專利名稱：鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于一種鍍膜裝置，尤其涉及一種對(duì)條狀且尺寸較小的工件進(jìn)行鍍膜的裝置。
背景技術(shù)：
在物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)的過程中，祀材原子或離子沉積在基材上成膜，但是因?yàn)榇庸ば〕叽绻ぜ厥獾慕Y(jié)構(gòu)和形狀，如常規(guī)鍍膜方式難以實(shí)現(xiàn)的具有條狀結(jié)構(gòu)的小尺寸工件，在進(jìn)行離子鍍膜時(shí)，由于上述條狀的尺寸較小的工件具有端面和尖端部位，導(dǎo)致該類工件表面通常曲率較大，因此，電荷極易在尖端和端面位置聚集，產(chǎn)生尖端放電，改變了該類工件表面的電場(chǎng)強(qiáng)度分布，使得對(duì)該類工件進(jìn)行離子鍍膜的困難較大，直接影響了產(chǎn)品的鍍膜品質(zhì)和良率。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能對(duì)具有條狀結(jié)構(gòu)且尺寸較小的工件進(jìn)行鍍膜的鍍膜
>J-U ρ α裝直。一種鍍膜裝置，用于對(duì)待鍍膜工件進(jìn)行鍍膜，該鍍膜裝置包括承載臺(tái)及至少一對(duì)導(dǎo)電平板，該承載臺(tái)包括一承載面，用以承載該待鍍膜工件且使該待鍍膜工件置于該導(dǎo)電平板形成的電場(chǎng)中，面向該承載臺(tái)的承載面且間隔該承載面設(shè)有一離子源，該導(dǎo)電平板垂直于該承載臺(tái)的承載面設(shè)置于承載臺(tái)上，并以待鍍膜工件為中心對(duì)稱設(shè)置于其兩側(cè)，該導(dǎo)電平板相對(duì)于鍍膜工件勻速旋轉(zhuǎn)。

本發(fā)明利用安裝在該鍍膜裝置中承載盤上的導(dǎo)電平板放電，提供一旋轉(zhuǎn)聚焦電場(chǎng)，在位于兩導(dǎo)電平板之間的工件周圍產(chǎn)生一指向工件的聚焦電場(chǎng)，鍍膜的飛濺離子在電場(chǎng)作用下加速向工件聚焦并沉積在工件上，從而克服了因小尺寸工件其條狀結(jié)構(gòu)存在的端面和尖端部位所形成尖端放電而改變工件表面的電場(chǎng)強(qiáng)度分布所導(dǎo)致離子鍍膜困難的問題。


圖1是本發(fā)明較佳實(shí)施例鍍膜裝置立體圖。圖2是本發(fā)明較佳實(shí)施例鍍膜裝置俯視圖。圖3本發(fā)明中導(dǎo)電平板與工件之間電場(chǎng)示意圖。圖4本發(fā)明中另一實(shí)施例鍍膜裝置的俯視圖。主要元件符號(hào)說明
鍍膜裝置 I loo承載臺(tái)10
工件固定部_ TT導(dǎo)電平板 20工件130離子源 |4~Γ如下具體實(shí)施方式
將結(jié)合上述附圖進(jìn)一步說明本發(fā)明。
具體實(shí)施例方式參見圖1-3，本發(fā)明 較佳實(shí)施例提供一種鍍膜裝置100，用于對(duì)具有條狀結(jié)構(gòu)且尺寸較小的工件30進(jìn)行鍍膜，該待鍍膜的工件30可選為一尺寸較小的長條體，該長條體也可為是一圓柱體，其直徑的尺寸可為小于O. 5cm。該鍍膜裝置100包括承載臺(tái)10、至少一對(duì)導(dǎo)電平板20及一離子源40。該至少一對(duì)導(dǎo)電平板20垂直于承載臺(tái)10的承載面設(shè)置,待鍍膜的工件30固定于承載臺(tái)10中部，與該一對(duì)導(dǎo)電平板20形成一加速電場(chǎng)E。該導(dǎo)電平板20以鍍膜工件30為中心對(duì)稱設(shè)置于其兩側(cè)，在該承載臺(tái)10旋轉(zhuǎn)時(shí)，繞鍍膜工件30做勻速旋轉(zhuǎn)。