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經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi壓縮機(jī)葉片及其制備工藝的制作方法

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專(zhuān)利名稱(chēng):經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi壓縮機(jī)葉片及其制備工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及制冷行業(yè)的壓縮機(jī)葉片,尤其涉及一種經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi 壓縮機(jī)葉片及其制備工藝。
背景技術(shù)
隨著制冷行業(yè)的發(fā)展和全球氣候變暖,制冷空調(diào)、冰箱的使用越來(lái)越普遍。任何制冷系統(tǒng)都是由壓縮機(jī)、冷凝器、蒸發(fā)器三大核心模塊組成。制冷系統(tǒng)工作時(shí),壓縮機(jī)將冷凍劑壓縮成高壓飽和氣體,這種氣態(tài)冷凍劑經(jīng)過(guò)冷凝器冷凝,并通過(guò)節(jié)流裝置節(jié)流之后,通入到蒸發(fā)器蛇行管內(nèi),將所需要冷卻的媒介(如房間的空氣)冷卻換熱后變成低壓蒸氣流回到壓縮機(jī),再被壓縮機(jī)壓縮,這樣反復(fù)循環(huán)運(yùn)行就完成了制冷過(guò)程。制熱系統(tǒng)也大致是這個(gè)原理,只是方式相反。制冷壓縮機(jī)種類(lèi)和形式很多,根據(jù)原理可分容積型和速度型兩類(lèi),其中容積式是最為普遍的。轉(zhuǎn)子葉片式容積型壓縮機(jī)具有結(jié)構(gòu)緊湊、運(yùn)動(dòng)部件少;體積小,重量輕;排氣壓力脈動(dòng)小,容積效率高等特點(diǎn)。目前在小容量的空調(diào)壓縮機(jī)中占有主導(dǎo)地位,并在中央空調(diào)中已得到廣泛應(yīng)用。葉片作為轉(zhuǎn)子葉片式壓縮機(jī)的重要零部件,它將汽缸內(nèi)部空間一分為二,當(dāng)壓縮機(jī)主軸帶動(dòng)偏心轉(zhuǎn)子緊貼汽缸內(nèi)壁旋轉(zhuǎn)一周時(shí),葉片始終與偏心轉(zhuǎn)子滾動(dòng)接觸,并造成汽缸內(nèi)月牙形空間容積發(fā)生周期性變化,致使制冷劑蒸氣發(fā)生體積和溫度上的變化,從而完成吸入和壓縮制冷劑的任務(wù)。為了保證在壓縮機(jī)偏心轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)過(guò)程中完成制冷劑吸入和壓縮的任務(wù),并達(dá)到低噪聲和長(zhǎng)壽命之目的,不僅要求葉片與滾動(dòng)轉(zhuǎn)子間,葉片與汽缸滑槽間配合緊密,還要求這兩對(duì)摩擦副之間的摩擦系數(shù)盡量降低,長(zhǎng)時(shí)間正常運(yùn)行,因此,除對(duì)葉片加工精度要求很高夕卜,它應(yīng)具有低的摩擦系數(shù)和很好的抗磨、抗腐蝕性能。目前葉片通常采用高速鋼等高級(jí)合金工具鋼制成。由于合金工具鋼中含碳量高,且含有大量的W、Mo、Cr、V等合金元素,冶煉、澆注、塑性成形和熱處理工藝等整個(gè)加工制造流程十分復(fù)雜,其原材料成本高。以目前使用最為廣泛的M2 (W6Mo5Cr4V2)高速鋼葉片為例,現(xiàn)今國(guó)內(nèi)M2原材料市場(chǎng)價(jià)為5 7萬(wàn)元 /噸。