/時(shí)，其中，上表面和下表面的菲林尺寸是一致的，但其涂層面積相同。(5)顯像采用25% -35%的碳酸鈉溶液，顯像速度為1. 8士0. 5M/min，完成顯像的產(chǎn)品進(jìn)行高溫干燥，烘干時(shí)應(yīng)防止表面劃傷，干燥溫度為150°C，干燥時(shí)間為5-7分鐘。(6)蝕刻腐蝕液選用濃度為36% -43%的氯化鐵溶液，溫度為50士2°C。(7)脫模脫模速度為1. 5士 1. OM/min,脫模液為堿性的脫模劑配制。(8)回收產(chǎn)品并檢測(cè)完成脫模的產(chǎn)品積累到一定數(shù)量進(jìn)行檢查，主要檢查產(chǎn)品在X，y方向上的尺寸，是否與客戶的要求一致，檢測(cè)器采用Nikon Profile或ftOjector， 檢查方法依產(chǎn)品可選用肉眼，放大鏡或顯微鏡。本發(fā)明可用于生產(chǎn)金屬鍵盤，IC及LED用引線框，線路板及功能件，各種電子精密部件，以及多端Kching-MASK類。
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本發(fā)明蝕刻工藝的加工能力如表1所示表 權(quán)利要求
1.一種金屬標(biāo)牌的蝕刻工藝，設(shè)計(jì)被加工物的形象后利用精密照片技術(shù)，在面材表面通過曝光機(jī)感光分層的干膜，沒有曝光的顯露部位使用化工藥品進(jìn)行強(qiáng)行分解融化，去除， 包括以下步驟(1)檢查面材；(2)表面脫脂前處理利用堿性藥品進(jìn)行表面處理，除去材料表面附著的油性成分以及異物；(3)貼層干膜在處理好的面材的上下表面采用感光膠貼膜；(4)曝光在面材的上下表面均貼上菲林進(jìn)行曝光；(5)顯像采用碳酸鈉溶液；(6)蝕刻，腐蝕液為氯化鐵溶液；(7)脫模；(8)回收產(chǎn)品并檢測(cè)。
2.如權(quán)利要求1所述的蝕刻工藝，其特征在于，面材采用用不銹鋼或鋁，面材厚度為 0. 050-0. 500mm。
3.如權(quán)利要求2所述的蝕刻工藝，其特征在于，脫脂前處理后，水洗，酸洗，再次水洗后，進(jìn)行烘干。
4.如權(quán)利要求3所述的蝕刻工藝，其特征在于，貼膜機(jī)的貼膜速度為1.0-3. OM/min，貼膜溫度為110-130°C。
5.如權(quán)利要求4所述的蝕刻工藝，其特征在于，曝光量為30-6-mj，其中，上表面和下表面的菲林尺寸一致。
6.如權(quán)利要求5所述的蝕刻工藝，其特征在于，顯像速度為1.8士0.5M/min，完成顯像的產(chǎn)品進(jìn)行高溫干燥，烘干時(shí)防止表面劃傷，干燥溫度為150°C，干燥時(shí)間為5-7分鐘
7.如權(quán)利要求6所述的蝕刻工藝，其特征在于，氯化鐵溶液的濃度為36%-43%，溫度為 50士2°C。
8.如權(quán)利要求7所述的蝕刻工藝，其特征在于，脫模速度為1.5士 1. OM/min，脫模液為堿性的脫模劑配制。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種采用蝕刻工藝制作金屬標(biāo)牌的方法，設(shè)計(jì)被加工物形象后利用精密照片技術(shù)，在材料表面通過曝光機(jī)感光分層的干膜，沒有曝光的顯露部位使用化工藥品進(jìn)行強(qiáng)行分解融化，去除，是加工生產(chǎn)超細(xì)微精密形象產(chǎn)品的技術(shù)，比起沖床，雕刻加工等具有很多優(yōu)點(diǎn)，適用于廣泛的高端技術(shù)，特別是半導(dǎo)體技術(shù)，在一次加工產(chǎn)品上蝕刻技術(shù)被認(rèn)為是最符合的技術(shù)。
文檔編號(hào)C23F1/14GK102220583SQ201110123159
公開日2011年10月19日 申請(qǐng)日期2011年5月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月13日
發(fā)明者羅文星, 葛成鎮(zhèn) 申請(qǐng)人:羅文星, 葛成鎮(zhèn), 青島長(zhǎng)弓塑模有限公司