參見圖2，該承載臺(tái)10大致為一圓盤形，圓盤的中心設(shè)有固定部11，該固定部11可固定待鍍膜的工件30，在實(shí)施例中，該固定部11與承載臺(tái)10同圓心設(shè)置，該固定部11上設(shè)置有若干凹孔(未圖不)，用于固定工件30。參見圖1和圖2,每一導(dǎo)電平板20為一平板狀，每對(duì)導(dǎo)電平板20以固定于固定部11上的待鍍膜工件30為中心相對(duì)稱地設(shè)置于承載臺(tái)10上。該導(dǎo)電平板20形成于承載臺(tái)10的方式可以為鉚入、嵌入或粘合，也可為其他的固定方式。其可與承載臺(tái)10—同勻速旋轉(zhuǎn)。鍍膜過程中，該導(dǎo)電平板20為正極，該待鍍膜的工件30為負(fù)極，通過對(duì)該導(dǎo)電平板20施加電壓，使其在兩相對(duì)設(shè)置的導(dǎo)電平板20之間產(chǎn)生指向待鍍膜的工件30的旋轉(zhuǎn)聚焦的電場(chǎng)E，該聚焦電場(chǎng)E可以引導(dǎo)靶材離子41飛濺到該待鍍膜的工件30表面上，以實(shí)現(xiàn)對(duì)待鍍膜工件30鍍膜。參見圖1，該承載臺(tái)10上部設(shè)有一離子源40，該離子源為負(fù)極，該導(dǎo)電平板為正極，其可在鍍膜時(shí)提供鍍膜離子41，該離子41進(jìn)入該承載臺(tái)10上形成的聚焦電場(chǎng)E中，被引導(dǎo)濺射到待鍍膜工件30上。參見圖3，該導(dǎo)電平板20與承載臺(tái)10 —同旋轉(zhuǎn)過程中，導(dǎo)電平板20對(duì)工件30形成屏蔽效應(yīng)，即在一對(duì)導(dǎo)電平板20與工件30之間形成一加速電場(chǎng)E。使得進(jìn)入該電場(chǎng)的離子41只在該加速電場(chǎng)E內(nèi)隨電場(chǎng)線引導(dǎo)軌跡運(yùn)動(dòng)。如上所述，當(dāng)靶材離子41進(jìn)入該加速電場(chǎng)E區(qū)域時(shí)，受到指向工件30的電場(chǎng)力作用下，產(chǎn)生了指向旋轉(zhuǎn)盤所運(yùn)動(dòng)方向的速度V1和另一個(gè)從導(dǎo)電平板20指向工件30的運(yùn)動(dòng)速度\。在此復(fù)合運(yùn)動(dòng)下，離子會(huì)產(chǎn)生一個(gè)指向待鍍膜工件30的合速度V，當(dāng)離子41越靠近工件，由于所處加速電場(chǎng)E的電場(chǎng)線越分布密集，電場(chǎng)強(qiáng)度越大，離子41所受電場(chǎng)力就越大，并不斷增加的加速度沉積于工件30表面之上。在加速電場(chǎng)E的引導(dǎo)下，離子41會(huì)更準(zhǔn)確地飛濺到待鍍膜的工件30上，從而，克服了因小尺寸工件其條狀結(jié)構(gòu)存在的端面和尖端部位所形成尖端放電并改變工件表面的電場(chǎng)強(qiáng)度分布而導(dǎo)致離子鍍膜困難的問題?？梢岳斫?，在本優(yōu)選的另一實(shí)施方式中，該鍍膜裝置100中固定于該承載臺(tái)10中心的待鍍膜的工件30在鍍膜時(shí)可以自身勻速旋轉(zhuǎn)，此時(shí)，固定于承載臺(tái)10兩側(cè)的導(dǎo)電平板20則可同靜止不動(dòng)，此時(shí)，導(dǎo)電平板20形成的加速電場(chǎng)E引導(dǎo)鍍膜離子轟擊并濺射待鍍膜的工件30的方式與上述本發(fā)明較佳實(shí)施例相同。