原材料進(jìn)廠后,為了改善高速鋼葉片本身的切削加工性,需要采用比較復(fù)雜的和嚴(yán)格的退火工藝;高速鋼葉片粗加工后,則必須進(jìn)行120(Γ1240 高溫淬火,促使鋼中碳化物溶解,以提高奧氏體中合金元素和碳的含量(葉片的高溫淬火是影響其使用性能最敏感的工序,也是工藝控制難度最大的工藝);葉片隨后再在出現(xiàn)“二次硬化”的溫度廣560°c )下進(jìn)行三次回火處理;最后還要進(jìn)行表面滲氮處理,以進(jìn)一步提高高速鋼葉片表面的強(qiáng)度、硬度, 其加工工藝復(fù)雜,要求高。眾所周知,由于摩擦磨損在葉片的表面進(jìn)行,腐蝕也從表面開(kāi)始,若采用加工性能好的結(jié)構(gòu)鋼作為基材,運(yùn)用先進(jìn)的表面改性技術(shù)賦予葉片表面以特殊的成分、組織結(jié)構(gòu)和性能,從而能最經(jīng)濟(jì)而有效地提高葉片質(zhì)量和延長(zhǎng)使用壽命,并大大降低葉片成本。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)目前壓 縮機(jī)葉片原材料成本高,加工工藝復(fù)雜等問(wèn)題,本發(fā)明的目的在于提供一種采用普通的結(jié)構(gòu)鋼,即20CrMnTi作為壓縮機(jī)葉片的基材,經(jīng)復(fù)合表面改性制得的壓縮機(jī)葉片;
本發(fā)明的另一目的在于提供這種壓縮機(jī)葉片的制備工藝。實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的技術(shù)方案如下
經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi壓縮機(jī)葉片,葉片采用20CrMnTi作為壓縮機(jī)葉片的基材,經(jīng)整體調(diào)質(zhì)熱處理并采用短時(shí)滲氮工藝先對(duì)其表面進(jìn)行化學(xué)熱處理,滲氮層厚度 0. 18^0. 25mm,硬度約為950HV ;然后在與偏心轉(zhuǎn)子滾動(dòng)接觸的葉片處(R面)的滲氮層上再沉積Cr-Al-Ti-N膜,Cr-Al-Ti-N膜的納米硬度高達(dá)23GPa,沉積厚度為3 5 μ m。所述 20CrMnTi 滲氮鋼的化學(xué)成分(w t 為C :0· 17 0. 23 ; Cr 1. 00 1· 30 ; Mn 0. 80 1· 10 ; Ti 0. 04 0. 10 ;Si 0. 17 0. 37。經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi壓縮機(jī)葉片的制備工藝,包括如下步驟
1)、以20CrMnTi為基材的葉片經(jīng)割片和粗加工后進(jìn)行整體調(diào)質(zhì)熱處理,調(diào)質(zhì)熱處理的工藝條件為淬火91(T93(TC油淬,高溫回火56(T62(TC空冷,調(diào)質(zhì)后硬度為225HBW ;
為了改善葉片內(nèi)部組織結(jié)構(gòu),保證其心部獲得足夠的強(qiáng)韌性,從而為滲氮作好組織準(zhǔn)備,滲氮前必須進(jìn)行調(diào)質(zhì)(淬火+高溫回火)熱處理,以獲得所需要的回火索氏體組織。實(shí)踐證明,滲氮前組織對(duì)滲氮后葉片質(zhì)量有很大影響,切忌出現(xiàn)塊狀鐵素體,否則將引起滲氮層脫落。若滲氮前原始組織中鐵素體量增加,將使氮化層脆性增加,并使調(diào)質(zhì)熱處理效果降低,進(jìn)而影響滲氮葉片心部和表面硬度,故特別要控制鐵素體的量。根據(jù)GB/T11354-2005 《鋼鐵零件滲氮層深度測(cè)定和金相組織檢驗(yàn)》中規(guī)定,滲氮前組織應(yīng)為均勻細(xì)針狀回火索氏體和游離鐵素體體積分?jǐn)?shù)<5%。另外,回火溫度高低對(duì)葉片滲氮層硬度和深度的影響不可忽視。通常隨著回火溫度升高,回火后硬度降低,滲氮層硬度也降低,而滲氮層深度增加
2)、對(duì)調(diào)質(zhì)熱處理后的葉片進(jìn)行半精加工后,需進(jìn)行一次去應(yīng)力回火處理,去應(yīng)力回火處理的工藝條件為溫度為55(T600°C,處理時(shí)間為2h ;
