專利名稱：對(duì)輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)誤差的修正方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于精密光學(xué)加工技術(shù)領(lǐng)域，主要涉及一種修正輕質(zhì)反射鏡“壓印效應(yīng)”誤差的射流拋光修正方法。
背景技術(shù)：
近幾年，隨著航天技術(shù)的發(fā)展，具有高強(qiáng)度、低變形、高反射率的功能材料(如熔石英、ULE、微晶、SiC等)在該領(lǐng)域得以迅速應(yīng)用。為追求光學(xué)系統(tǒng)的集光能力和分辨能力， 并節(jié)約制造與發(fā)射成本，一般通過(guò)采用輕質(zhì)大尺寸非球面光學(xué)元件來(lái)提高系統(tǒng)成像質(zhì)量， 且鏡面的厚度越來(lái)越薄，即主鏡的徑厚比越來(lái)越高。輕質(zhì)結(jié)構(gòu)反射鏡輕量化的形式主要有三角形、扇形、蜂窩形、圓形及異性孔形等。不同的輕量化結(jié)構(gòu)對(duì)輕質(zhì)鏡的減重程度、結(jié)構(gòu)剛度、轉(zhuǎn)動(dòng)慣量、溫度特性、材料去除率及自重變形等特征產(chǎn)生不同的影響。受大口徑非球面更高輕量化趨勢(shì)的影響，輕質(zhì)鏡的裝卡與高精度加工方法成了亟待解決的問(wèn)題。目前，高精度輕質(zhì)反射鏡的光學(xué)加工方法主要有數(shù)控小工具(CCOS)、能動(dòng)磨盤 (CCAL)等拋光技術(shù)。由于輕質(zhì)反射鏡的口徑較大，采用數(shù)控小工具和能動(dòng)磨盤拋光時(shí)，磨盤口徑都大于或不小于輕質(zhì)反射鏡內(nèi)部筋孔口徑，在加工過(guò)程中，輕質(zhì)鏡反射面承受的壓強(qiáng)P 主要為磨盤壓力。相對(duì)于CCOS拋光技術(shù)，采用CCAL技術(shù)拋光時(shí)，鏡面承受壓力更大，彈性變形更為明顯。鏡面在磨頭壓力及重力作用下，結(jié)構(gòu)內(nèi)部筋支撐區(qū)域鏡面的彈性變形較孔區(qū)域鏡面的彈性變形較低，因此，筋支撐區(qū)域的鏡面去除量較孔區(qū)域鏡面更多。當(dāng)鏡面外力釋放后，筋支撐區(qū)凹陷下去，孔區(qū)域凸起，當(dāng)拋光鏡面面形達(dá)到較高精度時(shí)，鏡面呈現(xiàn)波浪形。 在外加壓力作用下，由于輕質(zhì)鏡鏡面各點(diǎn)彈性變形不一致而導(dǎo)致拋光后高精度面形呈現(xiàn)波浪形的現(xiàn)象稱之為“壓印效應(yīng)”。重力及磨頭壓力所引入的“壓印效應(yīng)”已成為輕質(zhì)結(jié)構(gòu)反射鏡高精度加工的技術(shù)壁壘。目前消除輕質(zhì)反射鏡“壓印效應(yīng)”的設(shè)計(jì)方法主要有內(nèi)腔充氣式與浸入充氣式。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決目前大口徑、高量化，高徑厚比的輕質(zhì)反射鏡高精度拋光時(shí)外加壓力引入的“壓印效應(yīng)”誤差問(wèn)題，本發(fā)明的目的是提供一種對(duì)輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)誤差的修正方法。