可以理解，請(qǐng)參見圖4，該待鍍膜的工件30每次安裝在承載臺(tái)10中間固定部11的數(shù)量可為多個(gè)。相較現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明利用安裝在該鍍膜裝置100中承載臺(tái)10上的導(dǎo)電平板20放電，在位于兩導(dǎo)電平板20之 間的工件30周圍產(chǎn)生一指向工件30的旋轉(zhuǎn)聚焦電場(chǎng)，待鍍膜的飛濺離子41在加速電場(chǎng)E作用下加速向工件30聚焦并沉積在工件30上，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)長條狀且尺寸較小的工件30表面鍍膜，本發(fā)明不但可以解決在具有條狀的小尺寸工件表面鍍膜的問題，而且因?yàn)樵O(shè)置有兩個(gè)導(dǎo)電平板20在工件附近產(chǎn)生一聚焦旋轉(zhuǎn)電場(chǎng)，加大了沉積速度，使得離子41飛濺到工件30表面的作用力加大，從而，大幅提高膜層于工件30結(jié)合力。而且加工成本低廉，適合大規(guī)模量產(chǎn)。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜裝置，用于對(duì)待鍍膜工件進(jìn)行鍍膜，其特征在于該鍍膜裝置包括承載臺(tái)及至少一對(duì)導(dǎo)電平板，該承載臺(tái)包括一承載面，用以承載該待鍍膜工件且使該待鍍膜工件置于該導(dǎo)電平板形成的電場(chǎng)中，面向該承載臺(tái)的承載面且間隔該承載面設(shè)有一離子源，該導(dǎo)電平板垂直于該承載臺(tái)的承載面設(shè)置于承載臺(tái)上，并以待鍍膜工件為中心對(duì)稱設(shè)置于其兩側(cè)，該導(dǎo)電平板相對(duì)于鍍膜工件勻速旋轉(zhuǎn)。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于所述固定在承載臺(tái)兩側(cè)的導(dǎo)電平板勻速旋轉(zhuǎn)，該工件可在承載臺(tái)中心靜止不動(dòng)。
3.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于所述固定在承載臺(tái)兩側(cè)的導(dǎo)電平板靜止不動(dòng)，該工件可在承載臺(tái)中心勻速轉(zhuǎn)動(dòng)。
4.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的鍍膜裝置，其特征在于待鍍膜的工件為長條體或圓柱體，其尺寸直徑小于O. 5cm。
5.如權(quán)利要求4所述的鍍膜裝置，其特征在于該承載臺(tái)中部設(shè)有一固定部，待鍍膜工件固定于承載臺(tái)中部的固定部，該待鍍膜的工件通過鉚合、粘合或嵌入方式固定于承載臺(tái)。
全文摘要
一種鍍膜裝置，用于對(duì)待鍍膜工件進(jìn)行鍍膜，該鍍膜裝置包括承載臺(tái)及至少一對(duì)導(dǎo)電平板，該承載臺(tái)包括一承載面，用以承載該待鍍膜工件且使該待鍍膜工件置于該導(dǎo)電平板形成的電場(chǎng)中，面向該承載臺(tái)的承載面且間隔該承載面設(shè)有一離子源，該導(dǎo)電平板垂直于該承載臺(tái)的承載面設(shè)置于承載臺(tái)上，并以待鍍膜工件為中心對(duì)稱設(shè)置于其兩側(cè)，該導(dǎo)電平板相對(duì)于鍍膜工件勻速旋轉(zhuǎn)。本發(fā)明克服傳統(tǒng)鍍膜對(duì)尺寸較小的工件鍍膜效果不好的問題，且加工成本低，適合大規(guī)模量產(chǎn)使用。
文檔編號(hào)C23C14/32GK103060759SQ20111032269
公開日2013年4月24日 申請(qǐng)日期2011年10月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月21日
發(fā)明者黃登聰, 彭立全 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司