為減少去應(yīng)力回火處理過(guò)程中的氧化脫碳現(xiàn)象,回火在保護(hù)氣氛或真空狀態(tài)下進(jìn)行, 保溫畢隨爐冷至200°C出爐空冷。3)、對(duì)去應(yīng)力回火處理后的葉片進(jìn)行精加工后,采用短時(shí)高效的滲氮工藝對(duì)其進(jìn)行表面化學(xué)熱處理。傳統(tǒng)的滲氮化學(xué)熱處理工藝時(shí)間甚至長(zhǎng)達(dá)幾十小時(shí)。這樣,不僅耗能、耗材,生產(chǎn)周期長(zhǎng)、效率低,而且由于長(zhǎng)期在500°C以上保溫,滲氮零件容易變形,尺寸精度難以滿足要求。何況,由于化合物層厚,也導(dǎo)致滲層脆性大,對(duì)其耐磨性的提高不利。針對(duì)壓縮機(jī)葉片服役時(shí)負(fù)荷不大,但對(duì)耐磨性和尺寸精度要求高的特點(diǎn),本發(fā)明采用短時(shí)高效的滲氮工藝對(duì)其表面進(jìn)行化學(xué)熱處理,不僅可避免傳統(tǒng)的滲氮工藝帶來(lái)的弊病,而且由于滲氮層中化合物層很薄,故其脆性不大,可以帶著化合物層服役,反而可大幅度提高其耐磨性能。推薦的短時(shí)氣體滲氮工藝530 560°C 4飛小時(shí)氨分解率30%飛0%出爐油冷,滲氮層厚度 0. 18 0. 25mm,硬度約為 950HV。20CrMnTi葉片滲氮化學(xué)熱處理可以采用氣體、液體和離子滲氮的任何一種。4)、對(duì)經(jīng)表面滲氮處理的葉片進(jìn)行研磨和滾拋后,在與偏心轉(zhuǎn)子滾動(dòng)接觸的葉片處(R面)的滲氮層上再沉積Cr-Al-Ti-N膜,以進(jìn)一步提高葉片的耐磨性能和使用壽命,其工 藝過(guò)程為經(jīng)研磨后的滲氮葉片用去離子水、無(wú)水酒精和丙酮超聲波分別清洗lOmin,烘干后放入Teer公司的四靶非平衡磁控濺射設(shè)備UDP850/4系統(tǒng)真空室內(nèi),其中兩個(gè)為Cr (99. 99%)靶,一個(gè)Al (99. 99%)靶,一個(gè)Ti (99. 99%)靶,反應(yīng)氣體為N2, OEM檢測(cè)Cr靶控制隊(duì)流量。鍍膜前先將真空抽至3. OX ICT3Pa以下,以Ar (99. 999為濺射氣體,施加 550 V的負(fù)偏壓對(duì)基體進(jìn)行等離子體清洗15 min,以獲得清潔的基體表面,提高膜-基的結(jié)合強(qiáng)度;沉積過(guò)程中維持工作氣壓為8. OX 10_2 Pa,對(duì)基體施加60 75V的負(fù)偏壓,Cr靶電流為3 5A,Al和Ti靶電流為5 7A,濺射時(shí)間為2 5h。在磁控濺射沉積過(guò)程中,通過(guò)緩慢地線性改變鍍膜的工藝參數(shù),可使鍍層組織結(jié)構(gòu)由一開(kāi)始的Cr底層和Cr-Al-N膜過(guò)渡層逐漸平穩(wěn)過(guò)渡到Cr-Al-Ti-N鍍層。Cr-Al-Ti-N 鍍層的納米硬度高達(dá) 23GPa,沉積厚度約為3飛μπι。
本發(fā)明壓縮機(jī)葉片的基材選用的20CrMnTi屬于低碳合金滲氮鋼,由于Cr、Ti、 Mn添加可使該鋼滲氮處理后形成高度彌散的且具有高度熱穩(wěn)定性的合金氮化物,從而獲得很高的硬度(80(T1000HV ),耐磨性和疲勞強(qiáng)度好,且抗蝕性能也得到了提高, 可廣泛用于需高硬度、高耐磨而又沖擊不大的零件。此外,由于20CrMnTi屬于結(jié)構(gòu)鋼,其車(chē)、銑、刨、鉆、磨等機(jī)加工性能好,葉片的調(diào)質(zhì)熱處理工藝(91(T93(TC淬火+60(T620°C回火)也比高速鋼的120(Tl24(rC高溫淬火+560°C回火處理三次簡(jiǎn)單、操作性強(qiáng),何況高速鋼葉片機(jī)加工前還必須進(jìn)行嚴(yán)格的球化退火熱處理。因此,壓縮機(jī)葉片選用20CrMnTi滲氮鋼不僅原材料成本低,而且具有加工工藝簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。