為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的，本發(fā)明提供對(duì)輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)誤差的修正方法，其修正步驟如下步驟Sl 使用干涉儀檢測(cè)輕質(zhì)反射鏡，確定輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)的誤差分布數(shù)據(jù)，把輕質(zhì)反射鏡對(duì)準(zhǔn)安裝在拋光機(jī)床上，根據(jù)輕質(zhì)反射鏡口徑大小、誤差分布間距和安裝位置，對(duì)應(yīng)確定輕質(zhì)反射鏡在拋光機(jī)床坐標(biāo)系上的誤差分布的位置；步驟S2 從誤差分布的位置數(shù)據(jù)中，獲得射流拋光輕質(zhì)反射鏡材料的去除函數(shù)和去除函數(shù)數(shù)據(jù)；步驟S3 根據(jù)壓印效應(yīng)的誤差分布數(shù)據(jù)和去除函數(shù)數(shù)據(jù)，計(jì)算射流拋光過(guò)程中的駐留時(shí)間分布；步驟S4 根據(jù)輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)誤差位置的分布情況，根據(jù)輕質(zhì)反射鏡單元內(nèi)腔筋孔的形狀，采用軌跡規(guī)劃程序規(guī)劃射流拋光誤差修正過(guò)程中的射流拋光運(yùn)動(dòng)軌跡；步驟S5 基于駐留時(shí)間分布和射流拋光運(yùn)動(dòng)軌跡，生成相應(yīng)的拋光機(jī)床數(shù)控代碼；步驟S6 開啟射流拋光系統(tǒng)和機(jī)床數(shù)控系統(tǒng)，射流拋光頭在數(shù)控機(jī)床的控制下， 沖擊射流對(duì)準(zhǔn)輕質(zhì)反射鏡上不同點(diǎn)進(jìn)行材料去除加工，從而實(shí)現(xiàn)輕質(zhì)反射鏡全口徑或局部的誤差修正。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的優(yōu)點(diǎn)在于本發(fā)明通過(guò)射流拋光循環(huán)系統(tǒng)的增壓裝置對(duì)混有磨料粒子的拋光液加速，射流從射流拋光頭高速射出，通過(guò)轟擊輕質(zhì)反射鏡產(chǎn)生“壓印效應(yīng)”誤差的區(qū)域，實(shí)現(xiàn)誤差的去除修正。在現(xiàn)有方法拋光過(guò)程中，外加壓力引起輕質(zhì)鏡內(nèi)腔孔對(duì)應(yīng)鏡面與筋粘接鏡面彈性變形不連續(xù)而導(dǎo)致高精度拋光后，面形呈現(xiàn)波浪形的“壓印效應(yīng)”已成為輕質(zhì)結(jié)構(gòu)反射鏡高精度加工的技術(shù)壁壘。本發(fā)明公開的射流拋光“壓印效應(yīng)”修正方法，通過(guò)具有柔性的射流進(jìn)行材料去除加工，射流頭遠(yuǎn)小于輕質(zhì)鏡內(nèi)腔孔面區(qū)域，修正過(guò)程中不產(chǎn)生二次壓印效應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)大口徑，高輕量化反射鏡的“壓印效應(yīng)”誤差修正和高精度加工。本發(fā)明采用的方法是一種柔性加工方法，在定量修正輕質(zhì)反射鏡“壓印效應(yīng)”誤差的過(guò)程中，不產(chǎn)生二次“壓印效應(yīng)”，能有效地修正輕質(zhì)反射鏡“壓印效應(yīng)”誤差，提升輕質(zhì)反射鏡的面形精度。采用射流拋光修正輕質(zhì)反射鏡“壓印效應(yīng)”誤差的方法，該方法控制簡(jiǎn)單、 操作方便，能夠?qū)崿F(xiàn)大口徑、高輕量化、高徑厚比反射鏡的“壓印效應(yīng)”誤差的修正。