采用滲氮+ Cr-Al-Ti-N膜復(fù)合材料表面改性處理后的葉片,由于滲氮層提高了基體表面的硬度而使其承載能力提高,既給予最外層的Cr-Al-Ti-N鍍層以強(qiáng)有力的支撐, 又降低了膜/基界面的硬度梯度,合理的硬度和應(yīng)力梯度分布,良好的組織匹配是工程師所渴望的;而與偏心轉(zhuǎn)子直接接觸的Cr-Al-Ti-N膜又具有如此高的硬度,這樣經(jīng)復(fù)合表面改性處理的葉片,其耐磨性得到顯著地提高,并進(jìn)一步提高了葉片抗疲勞、抗腐蝕能力,使用壽命大大延長(zhǎng)。本發(fā)明采用加工性好的20CrMnTi滲氮鋼經(jīng)整體調(diào)質(zhì)熱處理后采用滲氮+ PVD復(fù)合材料表面改性處理來(lái)制備葉片,不僅大大降低了原材料成本,其原材料價(jià)格僅相當(dāng)于高速鋼價(jià)格的1/7 1/10,還進(jìn)一步提高了葉片的耐磨性、抗疲勞、抗腐蝕能力,這也符合當(dāng)前節(jié)能、環(huán)保和低耗的原則,從而為復(fù)合材料表面改性的滲氮鋼壓縮機(jī)葉片應(yīng)用提供了廣闊前景。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合具體的實(shí)施例進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明是如何實(shí)現(xiàn)的,本實(shí)施例在以本發(fā)明技術(shù)方案為前提下進(jìn)行實(shí)施,給出了詳細(xì)的實(shí)施方式和具體的操作過(guò)程,但本發(fā)明的保護(hù)范圍不限于下述的實(shí)施例。
實(shí)施例1 1)20CrMnTi葉片經(jīng)割片和粗加工后進(jìn)行整體調(diào)質(zhì)熱處理,其工藝為淬火930°C(油淬),回火560°C (空冷),調(diào)質(zhì)后硬度 235HBW ;
2)進(jìn)行半精加工一去應(yīng)力回火(560°C2h)—精加工;
3)葉片短時(shí)滲氮化學(xué)熱處理工藝為530°C6h,氨分解率45%,出爐油冷;滲氮層厚度 0.20mm,硬度為、70HV。葉片滲氮畢進(jìn)行研磨一滾拋,然后送去鍍膜。4) R面沉積Cr-Al-Ti-N膜依次用去離子水、無(wú)水酒精和丙酮超聲波將滲氮葉片各清洗lOmin,烘干后放入Teer公司的四靶非平衡磁控濺射設(shè)備UDP850/4系統(tǒng)真空室內(nèi)。鍍膜前先將真空抽至3. OX ICT3Pa以下,以Ar(99. 999% )為濺射氣體,施加550 V的負(fù)偏壓對(duì)基體進(jìn)行等離子體清洗15 min ;沉積過(guò)程中維持工作氣壓為8. OX 10— 2 Pa,對(duì)基體施加70 V的負(fù)偏壓,Cr靶電流為5A,A1和Ti靶電流為7A,濺射時(shí)間為4h。測(cè)得的膜層摩擦系數(shù)為、.5,鍍層納米硬度為23.4GPa,膜基的臨界載荷>80N,膜層厚度為飛μ m,。 最后葉片進(jìn)行檢驗(yàn)、包裝。
實(shí)施例2
1)20CrMnTi葉片經(jīng)割片和粗加工后進(jìn)行整體調(diào)質(zhì)熱處理,其工藝為淬火910°C(油淬),回火600°C (空冷),調(diào)質(zhì)后硬度 226HBW ;
2)進(jìn)行半精加工一去應(yīng)力回火(580°C2h)—精加工;
3)葉片短時(shí)滲氮化學(xué)熱處理工藝為550°C5h,氨分解率55%,出爐油冷;滲氮層厚度 ^O. 24mm,硬度為、20HV。葉片滲氮畢進(jìn)行研磨一滾拋,然后送去鍍膜。4) R面沉積Cr-Al-Ti-N膜依次用去離子水、無(wú)水酒精和丙酮超聲波將滲氮葉片各清洗lOmin,烘干后放入Teer公司的四靶非平衡磁控濺射設(shè)備UDP850/4系統(tǒng)真空室內(nèi)。鍍膜前先將真空抽至3. OX ICT3Pa以下,以Ar(99. 999% )為濺射氣體,施加550 V的負(fù)偏壓對(duì)基體進(jìn)行等離子體清洗15 min ;沉積過(guò)程中維持工作氣壓為8. OX 10— 2 Pa,對(duì)基體施加60 V的負(fù)偏壓,Cr靶電流為3A,A1和Ti靶電流為5A,濺射時(shí)間為4h。測(cè)得的膜層摩擦系數(shù)為、.5,鍍層納米硬度為22.86 ^膜基的臨界載荷>80隊(duì)膜層厚度為 3μπι,。 最后葉片進(jìn)行檢驗(yàn)、包裝。
實(shí)施例3
1)20CrMnTi葉片經(jīng)割片和粗加工后進(jìn)行整體調(diào)質(zhì)熱處理,其工藝為淬火920°C(油淬),回火580°C (空冷),調(diào)質(zhì)后硬度 231HBW;
2)進(jìn)行半精加工一去應(yīng)力回火(570°C2h)—精加工;
3)葉片短時(shí)滲氮化學(xué)熱處理工藝為540°C6h,氨分解率45%,出爐油冷;滲氮層厚度 0.22mm,硬度為、50HV。葉片滲氮畢進(jìn)行研磨一滾拋,然后送去鍍膜。4)R面沉積Cr-Al-Ti-N膜依次用去離子水、無(wú)水酒精和丙酮超聲波將滲氮葉片各清洗lOmin,烘干后放入Teer公司的四靶非平衡磁控濺射設(shè)備UDP850/4系統(tǒng)真空室內(nèi)。鍍膜 前先將真空抽至3. 0X10_3Pa以下,以Ar(99. 999% )為濺射氣體,施加550 V的負(fù)偏壓對(duì)基體進(jìn)行等離子體清洗15 min ;沉積過(guò)程中維持工作氣壓為8. OX 10— 2 Pa,對(duì)基體施加70 V的負(fù)偏壓,Cr靶電流為4A,A1和Ti靶電流為6A,濺射時(shí)間為4h。測(cè)得的膜層摩擦系數(shù)為、.5,鍍層納米硬度為23.06 ^膜基的臨界載荷>80隊(duì)膜層厚度為、μ m,。 最后葉片進(jìn)行檢驗(yàn)、包裝。
權(quán)利要求
1.經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi壓縮機(jī)葉片,其特征在于葉片采用20CrMnTi作為壓縮機(jī)葉片的基材,經(jīng)整體調(diào)質(zhì)熱處理并采用短時(shí)滲氮工藝先對(duì)其表面進(jìn)行化學(xué)熱處理,滲氮層厚度0. 18^0. 25mm,硬度約為950HV ;在與偏心轉(zhuǎn)子滾動(dòng)接觸的葉片處的滲氮層上再沉積Cr-Al-Ti-N膜,Cr-Al-Ti-N膜的納米硬度為23GPa,沉積厚度為3 5 μ m。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi壓縮機(jī)葉片,其特征在于,所述 20CrMnTi 滲氮鋼的化學(xué)成分為C 0. 17 0. 23 ;Cr 1. 00 1. 30 ;Mn 0. 80 1. 10 ;Ti 0. 04 0. 10 ;Si 0. 17 0. 37,上述百分比為重量百分比。
3.經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi壓縮機(jī)葉片的制備工藝,包括如下步驟1)、以20CrMnTi為基材的葉片經(jīng)割片和粗加工后進(jìn)行整體調(diào)質(zhì)熱處理,調(diào)質(zhì)熱處理的工藝條件為淬火91(T93(TC油淬,高溫回火56(T62(TC空冷,調(diào)質(zhì)后硬度為225HBW ;2)、對(duì)調(diào)質(zhì)熱處理后的葉片進(jìn)行半精加工后,需進(jìn)行一次去應(yīng)力回火處理,去應(yīng)力回火處理的工藝條件為溫度為55(T600°C,處理時(shí)間為2h ;3)、對(duì)去應(yīng)力回火處理后的葉片進(jìn)行精加工后,先采用短時(shí)滲氮工藝對(duì)其表面進(jìn)行化學(xué)熱處理,短時(shí)滲氮化學(xué)熱處理工藝的特征在于滲氮溫度為530 5600C,滲氮工藝周期為4飛小時(shí),氨分解率為30%飛0%,出爐油冷,滲氮層厚0. 