圖1是本發(fā)明采用射流拋光修正輕質(zhì)反射鏡“壓印效應(yīng)”誤差的方法流程圖；圖2是本發(fā)明“壓印效應(yīng)”誤差有限元分析具體實(shí)施例方式為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合具體實(shí)施例，并參照附圖，對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。本發(fā)明提出采用射流拋光方法修正輕質(zhì)反射鏡面形誤差，達(dá)到消除“壓印效應(yīng)”的目的。射流拋光方法是一種柔性加工方法，通過(guò)射流拋光循環(huán)系統(tǒng)的增壓裝置對(duì)混有磨料粒子的拋光液加速，射流從射流拋光頭高速射出，通過(guò)轟擊輕質(zhì)反射鏡產(chǎn)生“壓印效應(yīng)”誤差的區(qū)域，實(shí)現(xiàn)誤差的去除修正。由于射流拋光頭遠(yuǎn)小于輕質(zhì)鏡內(nèi)腔孔面區(qū)域，射流沖擊沖擊壓力和作用區(qū)域都很小，在誤差修正過(guò)程中不產(chǎn)生二次“壓印效應(yīng)”，從而實(shí)現(xiàn)大口徑，高輕量化反射鏡的“壓印效應(yīng)”誤差修正和高精度加工。在輕質(zhì)反射鏡拋光機(jī)床上加裝一個(gè)射流拋光頭，射流拋光頭通過(guò)軟管與射流拋光系統(tǒng)連接，通過(guò)射流拋光系統(tǒng)的控制系統(tǒng)控制射流的壓力、流速，通過(guò)數(shù)控機(jī)床的數(shù)控系統(tǒng)控制射流拋光頭距輕質(zhì)反射鏡的距離、沖擊方向、坐標(biāo)位置、駐留時(shí)間和運(yùn)動(dòng)軌跡，實(shí)現(xiàn)輕質(zhì)反射鏡表面“壓印效應(yīng)”誤差的定量去除。術(shù)語(yǔ)說(shuō)明本發(fā)明所指的坐標(biāo)位置即固定在機(jī)床上的輕質(zhì)反射鏡的“壓印效應(yīng)”誤差分布坐標(biāo)位置；術(shù)語(yǔ)說(shuō)明本發(fā)明所指的駐留時(shí)間即射流作用于輕質(zhì)反射鏡的某個(gè)“壓印效應(yīng)”誤差坐標(biāo)位置的時(shí)間，即在該點(diǎn)位置的拋光時(shí)間；術(shù)語(yǔ)說(shuō)明本發(fā)明所指的運(yùn)動(dòng)軌跡，是指射流拋光頭從一個(gè)誤差坐標(biāo)位置運(yùn)動(dòng)到另一個(gè)誤差坐標(biāo)位置所經(jīng)過(guò)的每個(gè)誤差位置連接形成的路徑信息；采用射流拋光修正輕質(zhì)反射鏡“壓印效應(yīng)”誤差的方法，通過(guò)在輕質(zhì)反射鏡拋光機(jī)床上加裝一個(gè)射流拋光頭，射流拋光頭由噴嘴和噴嘴控制裝置構(gòu)成，射流拋光頭通過(guò)軟管與射流拋光系統(tǒng)連接，射流拋光系統(tǒng)包括拋光液循環(huán)系統(tǒng)和拋光液增壓系統(tǒng)，拋光液循環(huán)系統(tǒng)包括回收泵和回收容器，其中回收泵可采用氣動(dòng)隔膜泵，回收容器配有攪拌器，防止拋光液中磨粒沉降；拋光液增壓系統(tǒng)包括增壓泵和管路控制和監(jiān)測(cè)裝置，增壓泵可采用液壓隔膜計(jì)量泵，如prominent Makro/5M5HaH250562型號(hào)的隔膜計(jì)量泵，通過(guò)射流拋光系統(tǒng)的控制系統(tǒng)控制射流的壓力、流速，通過(guò)數(shù)控機(jī)床的數(shù)控系統(tǒng)控制射流拋光頭距輕質(zhì)反射鏡的距離、沖擊方向、坐標(biāo)位置、駐留時(shí)間和運(yùn)動(dòng)軌跡，實(shí)現(xiàn)輕質(zhì)反射鏡表面“壓印效應(yīng)”誤差的定量去除。采用射流拋光方法修正輕質(zhì)反射鏡“壓印效應(yīng)”誤差的步驟為步驟Sl 采用干涉儀(如Zygo干涉儀)檢測(cè)輕質(zhì)反射鏡，確定輕質(zhì)反射鏡“壓印效應(yīng)”誤差分布數(shù)據(jù)，把輕質(zhì)反射鏡對(duì)準(zhǔn)安裝在拋光機(jī)床上，根據(jù)輕質(zhì)反射鏡口徑大小、誤差分布間距和安裝位置，確定輕質(zhì)反射鏡在拋光機(jī)床坐標(biāo)系上的誤差分布的位置；步驟S2 從誤差分布的位置數(shù)據(jù)中，獲得射流拋光輕質(zhì)反射鏡材料的去除函數(shù)和去除函數(shù)數(shù)據(jù)；采用一塊與輕質(zhì)反射鏡相同材料的平面鏡，檢測(cè)和保存該平面鏡的初始面形數(shù)據(jù)，然后在射流拋光設(shè)備上對(duì)該平面鏡進(jìn)行定點(diǎn)材料去除，記錄材料去除的時(shí)間，然后把材料去除后的平面鏡進(jìn)行面形檢測(cè)，保存去除后的面形數(shù)據(jù)，把定點(diǎn)材料去除后的面形數(shù)據(jù)一一對(duì)應(yīng)地減去初始面形數(shù)據(jù)，然后除以材料去除的時(shí)間，即獲得材料去除區(qū)域單位時(shí)間內(nèi)的去除函數(shù)數(shù)據(jù)；步驟S3 根據(jù)干涉儀檢測(cè)的“壓印效應(yīng)”誤差分布數(shù)據(jù)和去除函數(shù)數(shù)據(jù)，計(jì)算射流拋光過(guò)程中的駐留時(shí)間分布；采用zernike多項(xiàng)式對(duì)誤差進(jìn)行擬合，依次提取輕質(zhì)反射鏡上的各個(gè)內(nèi)腔孔面區(qū)域上的“壓印效應(yīng)”誤差，擬合離散成與去除函數(shù)離散間距一致的“壓印效應(yīng)”誤差數(shù)據(jù)陣列，然后進(jìn)行駐留時(shí)間計(jì)算，獲得各個(gè)內(nèi)腔孔面區(qū)域上的駐留時(shí)間分布；由于輕質(zhì)反射鏡口徑較大，采用干涉儀檢測(cè)輕質(zhì)反射鏡“壓印效應(yīng)”誤差，受CCD 像素大小的限制，檢測(cè)結(jié)果的“壓印效應(yīng)”誤差點(diǎn)的坐標(biāo)位置間距會(huì)很大，甚至超過(guò)去除函數(shù)的口徑范圍，在計(jì)算駐留時(shí)間時(shí)會(huì)存在數(shù)據(jù)不匹配或去除函數(shù)離散范圍太大數(shù)據(jù)失真， 從而導(dǎo)致駐留時(shí)間計(jì)算不準(zhǔn)確。針對(duì)這個(gè)問(wèn)題本發(fā)明根據(jù)“壓印效應(yīng)”誤差分布數(shù)據(jù)采用 zernike多項(xiàng)式對(duì)壓印效應(yīng)誤差分布數(shù)據(jù)和去除函數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合，依次提取輕質(zhì)反射鏡上的各個(gè)內(nèi)腔孔面區(qū)域上的“壓印效應(yīng)”誤差，擬合離散成與去除函數(shù)離散間距一致的“壓印效應(yīng)”誤差數(shù)據(jù)陣列，然后射流拋光過(guò)程中的駐留時(shí)間進(jìn)行計(jì)算，獲得各個(gè)內(nèi)腔孔面區(qū)域上的駐留時(shí)間分布。步驟S4 根據(jù)輕質(zhì)反射鏡“壓印效應(yīng)”誤差分布位置的情況，根據(jù)輕質(zhì)反射鏡單元內(nèi)腔筋孔的形狀，采用軌跡規(guī)劃程序規(guī)劃射流拋光誤差修正過(guò)程中的運(yùn)動(dòng)軌跡；
射流拋光運(yùn)動(dòng)軌跡與輕質(zhì)反射鏡單元內(nèi)腔筋孔的形狀一致，即當(dāng)輕質(zhì)反射鏡的內(nèi)腔筋孔為三角形體、扇形體、蜂窩形體、圓形體或異性孔體等形狀時(shí)，在修正該內(nèi)腔筋孔對(duì)應(yīng)的“壓印效應(yīng)”誤差區(qū)域坐標(biāo)位置時(shí)，使射流拋光運(yùn)動(dòng)軌跡與輕質(zhì)反射鏡單元內(nèi)腔筋孔的形狀一致，即當(dāng)輕質(zhì)反射鏡的內(nèi)腔筋孔為三角形體、扇形體、蜂窩形體、圓形體或異性孔體的形狀時(shí)，在修正該內(nèi)腔筋孔對(duì)應(yīng)的壓印效應(yīng)誤差區(qū)域坐標(biāo)位置時(shí)，射流拋光運(yùn)動(dòng)誤差修正軌跡為相應(yīng)的三角形體、扇形體、蜂窩形體、圓形或異性孔體等形狀的環(huán)帶進(jìn)行逐一修正，直至不同口徑的三角形體、扇形體、蜂窩形體、圓形體或異性孔等形環(huán)帶遍歷該內(nèi)腔筋孔對(duì)應(yīng)的面形區(qū)域誤差坐標(biāo)位置，然后射流拋光頭快速運(yùn)動(dòng)到下一單元內(nèi)腔筋孔對(duì)應(yīng)存在 “壓印效應(yīng)”誤差的區(qū)域坐標(biāo)位置進(jìn)行修正拋光。