18 0. 25mm,滲氮層厚度硬度為 950HV ;4)、對(duì)經(jīng)表面滲氮處理的葉片進(jìn)行研磨和滾拋后,在與偏心轉(zhuǎn)子滾動(dòng)接觸的葉片處(R 面)的滲氮層上再沉積Cr-Al-Ti-N膜,其工藝過(guò)程為先對(duì)滲氮葉片進(jìn)行徹底地清洗,烘干后放入四靶非平衡磁控濺射設(shè)備UDP850/4系統(tǒng)真空室內(nèi),其中兩個(gè)純度為99. 99%的Cr 靶,一個(gè)純度為99. 99%的Al靶,一個(gè)純度為99. 99%的Ti靶,反應(yīng)氣體為N2,鍍膜前先將真空抽至3. OX ICT3Pa以下,以純度為99. 999%的Ar為濺射氣體,施加550 V的負(fù)偏壓對(duì)基體進(jìn)行等離子體清洗15 min ;沉積過(guò)程中維持工作氣壓為8. 0 X 10—2 Pa,對(duì)基體施加60 75V的負(fù)偏壓,Cr靶電流為3 5A,A1和Ti靶電流為5 7A,濺射時(shí)間為2 5h,Cr-Al-Ti-N鍍層的納米硬度高達(dá)23GPa,沉積厚度為3飛μπι。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi壓縮機(jī)葉片的制備工藝,其特征在于所述2)步驟中去應(yīng)力回火處理過(guò)程中,回火在保護(hù)氣氛或真空狀態(tài)下進(jìn)行,保溫畢隨爐冷至200°C出爐空冷。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi壓縮機(jī)葉片的制備工藝,其特征在于所述3)步驟中滲氮化學(xué)熱處理采用氣體、液體和離子滲氮中的任何一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi壓縮機(jī)葉片的制備工藝,其特征在于所述4)步驟中對(duì)滲氮葉片清洗是先用去離子水、無(wú)水酒精和丙酮超聲波分別清洗 lOmin,烘干后放入真空室內(nèi),鍍膜前再用純Ar氣體,對(duì)基體進(jìn)行等離子體清洗15 min。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了經(jīng)復(fù)合表面改性的20CrMnTi壓縮機(jī)葉片及其制備工藝,葉片采用20CrMnTi作為壓縮機(jī)葉片的基材,經(jīng)整體調(diào)質(zhì)熱處理并采用表面短時(shí)滲氮化學(xué)熱處理后,在與偏心轉(zhuǎn)子滾動(dòng)接觸的葉片處(R面)的滲氮層上再沉積Cr-Al-Ti-N膜,其工藝路線為:割片→粗加工→調(diào)質(zhì)處理(淬火+高溫回火)→半精加工→去應(yīng)力回火→精加工→滲氮化學(xué)熱處理→研磨→滾拋→R面沉積Cr-Al-Ti-N膜→檢驗(yàn)。本發(fā)明采用加工性好的20CrMnTi滲氮鋼經(jīng)整體調(diào)質(zhì)熱處理后采用滲氮+PVD復(fù)合材料表面改性處理來(lái)制備葉片,不僅大大降低了原材料成本,且進(jìn)一步提高了葉片的耐磨性、抗疲勞、抗腐蝕能力,節(jié)能、環(huán)保和低耗。
文檔編號(hào)C23C14/35GK102352845SQ201110317849
公開(kāi)日2012年2月15日 申請(qǐng)日期2011年10月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月19日
發(fā)明者周仔麒, 唐云龍, 張碧云, 李凡巧, 林大明, 胡利萍, 蔡珣 申請(qǐng)人:上海西工壓縮機(jī)配件有限公司, 浙江匯錦梯爾鍍層科技有限公司
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