步驟S5 基于駐留時(shí)間分布和射流拋光運(yùn)動(dòng)軌跡，生成相應(yīng)的拋光機(jī)床的數(shù)控代碼；步驟S6 開啟射流拋光系統(tǒng)和機(jī)床數(shù)控系統(tǒng)，射流拋光頭在數(shù)控機(jī)床數(shù)控代碼的控制下，沖擊射流對(duì)準(zhǔn)輕質(zhì)反射鏡上不同誤差位置坐標(biāo)點(diǎn)進(jìn)行材料去除加工，從而實(shí)現(xiàn)輕質(zhì)反射鏡各個(gè)內(nèi)腔孔面區(qū)域上的“壓印效應(yīng)”誤差修正。圖2是本發(fā)明采用磨盤拋光輕質(zhì)反射鏡的“壓印效應(yīng)”誤差分布有限元分析圖，當(dāng)磨盤施加的壓強(qiáng)為1.510 時(shí)，輕質(zhì)反射鏡的“壓印效應(yīng)”誤差PV值達(dá)到155nm，RMS值達(dá)到 87nm ；以上所述，僅為本發(fā)明中的具體實(shí)施方式
，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉該技術(shù)的人在本發(fā)明所揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可理解想到的變換或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的包含范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種對(duì)輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)誤差的修正方法，其特征在于，所述修正步驟如下 步驟Sl 使用干涉儀檢測(cè)輕質(zhì)反射鏡，確定輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)的誤差分布數(shù)據(jù)，把輕質(zhì)反射鏡對(duì)準(zhǔn)安裝在拋光機(jī)床上，根據(jù)輕質(zhì)反射鏡口徑大小、誤差分布間距和安裝位置， 對(duì)應(yīng)確定輕質(zhì)反射鏡在拋光機(jī)床坐標(biāo)系上的誤差分布的位置；步驟S2 從誤差分布的位置數(shù)據(jù)中，獲得射流拋光輕質(zhì)反射鏡材料的去除函數(shù)和去除函數(shù)數(shù)據(jù)；步驟S3 根據(jù)壓印效應(yīng)的誤差分布數(shù)據(jù)和去除函數(shù)數(shù)據(jù)，計(jì)算射流拋光過(guò)程中的駐留時(shí)間分布；步驟S4 根據(jù)輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)誤差分布位置的情況，根據(jù)輕質(zhì)反射鏡單元內(nèi)腔筋孔的形狀，采用軌跡規(guī)劃程序規(guī)劃射流拋光誤差修正過(guò)程中的射流拋光運(yùn)動(dòng)軌跡； 步驟S5 基于駐留時(shí)間分布和射流拋光運(yùn)動(dòng)軌跡，生成相應(yīng)的拋光機(jī)床數(shù)控代碼； 步驟S6 開啟射流拋光系統(tǒng)和機(jī)床數(shù)控系統(tǒng)，射流拋光頭在數(shù)控機(jī)床的控制下，沖擊射流對(duì)準(zhǔn)輕質(zhì)反射鏡上不同點(diǎn)進(jìn)行材料去除加工，從而實(shí)現(xiàn)輕質(zhì)反射鏡全口徑或局部的誤差修正。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)誤差的修正方法，其特征在于，采用 zernike多項(xiàng)式對(duì)壓印效應(yīng)誤差分布數(shù)據(jù)和去除函數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合，依次提取輕質(zhì)反射鏡上的各個(gè)內(nèi)腔孔面區(qū)域上的壓印效應(yīng)誤差，擬合離散成與去除函數(shù)離散間距一致的壓印效應(yīng)誤差數(shù)據(jù)陣列，然后對(duì)射流拋光過(guò)程中的駐留時(shí)間進(jìn)行計(jì)算，獲得各個(gè)內(nèi)腔孔面區(qū)域上的駐留時(shí)間分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)誤差的修正方法，其特征在于，在修正局部壓印效應(yīng)誤差時(shí)，使射流拋光運(yùn)動(dòng)軌跡與輕質(zhì)反射鏡單元內(nèi)腔筋孔的形狀一致，即當(dāng)輕質(zhì)反射鏡的內(nèi)腔筋孔為三角形體、扇形體、蜂窩形體、圓形體或異性孔體的形狀時(shí)，在修正該內(nèi)腔筋孔對(duì)應(yīng)的壓印效應(yīng)誤差區(qū)域坐標(biāo)位置時(shí)，射流拋光運(yùn)動(dòng)誤差修正軌跡為相應(yīng)的三角形體、扇形體、蜂窩形體、圓形體或異性孔體形狀的環(huán)帶進(jìn)行逐一修正，直至不同口徑的三角形體、扇形體、蜂窩形體、圓形體或異性孔體的形環(huán)帶遍歷該內(nèi)腔筋孔對(duì)應(yīng)的面形區(qū)域誤差坐標(biāo)位置，然后射流拋光頭運(yùn)動(dòng)到下一單元內(nèi)腔筋孔對(duì)應(yīng)存在壓印效應(yīng)誤差的區(qū)域坐標(biāo)位置進(jìn)行修正拋光。
全文摘要
本發(fā)明是一種對(duì)輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)誤差的修正方法，是確定輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)的誤差分布數(shù)據(jù)，把輕質(zhì)反射鏡對(duì)準(zhǔn)安裝在拋光機(jī)床上，確定輕質(zhì)反射鏡在拋光機(jī)床坐標(biāo)系上的誤差分布的位置；獲得射流拋光輕質(zhì)反射鏡材料的去除函數(shù)和去除函數(shù)數(shù)據(jù)；根據(jù)壓印效應(yīng)的誤差分布數(shù)據(jù)和去除函數(shù)數(shù)據(jù)，計(jì)算射流拋光過(guò)程中的駐留時(shí)間分布；根據(jù)輕質(zhì)反射鏡壓印效應(yīng)誤差位置的分布情況，規(guī)劃射流拋光誤差修正過(guò)程中的射流拋光運(yùn)動(dòng)軌跡；基于駐留時(shí)間分布和運(yùn)動(dòng)軌跡，生成相應(yīng)拋光機(jī)床的數(shù)控代碼；開啟射流拋光系統(tǒng)和機(jī)床數(shù)控系統(tǒng)，射流拋光頭在數(shù)控機(jī)床的控制下，沖擊射流對(duì)準(zhǔn)輕質(zhì)反射鏡上不同點(diǎn)進(jìn)行材料去除加工，從而實(shí)現(xiàn)輕質(zhì)反射鏡全口徑或局部的誤差修正。
文檔編號(hào)B24C1/08GK102501180SQ20111032985
公開日2012年6月20日 申請(qǐng)日期2011年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月26日
發(fā)明者萬(wàn)勇建, 伍凡, 張亮, 徐清蘭, 施春燕, 范斌 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所